JP5984998B2 - 培養基材 - Google Patents
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Description
また、播種された細胞が非接着領域に落ち込んだ場合、培養時の培地交換の際に培地と共に破棄され失われることが必至であり、効率的な培養方法とは言い難い。さらに接着領域に落ち込んだ細胞が回転培養により強制的に組織を形成させられるため、細胞に対するストレスがかかり活性の低下を招くことが懸念されている。
当該培養シートは細胞に悪影響の無い材質で形成され、本例では、ポリスチレンとしている。ただし、材質はポリスチレンに限らないことは云うまでもない。
孔104の底面に保持されている複数の突起物102は、複数の微小突起物103(以下、突起、ピラー、ナノピラーともいう)からなる。また、この孔104の直径をホール径105とする。当該培養シート100において、上記の仕切壁たるホール104と、当該ホール104の内部に形成されている複数の突起102とは同一材料で一体的に形成されている。なお、このホール102は、丸型形状に限定されるものでなく、四角形状等他の形状であっても良い。
さらに個々の仕切内において細胞が成長するため、均一な大きさの細胞を形成させることが可能となる。
例えばこれらを接着接合した場合には、培養領域の内部に接着剤成分が混入し、生成細胞に悪影響を及ぼす可能性がある。
また溶着接合では、ホール104の内径が細胞形成レベルの極微小領域径のため、目的とする細胞領域を形成しつつ、仕切、突起に損傷を与えずに溶着することはかなり困難である。当該仕切や突起に損傷、変形があると、細胞形成過程において細胞に不要なストレスを与えたり、細胞自身の運動に障害となる可能性がある。
直径200μm、深さ70μmの円形の孔が正方配置され、その底面に直径2.0μm、深さ1.0μmの微細孔が4.0μmピッチで形成された金型を、400μmの厚さのポリスチレンフィルムに135℃、圧力2MPaでプレスした。室温に冷却後にプレス装置より取り出し、金型をポリスチレンフィルムから剥離することにより、ホール径が200μmのホールを複数保持し、その底面に複数の突起を有した培養シートが作製できる。
図13(a)は本実施例における培養基材の外観斜視図、上面図、上下側面図である。左右側面図は斜視図よりその形態が明らかであるため図示を省略する。
図13(b)は部分拡大図であり、A−A,B−B部分拡大図と、C−C,D−D部分拡大図を示すものである。
図13(c)は部分拡大図、及び端面図であり、E−E,F−F部分拡大図、G−G線端面図を示すものである。
続いてこの枠体と培養シート100を超音波溶着により接着する。
例えば接着で接合した場合には、培養領域の内部に接着剤成分が混入し、生成細胞に悪影響を及ぼす可能性がある。
当該仕切や突起に損傷、変形があると、細胞形成過程において細胞に不要なストレスを与えたり、細胞自身の運動に障害となる可能性がある。
図14(a)は本実施例における培養基材の外観斜視図、底面図を示すものである。
図14(b)は培養基材の上面図、上下側面図を示すものである。ここで、左右側面図は外観斜視図よりその形態が明らかであるため、図示省略する。
図14(c)は部分拡大図、部分断面図であり、A−A,B−B部分拡大図と、C−C,D−D部分拡大図と、H−H断面図を示すものである。
図14(d)は部分拡大図、及び端面図であり、E−E,F−F部分拡大図、G−G線端面図を示すものである。
当該接合部1112は穴部111aの外部に設けられており、培養領域にはその溶着の影響がない。
したがって、本例では溶着を例示したが、当該接合方法に限らず、他の接合方法によっても培養領域自体に接合による影響を及ぼすことはないため、他の接合方法を採用することも可能である。
このカット面は必須ではなく、無くても良いことは云うまでもない。当該培養基材にはまた、滑止め1111が形成されており、作業中、作業者が不意に当該基材を揺動、落下等を防ぐことが出来る。
懸濁し、同じく上述の通り準備したI型コラーゲンを塗布したNPシートに播種する(同図(d))。培地は特に限定されるものではないが、血清(FCS)、インシュリン、デキザメタゾンを含んだ培地(以下、培地(10%FCS含む))を含むウィリアムズE培地を用いる。本実施例では、特に10%FCS、8.6nMインシュリン、255nMデキザメタゾンを含んだウィリアムズE培地を用いる。播種後、CO2インキュベータを用いて5%CO2、37℃の条件下で培養を開始し、18時間以上経過した後に、最初の培地交換を行い、以降24時間毎に培地交換を行う。播種後18時間目以降の培養に用いる培地は特に限定されるものではないが、本実施例では、培地(10%FCS含む)からFCSを除いた培地(以下、培地(FCS含まず))を用いる。
101,124…ホール
102…突起物集合体
103…突起物
104…仕切り
105…ホール径
106…ピラー径
107…ピラーピッチ
108…ピラー高さ
109…チャンバースライド
110…手術用接着剤
111…枠体
111a…枠体に形成された穴部
112…フィルム固定用突起
113…リブ構造
114…培養シート穴
115…細胞培養プレート
116…I型コラーゲン溶液
117…減圧用容器
118…減圧用ポンプ
119…洗浄用生理食塩水(PBS(−))
120…培地
121…肝細胞
122…肝細胞スフェロイド
125a,125b,127a,127b,129a,129b,129c…突起物配列パターン
1111…滑止め部
1112…接合部
1113…カット面。
Claims (7)
- 細胞が培養される培養面と、
前記培養面を複数の培養領域に仕切る仕切りと、
前記複数の培養領域の夫々に形成された、径が0.18μm〜20μmの複数の突起と、
を有し、
前記複数の突起の少なくとも一部は、前記仕切り側に形成された前記突起の高さよりも、前記培養領域の中央側に形成された前記突起の高さの方が低くなるように形成される、
ことを特徴とする培養基材。 - 細胞が培養される培養面と、
前記培養面を複数の培養領域に仕切る仕切りと、
前記複数の培養領域の夫々に形成された、径が0.18μm〜20μmの複数の突起と、
を有し、
前記複数の突起における隣り合う前記突起同士のうち、前記培養領域の中央側に形成された突起の方が低くなるように形成される、
ことを特徴とする培養基材。 - 前記培養面、前記仕切り、及び前記複数の突起は、一体に形成される、
ことを特徴とする請求項1または2記載の培養基材。 - 前記培養面に接合される保持部材をさらに有し、
前記仕切りの高さは、前記複数の突起の高さよりも高く、且つ前記保持部材の側壁の高さ
よりも低い、
ことを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項記載の培養基材。 - 培養領域を形成する仕切りと、
前記培養領域に形成された、径が0.18μm〜20μmの複数の突起と、
を有し、
前記複数の突起の少なくとも一部は、前記培養領域の辺縁側に形成された前記突起の高さよりも、前記培養領域の中央側に形成された前記突起の高さの方が低い、
ことを特徴とする培養基材。 - 培養領域を形成する仕切りと、
前記培養領域に形成された、径が0.18μm〜20μmの複数の突起と、
を有し、
前記複数の突起における隣り合う前記突起同士のうち、前記培養領域の中央側に形成された突起の方が低くなるように形成される、
ことを特徴とする培養基材。 - 前記突起は、前記培養領域と一体に形成される、
ことを特徴とする請求項5または6記載の培養基材。
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