JP5985843B2 - 光半導体装置 - Google Patents

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Description

本発明は、光半導体装置に関する。
図11は、従来の光半導体装置の一例を示している(たとえば、特許文献1参照)。同図に示された光半導体装置900は、基板901に搭載されたLEDチップ902およびセンサIC903を備えており、いわゆる近接センサとして構成されている。LEDチップ902とセンサIC903とは、ワイヤ904を介して基板901の配線パターン(図示略)に導通している。LEDチップ902とセンサIC903とは、透光樹脂905,906によって覆われている。透光樹脂905,906は、光を通過させる部位を除いて、遮光樹脂907によって覆われている。透光樹脂905,906および遮光樹脂907は、一般的に金型成型によって形成される。
透光樹脂905,906は、ワイヤ904を十分に収容可能なサイズおよび形状とする必要がある。特に、透光樹脂905,906を金型成型によって形成する場合、材料となる樹脂が隅々に行き渡るのに足りる空間を確保することが求められる。また、遮光樹脂907を金型成型する際にも、材料となる樹脂が隅々に行き渡るのに足りる空間を確保することが求められる。このため、光半導体装置900は、平面視においてワイヤ904が占める領域よりもかなり大きな外形となり、小型化を図ることが困難であった。
特開2010−34189号公報
本発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、小型化を図ることが可能な光半導体装置を提供することをその課題とする。
本発明によって提供される光半導体装置は、主面およびこの主面から凹むとともに受光側主底面を有する受光側凹部が形成された基板と、上記受光側主底面に配置され、受光部を有する受光手段と、上記基板に形成されており、上記受光手段と導通する導電体層と、
備えることを特徴としている。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記基板は、上記主面から凹むとともに上記受光側凹部に繋がり、受光側中間底面を有する1以上の受光側張り出し凹部を有する。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記導電体層は、上記受光側中間底面に形成された1以上の受光側中間電極を有しており、上記受光手段は、1以上の受光側パッドを有しており、上記受光側中間電極と上記受光側パッドとに接続された1以上の受光側ワイヤを備える。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記受光側中間底面は、上記基板の厚さ方向において上記受光側主底面よりも上記主面側に位置する。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記受光側中間底面は、上記基板の厚さ方向において上記受光手段の上記受光側パッドよりも上記主面側に位置する。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記受光側凹部は、上記主面から上記受光側底面に繋がる受光側内側面を有している。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記受光側内側面の少なくとも一部は、上記基板の厚さ方向に沿っている。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記受光側内側面は、すべてが上記基板の厚さ方向に沿っている。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記受光側張り出し凹部は、上記主面から上記受光側中間底面に繋がる受光側中間内側面を有している。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記受光側中間内側面の少なくとも一部は、上記基板の厚さ方向に沿っている。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記受光側中間内側面は、すべてが上記基板の厚さ方向に沿っている。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記基板は、上記主面とは反対側を向く裏面、および上記主面と上記裏面とに繋がる外側面を有しており、上記導電体層は、上記裏面に形成された1以上の裏面電極を有する。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記1以上の裏面電極は、上記1以上の受光側中間電極と導通している。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記導電体層は、上記外側面に形成され、上記1以上の裏面電極と上記1以上の受光側中間電極との導通経路の少なくとも一部を構成する1以上の外側面経路を有する。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記導電体層は、上記裏面に形成され、上記1以上の裏面電極と上記1以上の受光側中間電極との導通経路の少なくとも一部を構成する1以上の裏面経路を有する。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記導電体層は、上記主面に形成され、上記1以上の裏面電極と上記1以上の受光側中間電極との導通経路の少なくとも一部を構成する1以上の主面経路を有する。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記導電体層は、上記受光側中間内側面または上記受光側内側面に形成され、上記1以上の裏面電極と上記1以上の受光側中間電極との導通経路の少なくとも一部を構成する1以上の受光側内側面経路を有する。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記導電体層は、上記受光側主底面に形成され、上記1以上の裏面電極と上記1以上の受光側中間電極との導通経路の少なくとも一部を構成する1以上の受光側主底面経路を有する。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記基板は、上記主面から凹むとともに発光側主底面を有する発光側凹部を有しており、上記発光側主底面に配置された発光手段を備える。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記基板は、上記主面から凹むとともに上記発光側凹部に繋がり、発光側中間底面を有する1以上の発光側張り出し凹部を有する。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記導電体層は、上記発光側中間底面に形成された発光側中間電極を有しており、上記発光手段は、発光側パッドを有しており、上記発光側中間電極と上記発光側パッドとに接続された発光側ワイヤを備える。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記発光側主底面は、上記基板の厚さ方向において上記受光側主底面よりも上記主面側に位置する。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記発光側中間底面は、上記基板の厚さ方向において上記発光側主底面よりも上記主面側に位置する。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記発光側中間底面は、上記基板の厚さ方向において上記発光手段の上記発光側パッドよりも上記主面側に位置する。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記発光側張り出し凹部は、上記主面から上記発光側中間底面に繋がる発光側中間内側面を有している。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記発光側中間内側面の少なくとも一部は、上記基板の厚さ方向に沿っている。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記発光側中間内側面は、すべてが上記基板の厚さ方向に沿っている。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記発光側凹部は、上記発光側主底面と上記主面とに繋がり、上記基板の厚さ方向に対して傾斜した傾斜内側面を有する。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記発光側凹部は、上記発光側主底面と上記主面とに繋がり、上記傾斜内側面よりも上記受光手段側に位置し、上記基板の厚さ方向に沿った起立内側面を有する。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記導電体層は、上記発光側主底面に形成された発光側主底面電極を有しており、上記発光手段は、上記発光側主底面電極と導通している。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記導電体層は、上記傾斜内側面に形成された傾斜反射部を有する。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記傾斜反射部は、上記傾斜内側面のうち上記発光側張り出し凹部を囲む部分を露出させている。
本発明の好ましい実施の形態においては、上記導電体層は、上記起立内側面に形成された起立反射部を有する。
このような構成によれば、上記受光手段を覆う透光樹脂やさらにこの透光樹脂を覆う遮光樹脂を形成するために、上記受光手段を金型のキャビティ内に収容した状態で金型成型を行う必要がない。このため、金型と上記受光手段との干渉を回避することや樹脂材料を十分に行き渡らせることなどを目的として、余分なスペースを確保することが強いられない。したがって、上記光半導体装置の小型化を図ることができる。
本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。
本発明の第1実施形態に基づく光半導体装置を示す平面図である。 図1のII−II線に沿う要部断面図である。 図1の光半導体装置を示す要部斜視図である。 図1の光半導体装置を示す要部斜視図である。 図1の光半導体装置を示す要部斜視図である。 図1の光半導体装置を示す要部斜視図である。 図1の光半導体装置を示す斜視図である。 図1の光半導体装置を示す斜視図である。 本発明の第2実施形態に基づく光半導体装置を示す平面図である。 図9のX−X線に沿う要部断面図である。 従来の光半導体装置の一例を示す断面図である。
以下、本発明の好ましい実施の形態につき、図面を参照して具体的に説明する。
図1〜図9は、本発明の第1実施形態に基づく光半導体装置を示している。本実施形態の光半導体装置101は、基板200、導電体層300、LEDチップ400、受光センサIC500および透明樹脂710,720を備えている。光半導体装置101は、発光および受光によって対象物の有無を検出する近接センサとして構成されている。光半導体装置101のサイズは、たとえば幅が2.0〜2.4mm、長さが3.4〜4.0mm、高さが1.4mm程度である。なお、理解の便宜上、図1および図3〜図6においては、透明樹脂710,720を省略している。
基板200は、直方体形状であり、たとえば、絶縁性のメッキ付着性樹脂よりなる。メッキ付着性樹脂は、メッキが付着しうる性質を有する樹脂である。メッキ付着性樹脂としては液晶ポリマーが挙げられる。基板200の材質は、LEDチップ400からの光を透過させない、不透明色のものが選択され、たとえば白色である。基板200は、主面201、裏面202および外側面203を有する。主面201および裏面202は、z方向において互いに反対側を向く面である。外側面203は、主面201および裏面202に繋がっており、z方向に沿っている。基板200には、受光側凹部210、複数の受光側張り出し凹部221〜226、発光側凹部250および発光側張り出し凹部261が形成されている。基板200のうち受光側凹部210と発光側凹部250とに挟まれた部位は、壁部270となっている。
受光側凹部210は、主面201から凹んでおり、本実施形態においては、略直方体形状である。受光側凹部210の深さは、たとえば1.0mm程度である。受光側凹部210は、主底面211および内側面212を有している。主底面211は、本実施形態においては、矩形状である。内側面212は、主底面211と主面201に繋がっており、本実施形態においてはz方向に沿っている。
複数の受光側張り出し凹部221〜226は、いずれも主面201から凹んでおり、受光側凹部210につながっており、略矩形状とされている。本実施形態においては、受光側凹部210を挟んで受光側張り出し凹部221〜224と受光側張り出し凹部225,226とがy方向において反対側に配置されている。受光側張り出し凹部221〜226の深さは、たとえば1.0mm程度である。受光側張り出し凹部221〜226は、中間底面231〜236と中間内側面241〜246を有している。中間底面231〜236は、たとえば矩形状である。中間内側面241〜246は、本実施形態においては、いずれもz方向に沿っている。
発光側凹部250は、主面201から凹んでおり、受光側凹部210に対してx方向に離間した位置に設けられている。発光側凹部250の深さは、たとえば0.7mm程度であり、本実施形態においては、受光側凹部210よりも浅く、受光側張り出し凹部221〜226よりも深い。発光側凹部250は、主底面251、起立内側面252および傾斜内側面253を有している。主底面251は、発光側凹部250の最深部に位置し、たとえば円形状である。起立内側面252は、主底面251から壁部270に沿って主面201に繋がっており、z方向に沿っている。傾斜内側面253は、主底面251から主面201に繋がっており、本実施形態においては、平面視形状が部分円環形状である。傾斜内側面253は、z方向において主底面251から離間するほどその断面形状が大となるようにz方向に対して傾斜している。
発光側張り出し凹部261は、主面201から凹んでおり、本実施形態においては、発光側凹部250に対してy方向一方側から繋がっている。これにより、傾斜内側面253は、その一部が切り欠かれたような形状となっている。発光側張り出し凹部261は、平面視略矩形状である。発光側張り出し凹部261の深さは、たとえば0.4mm程度であり、本実施形態においては、複数の受光側張り出し凹部221〜226よりも浅い。発光側張り出し凹部261は、中間底面262および中間内側面263を有する。中間底面262は、発光側張り出し凹部261の最深部に位置する。中間内側面263は、中間底面262から主面201につながっており、本実施形態においては、z方向に沿っている。
導電体層300は、基板200の表面に形成されており、たとえばCu層、Ni層およびAu層が積層された層である。導電体層300を形成するには、たとえば、まず基板200の全面にCuをスパッタリングすることによりCu層を形成する。次いで、このCu層上にたとえばメッキによってNi層およびAu層を形成する。そして、これらのCu層、Ni層およびAu層に対してレーザパターニング法を施すことにより導電体層300が形成される。導電体層300は、中間電極311〜316、主面経路321〜328、主底面経路331〜333、内側面経路341〜349、外側面経路351〜358、主底面電極361、中間電極362、傾斜反射部363、内側面経路364、起立反射部365、裏面経路371〜378および裏面電極381〜388を有する。
中間電極311〜316は、それぞれ受光側張り出し凹部221〜226の中間底面231〜236に形成されており、本実施形態においては、中間底面231〜236のすべてを覆っている。主面経路321〜328は、主面201に形成された帯状の部位であり、本実施形態においては、主面経路321〜323,327と主面経路324〜326,328とが受光側凹部210を挟んでy方向において互いに反対側に配置されている。
主底面経路331〜333は、受光側凹部210の主底面211に形成れており、直線帯状あるいはクランク帯状とされている。内側面経路341〜349は、受光側凹部210の内側面212または中間内側面242,245,246に形成されており、z方向に延びる帯状である。外側面経路351〜358は、外側面203に形成されており、z方向に延びる帯状である。裏面経路371〜378は、裏面202に形成されており、直線帯状またはクランク帯状とされている。裏面電極381〜388は、裏面202に形成されている。裏面電極381〜388は、各々がたとえば矩形状とされており、本実施形態においては、x方向に沿って2列に配置されている。
主底面電極361は、発光側凹部250の主底面251に形成されており、本実施形態においては、主底面251のすべてを覆っている。中間電極362は、発光側張り出し凹部261の中間底面262に形成されており、本実施形態においては、中間底面262のすべてを覆っている。
傾斜反射部363は、発光側凹部250の傾斜内側面253に形成されている。本実施形態においては、傾斜反射部363は、傾斜内側面253のうち発光側張り出し凹部261を囲む部分を露出させている。起立反射部365は、発光側凹部250の起立内側面252に形成されており、本実施形態においては、起立内側面252のすべてを覆っている。内側面経路364は、発光側張り出し凹部261の中間内側面263に形成されており、z方向に延びる帯状である。
以上の構成とされた導電体層300は、次のような複数の導通経路を有している。中間電極311は、内側面経路342、主底面経路332、内側面経路344、主面経路323、外側面経路353および裏面経路373を経て、裏面電極383と導通している。中間電極312は、内側面経路343、主面経路322、外側面経路352および裏面経路372を経て、裏面電極382と導通している。中間電極313は、内側面経路345、主底面経路331、内側面経路341、主面経路321、外側面経路351および裏面経路371を経て、裏面電極381と導通している。中間電極314は、内側面電極346、主底面経路333、内側面経路348、主面経路325、外側面経路355および裏面経路375を経て、裏面電極385と導通している。
中間電極315は、内側面経路347、主面経路324、外側面経路354および裏面経路374を経て、裏面電極384と導通している。中間電極316は、内側面経路349、主面経路326、外側面経路356および裏面経路376を経て、裏面電極386と導通している。
中間電極362は、内側面経路364、主面経路327、外側面経路357および裏面経路377を経て、裏面電極387と導通している。主底面電極361は、傾斜反射部363、起立反射部365、主面経路328、外側面経路358および裏面経路378を経て、裏面電極388と導通している。
LEDチップ400は、本発明で言う発光手段の一例であり、たとえば、赤外光を発する。LEDチップ400は、発光側凹部250に収容されており、より詳しくは、主底面251に形成された主底面電極361に導電性接合剤によって接合されている。LEDチップ400の底面には、図示しないパッドが形成されており、このパッドが主底面電極361と導通している。LEDチップ400は、パッド410を有している。パッド410は、ワイヤ620によって中間電極362と導通している。本実施形態においては、LEDチップ400のパッド410は、z方向において発光側張り出し凹部261の中間底面262(中間電極362)よりも深い位置にある。
受光センサIC500は、本発明で言う受光手段の一例であり、受光部510および複数のパッド520を有している。受光センサIC500は、受光側凹部210に収容されており、より具体的には、たとえば絶縁性接合剤によって主底面211に接合されている。受光部510は、たとえばLEDチップ400から出射された後に、検出対象物によって反射された赤外光を受ける部位である。本実施形態においては、受光部510は、x方向においてLEDチップ400寄り(壁部270寄り)に配置されている。複数のパッド520は、受光センサIC500の上面に形成されており、複数のワイヤ610によって中間電極311〜316に各別に接続されている。本実施形態においては、受光センサIC500の複数のパッド520は、z方向において受光側張り出し凹部221〜226の中間底面231〜236(中間電極311〜316)よりも深い位置にある。
透明樹脂710は、受光側凹部210および受光側張り出し凹部221〜226に充填されている。透明樹脂720は、発光側凹部250および発光側張り出し凹部261に充填されている。透明樹脂710,720は、たとえば透明なエポキシ樹脂またはシリコーン樹脂などの熱硬化樹脂からなる。透明樹脂710,720の材質としては、LEDチップ400からの光を不当に減衰させることなく透過させる材質が選択される。透明樹脂710,720は、たとえば液状の樹脂材料を受光側凹部210および受光側張り出し凹部221〜226と発光側凹部250および発光側張り出し凹部261に充填した後に、これをたとえば100〜150℃の温度で硬化させることによって形成される。このような形成過程を経た場合、透明樹脂710,720の表面は、表面張力の作用により基板200の主面201よりも若干中央が凹んだ形状となる。
次に、光半導体装置101の作用について説明する。
本実施形態によれば、受光センサIC500を覆う透光樹脂やさらにこの透光樹脂を覆う遮光樹脂を形成するために、受光センサIC500を金型のキャビティ内に収容した状態で金型成型を行う必要がない。このため、金型と受光センサIC500との干渉を回避することや樹脂材料を十分に行き渡らせることなどを目的として、余分なスペースを確保することが強いられない。したがって、光半導体装置101の小型化を図ることができる。
受光センサIC500と導電体層300とを導通させるワイヤ610は、受光側張り出し凹部221〜226に形成された中間電極311〜316にボンディングされている。中間電極311〜316は、受光センサIC500が配置された受光側凹部210の主底面211よりも高い位置にある。これにより、ワイヤ610の長さを縮小することが可能であり、光半導体装置101の小型化に有利である。中間電極311〜316が、受光センサIC500のパッド520よりも高い位置にあることは、ワイヤ610の長さを短縮し、光半導体装置101をより小型化するのに好ましい。
受光側凹部210の内側面212および受光側張り出し凹部221〜226の中間内側面241〜246は、いずれもz方向に沿っている。このため、平面視(z方向視)においては、これらの内側面212および中間内側面241〜246が占める領域はほとんど存在しない。これは、光半導体装置101の小型化をさらに促進するのに適している。
内側面経路341〜349や主面経路321〜328を用いて中間電極311〜316に繋がる導通経路を構成することにより、これらの経路が平面視において過大なスペースを占有してしまうことを回避することができる。これは、光半導体装置101の小型化に好ましい。また、外側面経路351〜358を備えることによっても、中間電極311〜316から延びる導通経路が平面視において過大なスペースを占有してしまうことを回避することができる。
受光センサIC500の受光部510をLEDチップ400寄り(壁部270寄り)に配置することにより、LEDチップ400側の斜め上方から向かってきた意図しない外光などを壁部270によって遮蔽することができる。これにより、LEDチップ400から発せられた後に検出対象物によって反射された光などの意図した光を選択的に受光することができる。
LEDチップ400を導電体層300に導通させるワイヤ620は、発光側張り出し凹部261に形成された中間電極362にボンディングされている。中間電極362は、LEDチップ400が配置された発光側凹部250の主底面251よりも高い位置にある。これにより、ワイヤ620の長さを縮小することが可能であり、光半導体装置101の小型化に有利である。中間電極362が、LEDチップ400のパッド410よりも高い位置にあることは、ワイヤ620の長さを短縮し、光半導体装置101をより小型化するのに好ましい。
発光側凹部250に傾斜内側面253を設けることにより、LEDチップ400から側方に発せられた光をz方向へと向かわせることができる。これは、光半導体装置101からの赤外光の高出力化に寄与する。傾斜内側面253を金属からなる傾斜反射部363によって覆うことにより、反射効率を高めることができる。また、発光側張り出し凹部261の中間底面262を、受光側張り出し凹部221〜226の中間底面231〜236よりもあえて高い位置に設けることにより、発光側張り出し凹部261による傾斜内側面253の面積減少を抑制することができる。これにより、傾斜内側面253に形成される傾斜反射部363の面積をより大きくすることが可能であり、LEDチップ400からの光をより多くz方向に向かわせることができる。
発光側凹部250のうち受光側凹部210寄りにある部位に起立内側面252を設けることにより、LEDチップ400が受光センサIC500から不当に離れてしまうことを抑制することができる。これは、光半導体装置101の小型化に好ましい。
図9および図10は、本発明の他の実施形態を示している。なお、これらの図において、上記実施形態と同一または類似の要素には、上記実施形態と同一の符号を付している。また、理解の便宜上、図9においては透明樹脂710,720を省略している。
本実施形態の光半導体装置102は、基板200に反射阻害部275が形成されている点が上述した実施形態と異なる。反射阻害部275は、主面201のうち壁部270の上面にあたる部分に設けられている。反射阻害部275は、向かってきた光が高い反射率で反射されることを阻害する部位であり、向かってきた光を散乱させる、あるいは向かってきた光を吸収しうる構成とされている。本実施形態においては、反射阻害部275は凹凸形状の面によって構成されている。より具体的には、反射阻害部275は、各々がy方向に延びる断面三角形状の複数の溝によって構成されている。
このような構成によれば、LEDチップ400からの赤外光あるいは外部からの外光が主面201のうち壁部270の上面にあたる部位に反射された後に、検出対象物以外の物体に反射されることにより、受光センサIC500に受光されることを回避することができる。検出対象物以外の物体としては、光半導体装置102が搭載される電子機器に備えられた、光半導体装置102の正面に位置する透過カバーが挙げられる。このような意図しない反射光の受光を抑制することにより、光半導体装置102の誤検出を減少させることができる。
本発明に係る光半導体装置は、上述した実施形態に限定されるものではない。本発明に係る光半導体装置の各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。
本発明でいう受光手段は、受光センサIC500のほかに、たとえばフォトダイオードなどを用いてもよい。本発明でいう発光手段は、LEDチップ400のようにいわゆる1ワイヤタイプのLEDチップのほかに、2ワイヤタイプあるいはフリップチップタイプのLEDチップであってもよい。また、発光手段は、赤外光以外のあらゆる波長の光から選択された波長の光を発するものを採用できる。本発明でいう光半導体装置としては、発光手段および受光手段を備える近接センサとして構成されたものに限定されず、たとえば受光手段のみを備えた受光センサとして構成されてもよい。
101,102 光半導体装置
200 基板
201 主面
202 裏面
203 外側面
210 受光側凹部
211 (受光側)主底面
212 (受光側)内側面
221〜226 受光側張り出し凹部
231〜236 (受光側)中間底面
241〜246 (受光側)中間内側面
250 発光側凹部
251 (発光側)主底面
252 起立内側面
253 傾斜内側面
261 発光側張り出し凹部
262 中間底面
263 (発光側)中間内側面
270 壁部
275 反射阻害部
300 導電体層
311〜316 (受光側)中間電極
321〜328 主面経路
331〜333 (受光側)主底面経路
341〜349 (受光側)内側面経路
351〜358 外側面経路
361 (発光側)主底面電極
362 (発光側)中間電極
363 傾斜反射部
364 (発光側)内側面経路
365 起立反射部
371〜378 裏面経路
381〜388 裏面電極
400 LEDチップ(発光手段)
410 パッド
500 受光センサIC(受光手段)
510 受光部
520 パッド
610 (受光側)ワイヤ
620 (発光側)ワイヤ
710,720 透明樹脂

Claims (31)

  1. 主面およびこの主面から凹むとともに受光側主底面を有する受光側凹部が形成された基板と、
    上記受光側主底面に配置され、受光部を有する受光手段と、
    上記基板に形成されており、上記受光手段と導通する導電体層と、
    備えており、
    上記基板は、上記主面から凹むとともに発光側主底面を有する発光側凹部を有しており、
    上記発光側主底面に配置された発光手段を備え、
    上記発光側凹部は、上記発光側主底面と上記主面とに繋がる傾斜内側面と、上記発光側主底面と上記主面とに繋がり且つ上記傾斜内側面よりも上記受光手段側に位置する起立内側面と、を有し、
    上記傾斜内側面が上記基板の厚さ方向となす角度は、上記起立内側面が上記基板の厚さ方向となす角度よりも大であることを特徴とする、光半導体装置。
  2. 上記起立内側面は、上記基板の厚さ方向に沿っている、請求項1に記載の光半導体装置。
  3. 上記基板は、上記主面から凹むとともに上記受光側凹部に繋がり、受光側中間底面を有する1以上の受光側張り出し凹部を有する、請求項1または2に記載の光半導体装置。
  4. 上記導電体層は、上記受光側中間底面に形成された1以上の受光側中間電極を有しており、
    上記受光手段は、1以上の受光側パッドを有しており、
    上記受光側中間電極と上記受光側パッドとに接続された1以上の受光側ワイヤを備える、請求項に記載の光半導体装置。
  5. 上記受光側中間底面は、上記基板の厚さ方向において上記受光側主底面よりも上記主面側に位置する、請求項に記載の光半導体装置。
  6. 上記受光側中間底面は、上記基板の厚さ方向において上記受光手段の上記受光側パッドよりも上記主面側に位置する、請求項に記載の光半導体装置。
  7. 上記受光側凹部は、上記主面から上記受光側底面に繋がる受光側内側面を有している、請求項ないしのいずれかに記載の光半導体装置。
  8. 上記受光側内側面の少なくとも一部は、上記基板の厚さ方向に沿っている、請求項に記載の光半導体装置。
  9. 上記受光側内側面は、すべてが上記基板の厚さ方向に沿っている、請求項に記載の光半導体装置。
  10. 上記受光側張り出し凹部は、上記主面から上記受光側中間底面に繋がる受光側中間内側面を有している、請求項ないしのいずれかに記載の光半導体装置。
  11. 上記受光側中間内側面の少なくとも一部は、上記基板の厚さ方向に沿っている、請求項10に記載の光半導体装置。
  12. 上記受光側中間内側面は、すべてが上記基板の厚さ方向に沿っている、請求項11に記載の光半導体装置。
  13. 上記基板は、上記主面とは反対側を向く裏面、および上記主面と上記裏面とに繋がる外側面を有しており、
    上記導電体層は、上記裏面に形成された1以上の裏面電極を有する、請求項10ないし12のいずれかに記載の光半導体装置。
  14. 上記1以上の裏面電極は、上記1以上の受光側中間電極と導通している、請求項13に記載の光半導体装置。
  15. 上記導電体層は、上記外側面に形成され、上記1以上の裏面電極と上記1以上の受光側中間電極との導通経路の少なくとも一部を構成する1以上の外側面経路を有する、請求項14に記載の光半導体装置。
  16. 上記導電体層は、上記裏面に形成され、上記1以上の裏面電極と上記1以上の受光側中間電極との導通経路の少なくとも一部を構成する1以上の裏面経路を有する、請求項14または15に記載の光半導体装置。
  17. 上記導電体層は、上記主面に形成され、上記1以上の裏面電極と上記1以上の受光側中間電極との導通経路の少なくとも一部を構成する1以上の主面経路を有する、請求項14ないし16のいずれかに記載の光半導体装置。
  18. 上記導電体層は、上記受光側中間内側面または上記受光側内側面に形成され、上記1以上の裏面電極と上記1以上の受光側中間電極との導通経路の少なくとも一部を構成する1以上の受光側内側面経路を有する、請求項14ないし16のいずれかに記載の光半導体装置。
  19. 上記導電体層は、上記受光側主底面に形成され、上記1以上の裏面電極と上記1以上の受光側中間電極との導通経路の少なくとも一部を構成する1以上の受光側主底面経路を有する、請求項14ないし18のいずれかに記載の光半導体装置。
  20. 上記基板は、上記主面から凹むとともに上記発光側凹部に繋がり、発光側中間底面を有する1以上の発光側張り出し凹部を有する、請求項1ないし19のいずれかに記載の光半導体装置。
  21. 上記導電体層は、上記発光側中間底面に形成された発光側中間電極を有しており、
    上記発光手段は、発光側パッドを有しており、
    上記発光側中間電極と上記発光側パッドとに接続された発光側ワイヤを備える、請求項20に記載の光半導体装置。
  22. 上記発光側主底面は、上記基板の厚さ方向において上記受光側主底面よりも上記主面側に位置する、請求項21に記載の光半導体装置。
  23. 上記発光側中間底面は、上記基板の厚さ方向において上記発光側主底面よりも上記主面側に位置する、請求項21または22に記載の光半導体装置。
  24. 上記発光側中間底面は、上記基板の厚さ方向において上記発光手段の上記発光側パッドよりも上記主面側に位置する、請求項23に記載の光半導体装置。
  25. 上記発光側張り出し凹部は、上記主面から上記発光側中間底面に繋がる発光側中間内側面を有している、請求項21ないし24のいずれかに記載の光半導体装置。
  26. 上記発光側中間内側面の少なくとも一部は、上記基板の厚さ方向に沿っている、請求項25に記載の光半導体装置。
  27. 上記発光側中間内側面は、すべてが上記基板の厚さ方向に沿っている、請求項26に記載の光半導体装置。
  28. 上記導電体層は、上記発光側主底面に形成された発光側主底面電極を有しており、
    上記発光手段は、上記発光側主底面電極と導通している、請求項25ないし27のいずれかに記載の光半導体装置。
  29. 上記導電体層は、上記傾斜内側面に形成された傾斜反射部を有する、請求項28に記載の光半導体装置。
  30. 上記傾斜反射部は、上記傾斜内側面のうち上記発光側張り出し凹部を囲む部分を露出させている、請求項29に記載の光半導体装置。
  31. 上記導電体層は、上記起立内側面に形成された起立反射部を有する、請求項1ないし30のいずれかに記載の光半導体装置。
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