JP5984622B2 - Flushing device - Google Patents
Flushing device Download PDFInfo
- Publication number
- JP5984622B2 JP5984622B2 JP2012233628A JP2012233628A JP5984622B2 JP 5984622 B2 JP5984622 B2 JP 5984622B2 JP 2012233628 A JP2012233628 A JP 2012233628A JP 2012233628 A JP2012233628 A JP 2012233628A JP 5984622 B2 JP5984622 B2 JP 5984622B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- ozone
- cleaning chamber
- cleaning
- printed circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
本発明は水洗装置に関し、より特定的には、洗浄室内におけるカビなどの発生を抑制することが可能な水洗装置に関するものである。 The present invention relates to a washing apparatus, and more particularly, to a washing device capable of suppressing the occurrence of mold in the cleaning chamber.
メッキ、エッチングなどの表面処理装置、クーリングタワー、排気処理装置(スクラバー)など、種々の装置において、槽内の一部に水を保持する水保持槽が使用される。たとえば、プリント基板の製造プロセスでは、エッチングによる配線の形成、形成された配線の保護膜の形成などの工程において、水保持槽を用いた水洗装置が使用される。水洗装置では、装置内を搬送装置によって搬送されるプリント基板に対して、噴射装置から水が噴射されることにより、プリント基板の表面が洗浄される(たとえば、特許文献1参照)。そして、洗浄に使用された水は、装置内の底部に保持される。このような水洗装置が使用されることにより、プリント基板表面に付着した不要な物質を除去することができる。 In various apparatuses such as a surface treatment apparatus such as plating and etching, a cooling tower, and an exhaust treatment apparatus (scrubber), a water holding tank that holds water in a part of the tank is used. For example, in a printed circuit board manufacturing process, a water washing apparatus using a water holding tank is used in processes such as formation of wiring by etching and formation of a protective film for the formed wiring. In the water washing apparatus, the surface of the printed circuit board is washed by ejecting water from the ejecting apparatus to the printed circuit board conveyed by the conveying apparatus in the apparatus (for example, refer to Patent Document 1). And the water used for washing | cleaning is hold | maintained at the bottom part in an apparatus. By using such a water washing device, unnecessary substances attached to the surface of the printed circuit board can be removed.
しかしながら、上記水洗装置などの水保持槽内はカビやウイルスなどが発生、増殖しやすい環境になる場合がある。たとえば、上記水洗装置内においてカビが発生、増殖した場合、カビのパーティクルがプリント基板の表面に付着する。このようなパーティクルの付着は、プリント基板の製造プロセスにおいて不良率上昇の原因となる。そのため、水洗装置などの水保持槽は、所定期間ごとに内部が清掃される必要がある。そして、頻繁な内部の清掃は、装置の稼働率を低下させ、プリント基板などの製造効率を低下させるという問題がある。 However, there are cases where molds, viruses and the like are easily generated and proliferated in the water holding tank such as the above-described water washing apparatus. For example, when mold is generated and propagated in the washing apparatus, mold particles adhere to the surface of the printed board. Such adhesion of particles causes an increase in the defect rate in the printed circuit board manufacturing process. Therefore, the inside of a water holding tank such as a water washing device needs to be cleaned every predetermined period. And frequent internal cleaning has the problem that the operating rate of an apparatus falls and manufacturing efficiency, such as a printed circuit board, falls.
本発明は上述のような課題を解決するためになされたものであって、その目的は、内部におけるカビなどの発生を抑制することが可能な水洗装置を提供することである。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide a water washing apparatus capable of suppressing the occurrence of mold and the like inside.
本発明の水洗装置は、被洗浄物が搬送されるコンベアが貫通する搬入口および搬出口が形成された洗浄室と、洗浄室内でコンベアの下に設けられた水槽と、オゾンを発生させオゾンを含む空気を気体供給路を介して水槽内に供給するオゾン供給装置と、洗浄室内で水槽の水を汲み上げコンベアの上から噴射してミストを形成するスプレーと、洗浄室内の雰囲気ガスを吸引し洗浄室内を外気に対して負圧にする排気装置と、を備えている。The water washing apparatus of the present invention includes a washing chamber in which a carry-in port and a carry-out port through which a conveyor through which an object to be washed passes is formed, a water tank provided under the conveyor in the washing chamber, and ozone to generate ozone. Ozone supply device that supplies air to the water tank through the gas supply path, spray that draws water from the water tank in the cleaning chamber and sprays it from the top of the conveyor, and sucks and cleans the atmospheric gas in the cleaning chamber And an exhaust device that makes the room have a negative pressure with respect to the outside air.
また、上記被洗浄物はプリント基板であってもよい。 The object to be cleaned may be a printed board.
以上の説明から明らかなように、本発明の水保持槽によれば、内部におけるカビなどの発生を抑制することが可能な水保持槽を提供することができる。 As is clear from the above description, according to the water holding tank of the present invention, it is possible to provide a water holding tank capable of suppressing the occurrence of mold and the like inside.
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付し、その説明を省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the same reference number is attached | subjected to the part which is the same or it corresponds in the following drawings, and the description is abbreviate | omitted.
図1および図2を参照して、本発明の一実施の形態における水保持槽である水洗装置1について説明する。図1を参照して、水洗装置1は、被処理物であるプリント基板99の表面を水(純水)によって洗浄する装置である。この水洗装置1は、本体部としての洗浄室10と、オゾン供給装置20と、噴射部としてのスプレー装置30と、搬送部としてのコンベア40と、排気装置50とを備えている。
With reference to FIG. 1 and FIG. 2, the
洗浄室10は、水91を保持する水槽11と、水槽11上に配置され、内部を搬送されるプリント基板99に対して水が吹き付けられる領域である洗浄領域12とを含んでいる。洗浄領域12は、洗浄室10において水で満たされていない領域である。また、洗浄室10には、洗浄室10内にワーク(プリント基板99)を搬入するための搬入口13と、洗浄室10内から外部へとワーク(プリント基板99)を搬出するための搬出口14とが形成されている。
The
オゾン供給装置20は、洗浄室10内にオゾンを含む空気を供給する。オゾン供給装置20は、オゾンを含む空気を生成させるオゾン発生部21と、オゾン発生部21に接続され、オゾンを含む空気を洗浄室10に流す流路である樹脂チューブ22とを含んでいる。この樹脂チューブ22が本発明の気体供給路に対応する。樹脂チューブ22の、オゾン発生部21に接続される側とは反対側の端部である気体吐出口23は、水91中に浸漬されている。すなわち、気体吐出口23は、洗浄室10の水槽11内に配置されている。樹脂チューブ22内部は水槽11から流れてくる水滴および水蒸気により高い湿度が維持されている。この湿気とオゾンとが反応することにより、空気が水槽11に供給される前に、事前にOHラジカルが生成される。
The
オゾン供給装置20のオゾン発生部21は、図2に示すように、プラズマ電極26と、プラズマ電極26に接続され、プラズマ電極26に高電圧を供給する高圧電源25と、外部の空気を吸入し、当該空気をプラズマ電極26に送る空気供給部としてのエアポンプ27と、オゾン発生部21の外部とエアポンプ27とを接続する空気流路28とを含んでいる。
As shown in FIG. 2, the
スプレー装置30は、プリント基板99に水(純水)を噴射することによりプリント基板99を洗浄する。スプレー装置30は、洗浄室10の外部に配置されたウォーターポンプ32と、一方の端部において洗浄室10の水槽11に接続され、他方の端部においてウォーターポンプ32に接続された第1洗浄水流路31と、一方側においてウォーターポンプ32に接続され、他方側が洗浄室10の洗浄領域12内に位置するように洗浄室10内に侵入する第2洗浄水流路33とを含んでいる。そして、第2洗浄水流路33の、洗浄領域12内に位置する領域には、第2洗浄水流路33内の水をコンベア40上のプリント基板99に向けて噴射する複数のスプレーノズル34が設置されている。
The
コンベア40は、洗浄室10の洗浄領域12を貫通するように配置されている。これにより、コンベア40上に載置された複数のプリント基板99は、前工程の装置(図示しない)から搬入口13を通って水洗装置1内に進入し、水洗装置1内を通過した後、搬出口14を通って水洗装置1の外部へと搬送される。そして、水洗処理が完了したプリント基板99は、コンベア40により後工程の装置(図示しない)へと搬送される。上記複数のスプレーノズル34は、プリント基板99の搬送方向に沿って並べて配置されている。
The
排気装置50は、排気ダクト51と、排気ポンプ52とを含んでいる。排気ダクト51は、一方の端部において洗浄室10の洗浄領域12の壁面、より具体的には洗浄室10の上壁面(天井)に接続され、他方の端部において排気ガス処理装置(図示しない)に接続されている。排気ポンプ52は、排気ダクト51に設置されており、排気ダクト51を通して洗浄室10内の雰囲気ガスを排気ガス処理装置へと送る。
The
次に、水洗装置1の動作について説明する。図1を参照して、たとえばエッチングが実施されたプリント基板99がコンベア40上に載置され、搬入口13を通って洗浄室10の洗浄領域12内へと搬送される。洗浄領域12内のプリント基板99は、所定の搬送方向(矢印α)に沿って所定の速度で移動する。一方、洗浄室10の底部である水槽11に貯留された水91は、ウォーターポンプ32により、第1洗浄水流路31を通して外部に取り出された後、第2洗浄水流路33へと送られる。そして、第2洗浄水流路33内の水は、洗浄水92としてスプレーノズル34から噴射され、プリント基板99が洗浄される。これにより、たとえばエッチング工程においてプリント基板99に付着した不要な物質が洗浄水92により除去される。
Next, the operation of the
ここで、洗浄室10内には、前工程においてプリント基板99に付着した有機物などが持ち込まれ、上記水洗によって水91内に混入する。そのため、洗浄室10内は、カビなどが発生、増殖しやすい環境となる。カビなどのパーティクルは、プリント基板99に付着すると、不良率の上昇などの問題を引き起こす可能性がある。
Here, an organic substance or the like attached to the printed
これに対し、本実施の形態における水洗装置1は、オゾン供給装置20を備えている。オゾン供給装置20は以下のように動作する。図2を参照して、まず、エアポンプ27により、外部の空気が空気流路28を通してオゾン発生部21内に取り入れられる。取り入れられた空気は、エアポンプ27によりプラズマ電極26へと送られる(矢印β)。プラズマ電極26には、高圧電源25から高電圧が供給されている。その結果、エアポンプ27から送られた空気中におけるプラズマ電極26からの放電により、空気に含まれる酸素からオゾンが形成され、オゾンを含む空気が生成される。生成したオゾンを含む空気は、図1を参照して、樹脂チューブ22を通して洗浄室10の水槽11へと送られる。このとき、樹脂チューブ22の、オゾン発生部21に接続された側とは反対側の端部である気体吐出口23は、水91中に浸漬されている。そのため、オゾンを含む空気は、気泡93として水91内に供給されるとともに、水面まで上昇した後、洗浄領域12内に放出される。
On the other hand, the
水槽11内に供給されたオゾンは、水91と反応することによりOHラジカルを形成する。そして、このOHラジカルの殺菌機能によって、水91中のカビなどの発生、増殖が抑制される。特に、本実施の形態における水洗装置1では、スプレー装置30によって、OHラジカルを含む水91が汲み上げられて洗浄水92としてスプレーノズル34から噴射される。そのため、OHラジカルを含む水がミスト状となって洗浄領域12内の全域に供給される。さらに、水面に到達したオゾンを含む空気の気泡は洗浄領域12内に放出されるため、洗浄領域12内の水と反応し、更なるOHラジカルを生成する。このように、本実施の形態における水洗装置1においては、オゾンを含む空気のバブリングと、スプレーノズル34によるミスト形成との組み合わせにより、効率よくOHラジカルを含む水が洗浄室10内の全域に供給される。そのため、洗浄室10内のカビの発生等が有効に抑制される。その結果、洗浄室10の清掃の頻度を低減し、プリント基板製造ラインの稼働率を向上させることができる。
The ozone supplied into the
ここで、上記水洗処理に際しては、排気装置50の動作によって洗浄室10内は外部に対して負圧状態に維持される。より具体的には、排気ダクト51および排気ポンプ52によって、洗浄室10内の雰囲気ガスが排気ガス処理装置(図示しない)へと送られることにより、洗浄室10内は大気圧よりも低い圧力に維持される。そのため、洗浄室10の洗浄領域12に放出されたオゾンは、搬入口13や搬出口14から外部へと放出されることはない。また、洗浄領域12に放出されたオゾンは、排気ガス処理装置へと送られた後、排気ガス処理装置内において化学反応などを利用して他の物質に変換されたうえで、外部へと放出される。その結果、洗浄室10内において消費されなかったオゾンが外部へと放出されることが回避される。
Here, in the water washing process, the inside of the cleaning
なお、オゾン供給装置20から水槽11に導入される空気のオゾン(プラズマ)濃度は、特に限定されるものではないが、50ppm〜5000ppmの範囲であればよく、洗浄室10の大きさや水槽11に貯水されている水の量に応じて調整すればよい。好ましくは500〜600ppmであればよい。この空気を5〜150L/分程度の流量で水槽11に導入してバブリングさせる。
The ozone (plasma) concentration of air introduced from the
なお、上記実施の形態においては、本発明の一実施の形態として上記構造を有する水洗装置1について説明したが、本発明の水保持槽はこれに限られるものではなく、種々の構造を有する水洗装置に適用することができる。
In the above embodiment, the
また、本発明の水保持槽は水洗装置に限定されるものではなく、たとえばクーリングタワー、廃棄処理装置(スクラバー)など、内部の少なくとも一部に水槽を有する装置であれば、種々の構造を有するものに適用することができる。また、所謂どぶ漬けのメッキ槽などスプレー装置30を持たない装置であっても本発明は適用可能である。このような装置に本発明を適用する場合、気体吐出口23をシャワーヘッド状にして細かい泡を多数発生させるようにすればより良い。また金型洗浄装置などの機器に適用することも可能である。
In addition, the water holding tank of the present invention is not limited to the water washing apparatus, and has various structures as long as the apparatus has a water tank in at least a part of the inside, such as a cooling tower and a waste treatment apparatus (scrubber). Can be applied to. Further, the present invention can be applied even to an apparatus that does not have the
この実施形態では、高圧放電によってオゾンを発生させる方式のオゾン供給装置20を用いたが、オゾン供給装置20のオゾン発生の方式はこれに限定されない。たとえば、紫外線や電気分解を用いる方式を採用することも可能である。また、本発明は、オゾン供給装置に代えてOHラジカル供給装置を用いる構成も含んでいる。
In this embodiment, the
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではないと理解されるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなく、特許請求の範囲によって示された範囲、そして特許請求の範囲と均等な意味および範囲内でのすべての変更、改良が含まれることが意図される It should be understood that the embodiments disclosed herein are illustrative and non-restrictive in every respect. The scope of the present invention is not intended to be described above, but is intended to include the scope indicated by the claims, and all modifications and improvements within the meaning and scope equivalent to the claims.
本発明の水洗装置は、カビなどの発声を抑制することが求められる水洗装置に、特に有利に適用され得る。 The water washing apparatus of the present invention can be particularly advantageously applied to a water washing apparatus that is required to suppress the utterance of mold and the like.
1 水洗装置、10 洗浄室、11 水槽、12 洗浄領域、13 搬入口、14 搬出口、20 オゾン供給装置、21 オゾン発生部、22 樹脂チューブ、23 気体吐出口、25 高圧電源、26 プラズマ電極、27 エアポンプ、28 空気流路、30 スプレー装置、31 第1洗浄水流路、32 ウォーターポンプ、33 第2洗浄水流路、34 スプレーノズル、40 コンベア、50 排気装置、51 排気ダクト、52 排気ポンプ、91 水、92 洗浄水、93 気泡、99 プリント基板。
DESCRIPTION OF
Claims (2)
前記洗浄室内で前記コンベアの下に設けられた水槽と、A water tank provided under the conveyor in the cleaning chamber;
オゾンを発生させ、該オゾンを含む空気を気体供給路を介して前記水槽内に供給するオゾン供給装置と、An ozone supply device that generates ozone and supplies air containing the ozone into the water tank via a gas supply path;
前記洗浄室内で前記水槽の水を汲み上げ前記コンベアの上から噴射してミストを形成するスプレーと、A spray that draws water from the water tank in the washing chamber and sprays it from above the conveyor to form a mist;
前記洗浄室内の雰囲気ガスを吸引し、前記洗浄室内を外気に対して負圧にする排気装置と、An exhaust device for sucking atmospheric gas in the cleaning chamber and making the cleaning chamber have a negative pressure with respect to outside air;
を備えた水洗装置。Flushing device equipped with.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012233628A JP5984622B2 (en) | 2012-10-23 | 2012-10-23 | Flushing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012233628A JP5984622B2 (en) | 2012-10-23 | 2012-10-23 | Flushing device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014083489A JP2014083489A (en) | 2014-05-12 |
JP5984622B2 true JP5984622B2 (en) | 2016-09-06 |
Family
ID=50787092
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012233628A Active JP5984622B2 (en) | 2012-10-23 | 2012-10-23 | Flushing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5984622B2 (en) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI629116B (en) | 2016-06-28 | 2018-07-11 | 荏原製作所股份有限公司 | Cleaning apparatus, plating apparatus using the same, and cleaning method |
JP6157694B1 (en) * | 2016-06-28 | 2017-07-05 | 株式会社荏原製作所 | Cleaning apparatus, plating apparatus including the same, and cleaning method |
JP6088099B1 (en) * | 2016-07-06 | 2017-03-01 | 株式会社荏原製作所 | Cleaning apparatus, plating apparatus including the same, and cleaning method |
CN107854064B (en) * | 2016-09-21 | 2020-05-15 | Toto株式会社 | Bathroom floor cleaning device and bathroom |
CN109796072A (en) * | 2019-01-14 | 2019-05-24 | 哈尔滨新海德智能环境工程有限公司 | A kind of plasma purifying machine for COD waste liquid |
CN112845651A (en) * | 2020-12-29 | 2021-05-28 | 苏州列治埃盟新材料技术转移有限公司 | Preparation device of novel environment-friendly lead-free alloy material alloy rod for wear-resistant bearing |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0274327U (en) * | 1988-11-25 | 1990-06-06 | ||
JP2597422Y2 (en) * | 1993-03-19 | 1999-07-05 | 株式会社ササクラ | Ozone water treatment equipment |
JPH0670560U (en) * | 1993-03-22 | 1994-10-04 | 大森管球硝子株式会社 | Water treatment equipment for aquarium |
JP3190221B2 (en) * | 1994-12-05 | 2001-07-23 | 島田理化工業株式会社 | Cleaning method for fine particles on the surface of precision parts |
JP4305582B2 (en) * | 1998-11-24 | 2009-07-29 | 株式会社ササクラ | Cooling tower ozone sterilizer |
JP2001009392A (en) * | 1999-06-29 | 2001-01-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Apparatus and method for washing substrate |
JP2003200179A (en) * | 2002-01-07 | 2003-07-15 | Mitsubishi Electric Corp | Cleaning device of water tank |
-
2012
- 2012-10-23 JP JP2012233628A patent/JP5984622B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014083489A (en) | 2014-05-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5984622B2 (en) | Flushing device | |
KR101302927B1 (en) | Surface processing apparatus | |
JP6718566B1 (en) | Exhaust gas abatement unit | |
CN1291347A (en) | Photoresist film removing method and device therefor | |
KR101271302B1 (en) | Cleaning method and cleaning apparatus | |
JP2009147260A (en) | Substrate processing apparatus | |
KR20090020171A (en) | Two-fluid jet nozzle for cleaning substrate | |
JP4486146B2 (en) | Surface treatment equipment | |
KR20140110740A (en) | Processing device and processing method | |
KR20060050162A (en) | A cleaning method and a cleaning apparatus for performing the method | |
CN103889138B (en) | Plasma discharge apparatus | |
TW200501231A (en) | Method and apparatus for etching a substrate | |
JP5063560B2 (en) | Substrate processing equipment | |
KR101150022B1 (en) | Apparatus for etching | |
JP2015013240A (en) | Ultrasonic cleaning device | |
JP2006310682A (en) | Substrate processing apparatus | |
JP5639860B2 (en) | Wafer cleaning method | |
TW202033227A (en) | Gas treatment device | |
WO2012090815A1 (en) | Resist removal device and resist removal method | |
JP2012243950A (en) | Substrate processing apparatus | |
KR101717261B1 (en) | Method and device for treating substrates | |
JP5795157B2 (en) | Scrubber | |
KR20080005942U (en) | Two-fluid supply module for cleaning substrate and cleaning device using the same | |
KR20210064524A (en) | Processing devices and methods | |
JP2005347439A (en) | Cleaning method and apparatus for printed wiring board |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151022 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160510 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160711 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160802 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160802 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5984622 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |