JP5962630B2 - アモルファス合金薄帯の製造方法 - Google Patents
アモルファス合金薄帯の製造方法 Download PDFInfo
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Description
そこで、本発明の目的は、磁気特性のばらつきを低減したアモルファス合金薄帯を製造する方法を提案することにある。
(a)供給ノズルの位置制御は正常に行われており、位置制御の条件やプログラム上の設定に問題はなかった。また、特性のばらつきは製造初期だけではなく、製造中にも発生しており、サーマルクラウンとは別の原因があり、この原因により供給ノズル・ロール間距離にばらつきが発生したと考えられた。なお、サーマルクラウンは、製造初期の溶融金属を供給ノズルからロール表面に吐出させる際に大きな熱膨張を発生させ、その後は常時一定の幅・厚みで製造を実施することより、熱膨張に変動はなくなり、そのためクラウンも変動しないこととなる。
(b)供給ノズル位置の調整量(供給ノズルの移動量)は、最大で60μmであった。
(c)供給ノズル位置の調整は、常にではなく散発的に発生し、冷却ロールの表面に対して研削および研磨処理を施した後や、ロール交換を行った直後に発生する場合があった。また、供給ノズル位置の調整が行われた冷却ロールの表面に対して研削および研磨処理を施すと、供給ノズル位置の調整が発生しなくなる場合もあった。
その他、ノズルを支持している架台も電動リニアシリンダにて昇降するシステムにより位置制御されており、供給ノズル・ロール間距離の制御と同時に制御を実施させるに伴い常時位置については確認しているため、架台の位置を調べてみても特に問題となるようなデータはなかった。
(1)溶融金属を、その供給ノズルから回転する冷却ロールの表面に供給し、前記溶融金属を急冷凝固させてアモルファス合金薄帯を連続的に製造するに当たり、前記冷却ロールの最大偏心量に基づいて前記供給ノズルと前記冷却ロールの表面との間の距離を調整することを特徴とするアモルファス合金薄帯の製造方法。
y≧5x−150 (A)
y≧5x−150 (A)
図1に示した銅製の冷却単ロールを有する装置100に、図5に示した構成を適用した装置を用いて、アモルファス合金薄帯をFe-Si-B-Mn系のアモルファス合金薄帯を製造した。まず、Fe82Si10B7Mn1(atomic%)の原料を高周波溶解炉により溶解し、得られた溶融金属を供給ノズルから回転する冷却ロールの表面に供給して溶融金属を急冷凝固させ、幅150mm、厚さ25μmのアモルファス合金薄帯を200kg製造した。その際、供給ノズル・ロール間距離を200μmとし、冷却ロールの回転数は、板厚が25μmで一定となるように制御した。製造中、渦流計により冷却ロールの最大偏心量を測定したところ、60μmであった。
発明例1における装置に、図6に示したガタ殺しをさらに設けた装置を用いて、アモルファス合金薄帯をFe-Si-B-Mn系のアモルファス合金薄帯を製造した。その他の条件は発明例1と全て同じである。製造中、渦流計により冷却ロールの最大偏心量を測定したところ、45、35および27μmであった。
発明例1と同様に、Fe-Si-B-Mn系のアモルファス合金薄帯を200kg製造した。ただし、製造は図1に示した装置により行った。その他の条件は発明例1と全て同じである。製造中、渦流計により冷却ロールの最大偏心量を測定したところ、80および100μmであった。
発明例1および2、ならびに比較例の磁気特性のばらつきを評価するために、それぞれに対して比透磁率および磁束密度を1000mごとに測定してそれぞれの平均値を求め、所期した比透磁率からのずれを評価した。ここで、比透磁率の測定は、得られたアモルファス合金薄帯をコイルから切り出しエプスタイン試験片を作製し、エプスタイン試験によりB−H曲線、ヒステリシス損、透磁率、鉄損等を測定した。その際、単一のアモルファス合金薄帯に対する測定値およびリコイルラインに対する測定値の平均値を求め、得られた値を比透磁率の測定値とした。その結果、所期した比透磁率が2×104であるのに対して、発明例1の比透磁率は2.5×104(平均値)、発明例2の比透磁率は2.8×104(平均値)、比較例の比透磁率は2.0×104(平均値)であった。
一方、磁束密度の測定は、800A/mの磁場を印加して、同様にエプスタイン試験により測定した。その結果、発明例および比較例の磁束密度は、双方ともに1.5T以上(平均値)であった。
また鉄損については、50Hz、1.5Tで、比較例では0.42W/kgであったのに対し、発明例1では0.39W/kg、発明例2では0.38W/kgであった。
このように、発明例1および2と比較例とでは、磁束密度の差はほとんどなかったが、発明例1および2の比透磁率は比較例よりも大きく、発明例1および2の方が、比較例よりも所期した比透磁率からの低下が小さいことが分かる。また、発明例1と発明例2とを比較すると、発明例2の比透磁率が発明例1よりも大きく、比較例2に用いた装置により冷却ロールの最大偏心量をさらに低減して、所期した比透磁率からの低下をさらに抑制できることが分かる。
12 供給ノズル
13 アモルファス合金薄帯
14 冷却ロール
14a 軸
15 ドレッシング手段
16 台
17 ハウジング
18 調心手段
19 ロールチョック
19a ベアリング
20 加速度センサー
21 断熱レンガ
22 ノズルカセット
23 レーザー距離計
23a 投光機
23b 受光機
24 ガタ殺し
25 ヒーター
100 アモルファス合金薄帯製造装置
M 溶融金属
P パドル
Claims (2)
- 溶融金属を、その供給ノズルから回転する冷却ロールの表面に供給し、前記溶融金属を急冷凝固させてアモルファス合金薄帯を連続的に製造するに当たり、
前記冷却ロールの最大偏心量に基づいて前記供給ノズルと前記冷却ロールの表面との間の距離を調整し、
前記供給ノズルと前記冷却ロールの表面との間の距離y(μm)は、前記冷却ロールの最大偏心量x(μm)に関して以下の式(A)を満足することを特徴とするアモルファス合金薄帯の製造方法。
y≧5x−150 (A) - 前記供給ノズルと前記冷却ロールの表面との間の距離は150μm以上800μm以下である、請求項1に記載の製造方法。
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JP2013227443A JP5962630B2 (ja) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | アモルファス合金薄帯の製造方法 |
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JP2013227443A JP5962630B2 (ja) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | アモルファス合金薄帯の製造方法 |
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