JP5974514B2 - 撥水性保護膜形成用薬液、撥水性保護膜形成用薬液キット、及びウェハの洗浄方法 - Google Patents
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Landscapes
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Description
P=2×γ×cosθ/S
(式中、γは凹部に保持されている液体の表面張力、θは凹部表面と凹部に保持されている液体のなす接触角、Sは凹部の幅である。)
R1 aSiX4−a [1]
[式[1]中、R1は、それぞれ互いに独立して、水素基、一部又は全ての水素元素がハロゲン元素に置き換えられていても良い炭素数が1〜18の1価の炭化水素基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基であり、ケイ素元素と結合する全ての前記炭化水素基に含まれる炭素数の合計は6以上である。また、Xは、それぞれ互いに独立して、ケイ素元素と結合する元素が窒素である1価の官能基、ケイ素元素と結合する元素が酸素である1価の官能基、ハロゲン基、ニトリル基、および、−CO−NH−Si(CH3)3からなる群から選ばれる少なくとも1つの基であり、aは1〜3の整数である。]
基、−NHSi(CH3)2C8H17基、−N(CH3)C(O)CH3、−N(CH3)C(O)CF3、−N=C(CH3)OSi(CH3)3、−N=C(CF3)OSi(CH3)3、−NHC(O)−OSi(CH3)3、−NHC(O)−NH−Si(CH3)3、イミダゾール環、オキサゾリジノン環、モルホリン環、−NH−C(O)−Si(CH3)3、−N(H)2−b(Si(H)cR4 3−c)b(R4は一部又は全ての水素元素がフッ素元素に置き換えられていても良い炭素数が1〜18の1価の炭化水素基、bは1又は2、cは0〜2の整数)、フルオロ基、ブロモ基、ヨード基、ニトリル基、または、−CO−NH−Si(CH3)3に置き換えた化合物などが挙げられる。
R2(CH3)2SiX [2]
[式[2]中、R2は一部又は全ての水素元素がハロゲン元素に置き換えられていても良い炭素数が4〜18の1価の炭化水素基であり、Xはケイ素元素と結合する元素が窒素である1価の官能基、ケイ素元素と結合する元素が酸素である1価の官能基、ハロゲン基、ニトリル基、および、−CO−NH−Si(CH3)3からなる群から選ばれる少なくとも1つの基である。]
R2(CH3)2Si−N(R3)2 [3]
[式[3]中、R2は一部又は全ての水素元素がハロゲン元素に置き換えられていても良い炭素数が4〜18の1価の炭化水素基であり、R3はメチル基、エチル基、プロピル基、又はブチル基である。]
)Si[N(CH3)2]2、C6H13Si[N(CH3)2]3、C7H15Si[N(CH3)2]3、C8H17Si[N(CH3)2]3、C9H19Si[N(CH3)2]3、C10H21Si[N(CH3)2]3、C11H23Si[N(CH3)2]3、C12H25Si[N(CH3)2]3、C13H27Si[N(CH3)2]3、C14H29Si[N(CH3)2]3、C15H31Si[N(CH3)2]3、C16H33Si[N(CH3)2]3、C17H35Si[N(CH3)2]3、C18H37Si[N(CH3)2]3、C4F9C2H4Si[N(CH3)2]3、C5F11C2H4Si[N(CH3)2]3、C6F13C2H4Si[N(CH3)2]3、C7F15C2H4Si[N(CH3)2]3、C8F17C2H4Si[N(CH3)2]3、C4H9(CH3)2SiN(C2H5)2、C5H11(CH3)2SiN(C2H5)2、C6H13(CH3)2SiN(C2H5)2、C7H15(CH3)2SiN(C2H5)2、C8H17(CH3)2SiN(C2H5)2、C9H19(CH3)2SiN(C2H5)2、C10H21(CH3)2SiN(C2H5)2、C11H23(CH3)2SiN(C2H5)2、C12H25(CH3)2SiN(C2H5)2、C13H27(CH3)2SiN(C2H5)2、C14H29(CH3)2SiN(C2H5)2、C15H31(CH3)2SiN(C2H5)2、C16H33(CH3)2SiN(C2H5)2、C17H35(CH3)2SiN(C2H5)2、C18H37(CH3)2SiN(C2H5)2、C4F9C2H4(CH3)2SiN(C2H5)2、C4F9C2H4(CH3)2SiN(C2H5)2、C5F11C2H4(CH3)2SiN(C2H5)2、C6F13C2H4(CH3)2SiN(C2H5)2、C7F15C2H4(CH3)2SiN(C2H5)2、C8F17C2H4(CH3)2SiN(C2H5)2、(C2H5)3SiN(C2H5)2、C3H7(C2H5)2SiN(C2H5)2、C4H9(C2H5)2SiN(C2H5)2、C5H11(C2H5)2SiN(C2H5)2、C6H13(C2H5)2SiN(C2H5)2、C7H15(C2H5)2SiN(C2H5)2、C8H17(C2H5)2SiN(C2H5)2、C9H19(C2H5)2SiN(C2H5)2、C10H21(C2H5)2SiN(C2H5)2、C11H23(C2H5)2SiN(C2H5)2、C12H25(C2H5)2SiN(C2H5)2、C13H27(C2H5)2SiN(C2H5)2、C14H29(C2H5)2SiN(C2H5)2、C15H31(C2H5)2SiN(C2H5)2、C16H33(C2H5)2SiN(C2H5)2、C17H35(C2H5)2SiN(C2H5)2、C18H37(C2H5)2SiN(C2H5)2、(C4H9)3SiN(C2H5)2、C5H11(C4H9)2SiN(C2H5)2、C6H13(C4H9)2SiN(C2H5)2、C7H15(C4H9)2SiN(C2H5)2、C8H17(C4H9)2SiN(C2H5)2、C9H19(C4H9)2SiN(C2H5)2、C10H21(C4H9)2SiN(C2H5)2、C11H23(C4H9)2SiN(C2H5)2、C12H25(C4H9)2SiN(C2H5)2、C13H27(C4H9)2SiN(C2H5)2、C14H29(C4H9)2SiN(C2H5)2、C15H31(C4H9)2SiN(C2H5)2、C16H33(C4H9)2SiN(C2H5)2、C17H35(C4H9)2SiN(C2H5)2、C18H37(C4H9)2SiN(C2H5)2などの化合物や、上記の窒素元素に結合したメチル基やエチル基がプロピル基やブチル基に置き換わった化合物が挙げられる。
前記ウェハ表面を洗浄液で洗浄する、洗浄工程、
前記ウェハの少なくとも凹部に撥水性保護膜形成用薬液を保持し、該凹部表面に撥水性保護膜を形成する、撥水性保護膜形成工程、
ウェハ表面の液体を除去する、乾燥工程、
前記凹部表面から撥水性保護膜を除去する、撥水性保護膜除去工程
を含み、撥水性保護膜形成工程において上記の撥水性保護膜形成用薬液、又は上記の撥水性保護膜形成用薬液キットから得られる撥水性保護膜形成用薬液を用いることを特徴とする、ウェハの洗浄方法である。
P=2×γ×cosθ/S
(式中、γは凹部に保持されている液体の表面張力、θは凹部表面と凹部に保持されている液体のなす接触角、Sは凹部の幅である。)
から明らかなようにパターン倒れを引き起こす毛細管力Pの絶対値は、ウェハ表面に対する液体の接触角、すなわち液滴の接触角と、該液体の表面張力に大きく依存する。凹凸パターン2の凹部4に保持された液体の場合、液滴の接触角と、パターン倒れと等価なものとして考えてよい該凹部に働く毛細管力とは相関性があるので、前記式と、凹部表面に形成された撥水性保護膜10の液滴の接触角の評価から、毛細管力を導き出してもよい。なお、実施例において、前記液体として、水系洗浄液の代表的なものである水を用いた。
保護膜形成用薬液が供されたウェハの評価方法として、以下の(1)〜(3)の評価を行った。
保護膜が形成されたウェハ表面上に純水約2μlを置き、水滴とウェハ表面とのなす角(接触角)を接触角計(協和界面科学製:CA−X型)で測定し接触角とした。
以下の条件で低圧水銀灯のUV光をサンプルに1分間照射した。照射後に水滴の接触角が10°以下となったものを合格とした。
・ランプ:セン特殊光源製PL2003N−10
・照度:15mW/cm2(光源からサンプルまでの距離は10mm)
原子間力電子顕微鏡(セイコ−電子製:SPI3700、2.5μm四方スキャン)によって表面観察し、中心線平均面粗さ:Ra(nm)を求めた。なお、Raは、JIS B 0601で定義されている中心線平均粗さを測定面に対し適用して三次元に拡張したものであり、「基準面から指定面までの偏差の絶対値を平均した値」として次式で算出した。保護膜を除去した後のウェハ表面のRa値が1nm以下であれば、洗浄によってウェハ表面が浸食されていない、および、前記保護膜の残渣がウェハ表面にないとし、合格とした。
ここで、XL、XR、YB、YTは、それぞれ、X座標、Y座標の測定範囲を示す。S0は、測定面が理想的にフラットであるとした時の面積であり、(XR−XL)×(YB−YT)の値とした。また、F(X,Y)は、測定点(X,Y)における高さ、Z0は、測定面内の平均高さを表す。
(1)保護膜形成用薬液の調製
ケイ素化合物としてオクチルジメチルジメチルアミノシラン〔C8H17(CH3)2SiN(CH3)2〕;0.5g、酸として無水トリフルオロ酢酸〔(CF3CO)2O〕;0.18g、溶媒(I)としてγ-ブチロラクトン(以降、「GBL」と記載する場合がある);89.388gと溶媒(II)としてジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以降、「DPGMEA」と記載する場合がある)〔CH3CH(OCH3)CH2OCH2CH(OCOCH3)CH3〕;9.932gが混合された非水溶媒を用いて、室温ですべてを混合し、約5分間撹拌して、保護膜形成用薬液の総量に対するケイ素化合物の濃度(以降「ケイ素化合物濃度」と記載する)が0.5質量%、ケイ素化合物の総量に対する酸の濃度(以降「ケイ素化合物に対する酸濃度」と記載する)が36質量%、保護膜形成用薬液の総量に対する酸の濃度(以降「薬液中の酸濃度」と記載する)が0.18質量%、非水溶媒の溶媒(I)と溶媒(II)の質量比が90:10の保護膜形成用薬液を得た。得られた保護膜形成用薬液は、20℃において、目視観察でケイ素化合物の不溶解成分がなく、均一な溶液であることを確認した。なお、前記のような薬液の外観を、表1において「均一」と記載し、目視観察でケイ素化合物の不溶解成分があり、不均一な溶液であるものを、表1において「不均一」と記載する。
LP−CVDで作製した平滑な窒化ケイ素膜付きシリコンウェハ(表面に厚さ50nmの窒化ケイ素層を有するシリコンウェハ)を室温で1質量%のフッ酸水溶液に2分間浸漬し、次いで純水に1分間、28質量%アンモニア水:30質量%過酸化水素水:水を1:1:5の体積比で混合し、ホットプレートで液温を70℃とした洗浄液に1分間浸漬し、室温で純水に1分間、2−プロパノールに1分間浸漬した。
前記窒化ケイ素膜付きシリコンウェハを、上記「(1)保護膜形成用薬液の調製」で調製した保護膜形成用薬液に20℃で1分間浸漬させた。その後、室温でウェハを2−プロパノールに1分間浸漬し、次いで、純水に1分間浸漬した。最後に、ウェハを純水から取出し、エアーを吹き付けて、表面の純水を除去した。
実施例1で用いたケイ素化合物濃度、溶媒(II)の種類、非水溶媒中の溶媒(I)と溶媒(II)の質量比を適宜変更して、ウェハの表面処理を行い、さらにその評価を行った。結果を表1に示す。なお、表1中で、EHAは酢酸エチルヘキシル、PGMEAはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを意味する。なお、すべての実施例、比較例において、外観を評価したときの薬液の温度は20℃である。
ケイ素化合物としてオクチルジメチルジメチルアミノシラン〔C8H17(CH3)2SiN(CH3)2〕;0.5g、溶媒(I)としてGBL;44.694gと溶媒(II)としてDPGMEA;4.966gが混合された非水溶媒を用いて、室温ですべてを混合し、処理液Aを調製した。また、酸として無水トリフルオロ酢酸〔(CF3CO)2O〕;0.18g、溶媒(I)としてGBL;44.694gと溶媒(II)としてDPGMEA;4.966gが混合された非水溶媒を用いて、室温ですべてを混合し、処理液Bを調製した。処理液A及び処理液Bを室温で混合し、約5分間撹拌して、ケイ素化合物濃度が0.5質量%、ケイ素化合物に対する酸濃度が36質量%、薬液中の酸濃度が0.18質量%、非水溶媒の溶媒(I)と溶媒(II)の質量比が90:10の保護膜形成用薬液を得た。得られた保護膜形成用薬液を用いて実施例1と同様にウェハの表面処理を行ったところ、表1に示すとおり、表面処理前の初期接触角が10°未満であったものが、表面処理後の接触角は89°となり、優れた撥水性付与効果を示した。また、UV照射後の接触角は10°未満であり保護膜は除去できた。さらに、UV照射後のウェハのRa値は0.5nm未満であり、洗浄時にウェハは侵食されず、さらにUV照射後に撥水性保護膜の残渣は残らないことが確認できた。
非水溶媒としてGBLのみを用いた以外は実施例1と同じ手順で保護膜形成用薬液を調製した。得られた保護膜形成用薬液は、20℃において、目視で不均一であった。
非水溶媒としてDPGMEAのみを用いた以外は実施例1と同じ手順で保護膜形成用薬液を調製した。なお、得られた保護膜形成用薬液は、20℃において、均一であることを目視で確認した。
溶媒(I)と溶媒(II)の質量比が15:85である非水溶媒を用いた以外は実施例1と同じ手順で保護膜形成用薬液を調製した。なお、得られた保護膜形成用薬液は、20℃において、均一であることを目視で確認した。
ケイ素化合物としてトリメチルシリルジメチルアミン〔(CH3)3SiN(CH3)2〕;0.5g、酸として無水トリフルオロ酢酸〔(CF3CO)2O〕;0.18g、溶媒(I)としてGBL;89.388gと溶媒(II)としてDPGMEA;9.932gが混合された非水溶媒を用いて、室温ですべてを混合し、約5分間撹拌して、ケイ素化合物濃度が0.5質量%、非水溶媒の溶媒(I)と溶媒(II)の質量比が90:10の保護膜形成用薬液を得た。なお、得られた保護膜形成用薬液は、20℃において、均一であることを目視で確認した。
ケイ素化合物としてトリフルオロプロピルジメチルジシラザン〔[CF3(CH2)2(CH3)2Si]2NH〕;0.5g、酸として無水トリフルオロ酢酸〔(CF3CO)2O〕;0.18g、溶媒(I)としてGBL;89.388gと溶媒(II)としてDPGMEA;9.932gが混合された非水溶媒を用いて、室温ですべてを混合し、約5分間撹拌して、ケイ素化合物濃度が0.5質量%、非水溶媒の溶媒(I)と溶媒(II)としての質量比が90:10の保護膜形成用薬液を得た。なお、得られた保護膜形成用薬液は、20℃において、均一であることを目視で確認した。
2 ウェハ表面の凹凸パターン
3 パターンの凸部
4 パターンの凹部
5 凹部の幅
6 凸部の高さ
7 凸部の幅
8 撥水性保護膜形成用薬液
9 液体
10 撥水性保護膜
Claims (15)
- 表面に凹凸パターンを有し該凹凸パターンの少なくとも凹部表面にケイ素元素を含む酸化ケイ素以外のケイ素系ウェハの洗浄工程の後、乾燥工程の前において、前記ウェハの少なくとも凹部表面に撥水性保護膜を形成するための撥水性保護膜形成用薬液であり、
前記薬液は、
下記一般式[1]で表されるケイ素化合物のみからなる保護膜形成剤と
非水溶媒とが含まれる薬液であって、
前記非水溶媒が、ラクトン系溶媒及びカーボネート系溶媒から選ばれる少なくとも1種の溶媒(I)と、該溶媒(I)以外のケイ素化合物を可溶な溶媒(II)が質量比で40:60〜97:3で構成されることを特徴とする、撥水性保護膜形成用薬液。
R1 aSiX4−a [1]
[式[1]中、R1は、それぞれ互いに独立して、水素基、一部又は全ての水素元素がハロゲン元素に置き換えられていても良い炭素数が1〜18の1価の炭化水素基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基であり、ケイ素元素と結合する全ての前記炭化水素基に含まれる炭素数の合計は6以上である。また、Xは、それぞれ互いに独立して、イソシアネート基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、イソチオシアネート基、アジド基、アセトアミド基、−N(CH 3 )C(O)CH 3 、−N(CH 3 )C(O)CF 3 、−N=C(CH 3 )OSi(CH 3 ) 3 、−N=C(CF 3 )OSi(CH 3 ) 3 、−NHC(O)−OSi(CH 3 ) 3 、−NHC(O)−NH−Si(CH 3 ) 3 、イミダゾール環(下式[4])、オキサゾリジノン環(下式[5])、モルホリン環(下式[6])、−NH−C(O)−Si(CH 3 ) 3 、ケイ素元素と結合する元素が酸素である1価の官能基、ハロゲン基、ニトリル基、および、−CO−NH−Si(CH3)3からなる群から選ばれる少なくとも1つの基であり、aは1〜3の整数である。]
- 前記撥水性保護膜形成用薬液中の非水溶媒が、前記溶媒(I)と前記溶媒(II)が質量比で70:30〜95:5で構成されることを特徴とする、請求項1に記載の撥水性保護膜形成用薬液。
- 前記溶媒(I)がラクトン系溶媒であることを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の撥水性保護膜形成用薬液。
- 前記撥水性保護膜形成用薬液が、10℃乃至160℃の温度で保持された状態のものであることを特徴とする、請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の撥水性保護膜形成用薬液。
- 前記ケイ素化合物が下記一般式[2]で表されるケイ素化合物であることを特徴とする、請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の撥水性保護膜形成用薬液。
R2(CH3)2SiX [2]
[式[2]中、R2は一部又は全ての水素元素がハロゲン元素に置き換えられていても良い炭素数が4〜18の1価の炭化水素基であり、Xは、イソシアネート基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、イソチオシアネート基、アジド基、アセトアミド基、−N(CH 3 )C(O)CH 3 、−N(CH 3 )C(O)CF 3 、−N=C(CH 3 )OSi(CH 3 ) 3 、−N=C(CF 3 )OSi(CH 3 ) 3 、−NHC(O)−OSi(CH 3 ) 3 、−NHC(O)−NH−Si(CH 3 ) 3 、イミダゾール環(下式[4])、オキサゾリジノン環(下式[5])、モルホリン環(下式[6])、−NH−C(O)−Si(CH 3 ) 3 、ケイ素元素と結合する元素が酸素である1価の官能基、ハロゲン基、ニトリル基、および、−CO−NH−Si(CH3)3からなる群から選ばれる少なくとも1つの基である。]
- 前記ケイ素化合物が下記一般式[3]で表されるケイ素化合物であることを特徴とする、請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の撥水性保護膜形成用薬液。
R2(CH3)2Si−N(R3)2 [3]
[式[3]中、R2は一部又は全ての水素元素がハロゲン元素に置き換えられていても良い炭素数が4〜18の1価の炭化水素基であり、R3はメチル基、エチル基、プロピル基、又はブチル基である。] - 前記撥水性保護膜形成用薬液中のケイ素化合物濃度が、0.1〜4質量%であることを特徴とする、請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の撥水性保護膜形成用薬液。
- 前記撥水性保護膜形成用薬液に、さらに酸が含まれることを特徴とする、請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の撥水性保護膜形成用薬液。
- 請求項8に記載の撥水性保護膜形成用薬液を得るための撥水性保護膜形成用薬液キットであり、該薬液キットが、前記一般式[1]で表されるケイ素化合物と、溶媒(I)及び/又は溶媒(II)とを有する処理液Aと、酸と、前記の溶媒(I)及び/又は溶媒(II)とを有する処理液Bからなることを特徴とする、撥水性保護膜形成用薬液キット。
- 前記溶媒(I)がラクトン系溶媒であることを特徴とする、請求項9に記載の撥水性保護膜形成用薬液キット。
- 前記ケイ素化合物が前記一般式[2]で表されるケイ素化合物であることを特徴とする、請求項9又は請求項10に記載の撥水性保護膜形成用薬液キット。
- 前記ケイ素化合物が前記一般式[3]で表されるケイ素化合物であることを特徴とする、請求項9乃至請求項11のいずれかに記載の撥水性保護膜形成用薬液キット。
- 表面に凹凸パターンを有し該凹凸パターンの少なくとも凹部表面にケイ素元素を含む酸化ケイ素以外のケイ素系ウェハの洗浄において、以下に示す工程、
前記ウェハ表面を洗浄液で洗浄する、洗浄工程、
前記ウェハの少なくとも凹部に撥水性保護膜形成用薬液を保持し、該凹部表面に撥水性保護膜を形成する、撥水性保護膜形成工程、
ウェハ表面の液体を除去する、乾燥工程、
前記凹部表面から撥水性保護膜を除去する、撥水性保護膜除去工程
を含み、撥水性保護膜形成工程において請求項1乃至請求項8のいずれかに記載の撥水性保護膜形成用薬液、又は請求項9乃至請求項12のいずれかに記載の撥水性保護膜形成用薬液キットから得られる撥水性保護膜形成用薬液を用いることを特徴とする、ウェハの洗浄方法。 - 前記ウェハが、該凹凸パターンの少なくとも凹部表面に窒化ケイ素を含むウェハであることを特徴とする、請求項13に記載のウェハの洗浄方法。
- 撥水性保護膜除去工程が、ウェハ表面を光照射すること、ウェハを加熱すること、ウェハ表面をプラズマ照射すること、ウェハ表面をオゾン曝露すること、及び、ウェハをコロナ放電することから選ばれる少なくとも1つの処理方法で行われることを特徴とする、請求項13又は請求項14に記載のウェハの洗浄方法。
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