JP5985943B2 - 液処理方法、液処理装置及び液処理用記録媒体 - Google Patents
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- 基板の表面上に処理液を供給する処理液供給工程と、
前記基板の表面上にリンス液を供給しながら、第1の回転数で前記基板を回転させることで、前記基板の表面上の前記処理液を洗い流すリンス工程と、
前記基板の表面上に、前記リンス液の蒸気を高濃度に含む高濃度ガス又は前記リンス液のミストを供給しながら、前記第1の回転数より小さい第2の回転数で前記基板を回転させることで、前記基板の表面上の前記リンス液を薄膜化させる薄膜化工程と、
前記基板の表面に光を照射することで、前記基板の表面上で薄膜化した前記リンス液を蒸発させ、前記基板の表面を乾燥させる乾燥工程と、を備える液処理方法。 - 前記乾燥工程では、前記基板を回転させずに、前記基板の表面に前記光を照射する請求項1記載の液処理方法。
- 前記乾燥工程では、前記第2の回転数より小さい第3の回転数で前記基板を回転させながら、前記基板の表面に前記光を照射する請求項1記載の液処理方法。
- 前記薄膜化工程の前に、前記第2の回転数より小さい第4の回転数で前記基板を回転させることで、前記基板の表面上に前記リンス液の液膜をパドル状に形成する液膜形成工程を更に備える請求項1〜3のいずれか一項記載の液処理方法。
- 前記薄膜化工程では、前記基板の表面のうち、少なくとも前記基板の外周に沿う部分に前記高濃度ガス又は前記ミストを供給する請求項1〜4のいずれか一項記載の液処理方法。
- 基板を保持する基板保持装置と、
前記基板保持装置に保持された前記基板に交差する軸線を中心に、前記基板保持装置を回転させる回転装置と、
処理液を供給する処理液供給装置と、
リンス液を供給するリンス液供給装置と、
前記リンス液の蒸気を高濃度に含む高濃度ガス又は前記リンス液のミストを供給するガス又はミスト供給装置と、
光を照射する光照射装置と、
前記基板保持装置に保持された前記基板の表面上に前記処理液を供給するように前記処理液供給装置を制御する処理液供給制御手段と、
前記基板保持装置に保持された前記基板の表面上に前記リンス液を供給するように前記リンス液供給装置を制御しながら、第1の回転数で前記基板保持装置を回転させるように前記回転装置を制御することで、前記基板の表面上の前記処理液を洗い流すリンス制御手段と、
前記基板保持装置に保持された前記基板の表面上に前記高濃度ガス又は前記ミストを供給するように前記ガス又はミスト供給装置を制御しながら、前記第1の回転数より小さい第2の回転数で前記基板を回転させるように前記回転装置を制御することで、前記基板の表面上の前記リンス液を薄膜化させる薄膜化制御手段と、
前記基板保持装置に保持された前記基板の表面に前記光を照射するように前記光照射装置を制御することで、前記基板の表面上で薄膜化した前記リンス液を蒸発させ、前記基板の表面を乾燥させる乾燥制御手段と、を備える液処理装置。 - 前記乾燥制御手段は、前記基板保持装置を回転させないように前記回転装置を制御しながら、前記基板保持装置に保持された前記基板の表面に前記光を照射するように前記光照射装置を制御する請求項6記載の液処理装置。
- 前記乾燥制御手段は、前記第2の回転数より小さい第3の回転数で前記基板保持装置を回転させるように前記回転装置を制御しながら、前記基板保持装置に保持された前記基板の表面に前記光を照射するように前記光照射装置を制御する請求項6記載の液処理装置。
- 前記薄膜化制御手段が前記リンス液を薄膜化させる前に、前記基板保持装置を前記第2の回転数より小さい第4の回転数で回転させるように前記回転装置を制御することで、前記基板の表面上に前記リンス液の液膜をパドル状に形成する液膜形成制御手段を更に備える請求項6〜8のいずれか一項記載の液処理装置。
- 前記ガス又はミスト供給装置は、前記高濃度ガス又は前記ミストを下方に吐出するノズルを有し、
前記薄膜化制御手段は、前記基板保持装置に保持された前記基板の表面のうち、少なくとも前記基板の外周に沿う部分の上方に前記ノズルが位置する状態で、前記高濃度ガス又は前記ミストを供給するように前記ガス又はミスト供給装置を制御する請求項6〜9のいずれか一項記載の液処理装置。 - 液処理装置に用いられ、コンピュータに制御プログラムを実行させるソフトウェアが記録されたコンピュータ読み取り可能な記録媒体であって、
前記制御プログラムは、請求項1〜5のいずれか一項記載の液処理方法を実行するように工程が組まれている液処理用記録媒体。
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JP2012208635A JP5985943B2 (ja) | 2012-09-21 | 2012-09-21 | 液処理方法、液処理装置及び液処理用記録媒体 |
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JP2012208635A JP5985943B2 (ja) | 2012-09-21 | 2012-09-21 | 液処理方法、液処理装置及び液処理用記録媒体 |
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JP2014063910A JP2014063910A (ja) | 2014-04-10 |
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