JP5960533B2 - 配線基板およびそれを備えた実装構造体 - Google Patents
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Description
以下に、本発明の一実施形態にかかる配線基板を含む実装構造体を、図面を参照しつつ詳細に説明する。
電子部品2は、例えばICまたはLSIなどの半導体素子などであり、半田などの導電材料を含むバンプ4を介して、配線基板3にフリップチップ実装されている。この電子部品2は、例えば、シリコン、ゲルマニウム、ガリウム砒素、ガリウム砒素リン、窒化ガリウムまたは炭化ケイ素などの半導体材料から形成されている。
配線基板3は、コア基板5と、コア基板5の両主面に配された一対のビルドアップ層6とを含んでいる。なお、ここで「上」および「下」とは、コア基板5の電子部品2側に配されたビルドアップ層6については、電子部品2側を「上」とし、コア基板5側を「下」としている。また、コア基板5の電子部品2とは反対側に配されたビルドアップ層6については、電子部品2側を「下」とし、反対側を「上」としている。
コア基板5は、配線基板3のヤング率を高めるものである。このコア基板5は、基体7と、基体7の両主面に形成された一対のコア導電層8と、一対のコア導電層8同士を電気的に接続する円筒状のスルーホール導体9と、円筒状のスルーホール導体9の内部に充填された絶縁体10とを含む。
脂部(図示せず)とコア樹脂部に被覆された基材(図示せず)とを含んでいる。
ビルドアップ層6は、複数の絶縁層11と、複数のビルドアップ導電層12と、複数の貫通導体13とを含み、絶縁層11とビルドアップ導電層12とが交互に積層され、厚み方向に離れた導電層同士を貫通導体13が電気的に接続している。
絶縁層11は、ビルドアップ層6においてビルドアップ導電層12同士や貫通導体13同士の絶縁を図るものである。この絶縁層11は、絶縁層11の下面を構成した樹脂層14と、絶縁層11の上面を構成しているとともに樹脂層14に積層された無機絶縁層15とを含む。そして、絶縁層11には、図2に示したように、無機絶縁層15を貫通して絶縁層11の上面に開口した凹部Hと、凹部Hの底面から絶縁層11の下面まで、すなわち樹脂層14を貫通した貫通孔Vとが形成されている。なお、本実施形態において、貫通孔Vの上端の開口は凹部Hの底面の全てを貫通して形成されていることから、凹部Hの側面と貫通孔Vの側面とは連続しており、その結果、凹部Hの側面は貫通孔Vの側面と繋がっている。また、厚み方向(Z方向)に沿った断面視において、凹部Hの幅は、貫通孔Vの上端の開口の幅以上に設定されている。
11のヤング率は、ナノインデンターを用いて、ISO527−1:1993に準じた測定方法によって測定される。
樹脂層14は、無機絶縁層15同士または無機絶縁層15とビルドアップ導電層12とを接着するものである。この樹脂層14は、図2に示したように、例えば、エポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂またはシアネート樹脂などの樹脂材料からなるビルドアップ樹脂部16と、ビルドアップ樹脂部16に被覆されたフィラー粒子17とを含む。
フィラー粒子17は、樹脂層14中に分散しており、樹脂層14のヤング率を向上させるとともに、樹脂層14の熱膨張量を低減するものである。このフィラー粒子17は、例えば、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、水酸化アルミニウムまたは炭酸カルシウムなどの無機絶縁材料からなる。
無機絶縁層15は、絶縁層11のヤング率を向上させるとともに、絶縁層11の熱膨張量を低減するものである。この無機絶縁層15は、図2に示したように、樹脂材料よりも熱膨張率が小さくかつヤング率が大きい無機絶縁材料からなる複数の第1無機絶縁粒子18および複数の第2無機絶縁粒子19が互いに接続している。すなわち、複数の第1無機絶縁粒子18および複数の第2無機絶縁粒子19が樹脂中に分散している場合に比べて、
複数の第1無機絶縁粒子18および複数の第2無機絶縁粒子19は互いに拘束し合っていることから、互いに流動することを抑制するので、無機絶縁層15の熱膨張率を低減し、かつヤング率を向上させることができ、その結果、絶縁層11の熱膨張量を低減でき、かつヤング率を向上させることができる。
第1無機絶縁粒子18は、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムまたは酸化カルシウムなどの無機絶縁材料からなる。中でも、電気信号の伝送特性の観点から酸化ケイ素を用いることが望ましい。また、第1無機絶縁粒子18は、非晶質体を用いることが望ましい。第1無機絶縁粒子18を非晶質体とすることで、結晶構造に起因した熱膨張率の異方性を低減することができ、無機絶縁層15におけるクラックの発生を低減できる。
第2無機絶縁粒子19は、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムまたは酸化カルシウムなどの無機絶縁材料からなり、例えば球状である。また第2無機絶縁粒子19は、第1無機絶縁粒子18と第2無機絶縁粒子19との接続強度の観点から、第1無機絶縁粒子18と同じ材料からなることが望ましい。また、第2無機絶縁粒子19は、非晶質体を用いることが望ましい。その結果、第2無機絶縁粒子19の結晶構造に起因した第2無機絶縁層23のクラックの発生を低減することができる。
ビルドアップ導電層12は、図1ないし図3に示したように電気信号を伝送する配線導体20と、貫通導体13と配線導体20とを、または厚み方向に隣接した貫通導体13同士を接続する接続導体21とを含む。
貫通導体13は、この貫通導体13が貫通する絶縁層14の上下に位置するビルドアップ導電層12同士を、接続導体21を介して相互に接続するものであり、例えば銅、銀、金、アルミニウムまたはニッケルクロムなどの導電材料からなる。
絶縁層11と同様に求められる。また、貫通導体13の幅は、貫通導体13の厚みと同様に求められる。
傾斜角A1の角度は、例えば1°以上23°以下に設定されている。また、第1傾斜角A1および第2傾斜角A2の角度は、絶縁層11の厚みと同様に、絶縁層11の断面を観察して測定する。また、第1傾斜角A1は、第2傾斜角A2の例えば2倍以上4.5倍以下に設定されている。
出することによって、接続導体21の上面および第1絶縁層11Aの上面を覆った第2絶縁層11Bの主面が出っ張ることを抑制し、ひいては電子部品2と配線基板3との接続信頼性を向上させることができる。これは、特に図9に示したように、複数の貫通導体13および複数の接続導体21を厚み方向(Z方向)に積み上げた構成の配線基板3において効果的である。
次に、前述した実装構造体1の製造方法を、図5から図8を参照しつつ説明する。
(1)第1無機絶縁粒子18および第2無機絶縁粒子19を含む固形分と、この固形分が分散した溶剤とを有する無機絶縁ゾル15xを準備する。無機絶縁ゾル15xは、例えば、固形分を10体積%以上50体積%以下含み、溶剤を50%体積以上90体積%以下含む。また、無機絶縁ゾル15xの固形分は、例えば、第1無機絶縁粒子18を20体積%以上90体積%以下含み、第2無機絶縁粒子19を10体積%以上80体積%以下含む。
よって無機絶縁ゾル15xの収縮が規制されることとなる。その結果、無機絶縁ゾル15xの収縮に起因するクラックの発生を低減することができる。
(6)コア樹脂部と、コア樹脂部に被覆された基材とを含む基体7を準備し、基体7を厚み方向に貫通するスルーホール導体9を形成し、基体7上にコア導電層8を形成する。具体的には、以下のように行なう。
ーホールを複数形成する。次に、例えば無電解めっき、蒸着法、CVD法またはスパッタリング法などにより、スルーホールの内壁に導電材料を被着させて、円筒状のスルーホール導体9を形成する。次に、円筒状のスルーホール導体9の内部に、樹脂材料などを充填し、絶縁体10を形成する。次に、例えば無電解めっき法、蒸着法、CVD法またはスパッタリング法などにより、導電材料を絶縁体10の露出部に被着させる。次に、フォトリソグラフィー技術、エッチングなどを用いて被着した導電材料を任意にパターニングすることによって、コア導電層8を形成する。
(7)図5(b)に示したように、コア導電層8を樹脂前駆体14xが被覆するように、積層シート23を積層した積層体24を準備する。次いで、積層体24を上下方向に加熱加圧することによって、無機絶縁層15の間隙Gにさらに樹脂前駆体14xの一部を充填するとともに、積層体24の樹脂前駆体14xを熱硬化させて樹脂層14とし、無機絶縁層15の間隙Gに樹脂層14の一部が充填した絶縁層11を作製する。
機絶縁粒子19と第1無機絶縁粒子18との結合が切断されやすくなる。
(11)図8に示したように、前述した配線基板3の一主面上に電子部品2をフリップチップ実装することにより、電子部品2がバンプ4を介して接続導体21と電気的に接続された実装構造体1を作製することができる。
2 電子部品
3 配線基板
4 バンプ
5 コア基板
6 ビルドアップ層
7 基体
8 コア導電層
9 スルーホール導体
10 絶縁体
11 絶縁層
12 ビルドアップ導電層
13 貫通導体
14 樹脂層
14x 樹脂前駆体
15 無機絶縁層
15x 無機絶縁ゾル
16 ビルドアップ樹脂部
17 フィラー粒子
18 第1無機絶縁粒子
19 第2無機絶縁粒子
20 配線導体
21 接続導体
22 支持シート
23 積層シート
24 積層体
25 レジスト膜
A1 第1傾斜角
A2 第2傾斜角
B1 接続導体21の第1底面
B2 接続導体21の第2底面
C 隙間
D 窪み部
E 角部
G 間隙
G1 第1間隙
G2 第2間隙
H 凹部
L1 第1仮想線分
L2 第2仮想線分
P 突起部
V 貫通孔
Claims (8)
- コア基板の主面にビルドアップ層を有する配線基板であって、前記ビルドアップ層が、上面に開口した凹部および該凹部の底面から下面に貫通した貫通孔が形成された第1絶縁層と、前記貫通孔内に配された貫通導体と、前記凹部内に配されて前記貫通導体に接続された接続導体と、前記第1絶縁層の上面および前記接続導体の上面を覆った第2絶縁層とを備え、
前記凹部の側面は、前記貫通孔の側面と繋がっており、
前記凹部の側面は、厚み方向に沿った断面視において、前記第1絶縁層の上面側から前記第1絶縁層の下面側にかけて、前記凹部の内側に傾斜しているとともに、
前記接続導体の側面と前記凹部の側面との間には、前記第1絶縁層の上面側に開口した隙間が形成されており、
前記第2絶縁層の一部は、前記隙間に配されていることを特徴とする配線基板。 - 請求項1に記載の配線基板において、
前記隙間は、前記接続導体の前記側面と前記凹部の前記側面とが接する角部を具備し、
該角部は、厚み方向に沿った断面視において、鋭角であることを特徴とする配線基板。 - 請求項1に記載の配線基板において、
前記貫通孔の側面は、厚み方向に沿った断面視において、前記第1絶縁層の上面側から前記第1絶縁層の下面側にかけて、前記貫通孔の内側に傾斜しており、
厚み方向に対する前記凹部の側面の傾斜角は、厚み方向に対する前記貫通孔の側面の傾斜角よりも大きいことを特徴とする配線基板。 - 請求項1に記載の配線基板において、
前記第1絶縁層は、互いの一部で接続した複数の第1無機絶縁粒子と、該第1無機絶縁粒子の粒径よりも大きい、それぞれが該複数の第1無機絶縁粒子と互いの一部で接続した複数の第2無機絶粒子とを含んだ無機絶縁層を有し、
前記第2絶縁層は、樹脂層を有し、
前記隙間において、前記第1絶縁層の前記無機絶縁層と前記第2絶縁層の前記樹脂層とが接していることを特徴とする配線基板。 - 請求項4に記載の配線基板において、
前記凹部の側面には、前記第2無機絶縁粒子が突出してなる複数の突起部が形成されてお
り、
前記第2絶縁層の前記樹脂層は、前記複数の突起部を覆っていることを特徴とする配線基板。 - 請求項5に記載の配線基板において、
前記第1絶縁層の上面に配されているとともに、一部が前記凹部の側面に配されて前記接続導体と接続した配線導体をさらに備え、
前記配線導体の一部は、前記複数の突起部の一部を覆っていることを特徴とする配線基板。 - 請求項2に記載の配線基板において、
前記接続導体の側面は、厚み方向に沿った断面視において、前記角部から前記接続導体の上面にかけて、前記凹部の内側に傾斜していることを特徴とする配線基板。 - 請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の配線基板と、該配線基板の一主面上に実装されて前記接続導体に電気的に接続された電子部品とを備えた実装構造体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012166501A JP5960533B2 (ja) | 2012-07-27 | 2012-07-27 | 配線基板およびそれを備えた実装構造体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2014027115A JP2014027115A (ja) | 2014-02-06 |
JP5960533B2 true JP5960533B2 (ja) | 2016-08-02 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2012166501A Active JP5960533B2 (ja) | 2012-07-27 | 2012-07-27 | 配線基板およびそれを備えた実装構造体 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP5960533B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09215323A (ja) * | 1996-02-06 | 1997-08-15 | Fuji Electric Co Ltd | スイッチング電源装置 |
JPH10326971A (ja) * | 1997-05-26 | 1998-12-08 | Ngk Spark Plug Co Ltd | プリント配線板 |
JP3878663B2 (ja) * | 1999-06-18 | 2007-02-07 | 日本特殊陶業株式会社 | 配線基板の製造方法及び配線基板 |
WO2012029622A1 (ja) * | 2010-08-31 | 2012-03-08 | 京セラ株式会社 | 配線基板およびその実装構造体 |
-
2012
- 2012-07-27 JP JP2012166501A patent/JP5960533B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014027115A (ja) | 2014-02-06 |
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