JP5952399B2 - 放射源、リソグラフィ装置のための方法及びデバイス製造方法 - Google Patents
放射源、リソグラフィ装置のための方法及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5952399B2 JP5952399B2 JP2014523258A JP2014523258A JP5952399B2 JP 5952399 B2 JP5952399 B2 JP 5952399B2 JP 2014523258 A JP2014523258 A JP 2014523258A JP 2014523258 A JP2014523258 A JP 2014523258A JP 5952399 B2 JP5952399 B2 JP 5952399B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fuel
- cavity
- supply chamber
- radiation source
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
- H05G2/005—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas containing a metal as principal radiation generating component
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B17/00—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups
- B05B17/04—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods
- B05B17/06—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations
- B05B17/0607—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations generated by electrical means, e.g. piezoelectric transducers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
- H05G2/006—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas details of the ejection system, e.g. constructional details of the nozzle
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B1/00—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means
- B05B1/02—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape
- B05B1/08—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape of pulsating nature, e.g. delivering liquid in successive separate quantities ; Fluidic oscillators
- B05B1/083—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape of pulsating nature, e.g. delivering liquid in successive separate quantities ; Fluidic oscillators the pulsating mechanism comprising movable parts
- B05B1/086—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape of pulsating nature, e.g. delivering liquid in successive separate quantities ; Fluidic oscillators the pulsating mechanism comprising movable parts with a resiliently deformable element, e.g. sleeve
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B1/00—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means
- B05B1/24—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means incorporating means for heating the liquid or other fluent material, e.g. electrically
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
[001] 本願は、2011年8月5日に出願した米国仮出願第61/515,716号の優先権を主張し、その全体を本願に参考として組み込む。
Claims (19)
- 燃料の小滴の流れを提供する燃料小滴ジェネレータと、 前記燃料の小滴のうちの少なくとも一部を気化させて放射を生成する少なくとも1つのレーザと、を備える放射源であって、
前記燃料小滴ジェネレータは、駆動空洞と接触している外面を有する供給チャンバを有し、
前記駆動空洞は、前記駆動空洞に動作可能に接続されたバイブレータによる振動を受けて駆動可能とされた液体で満たされるように構成されており、前記振動は、前記液体を通って前記供給チャンバの前記外面から前記供給チャンバ内の前記溶融燃料に伝達可能である、放射源。 - 前記燃料小滴ジェネレータは、ノズルと、リザーバと、前記リザーバから前記供給チャンバを通って前記ノズルから前記小滴の流れとして出る溶融状態の燃料流を供給するポンプと、をさらに有する、請求項1に記載の放射源。
- 前記供給チャンバは、第1の共振周波数を有し、前記駆動空洞は、第2の共振周波数を有する、請求項1又は2に記載の放射源。
- 前記駆動空洞は、前記駆動空洞の前記第2の共振周波数が可変となるようにチューニングデバイスを有する、請求項1から3の何れか一項に記載の放射源。
- 前記駆動空洞は、前記供給チャンバの前記外面と直接的に接触する第1の空洞を有し、前記第1の空洞は、連結チューブの内腔を通って第2の空洞と流体連結し、前記第2の空洞は、前記第2の空洞に動作可能に接続されたバイブレータを有し、前記第1の空洞、前記第2の空洞及び前記連結チューブは、前記液体で満たされ、前記第1の空洞は、前記第2の空洞から前記液体を通りかつ前記連結チューブを通る前記振動の音響伝達による振動を受けるように駆動可能である、請求項1から3の何れか一項に記載の放射源。
- 前記第2の空洞は、チューニングデバイスを有し、それにより、前記駆動空洞の前記第2の共振周波数は可変となる、請求項5に記載の放射源。
- 前記バイブレータは、前記第2の空洞の外壁を振動させて、前記液体が使用中に振動を受けるように前記液体を駆動する、請求項5又は6に記載の放射源。
- 前記燃料小滴ジェネレータは、使用中、前記燃料を溶融状態に維持するために必要な温度より低い温度で前記バイブレータを維持する冷却デバイスを有する、請求項1から7の何れか一項に記載の放射源。
- 前記燃料小滴ジェネレータは、使用中、前記燃料を溶融状態に維持するために必要な温度より低い温度で前記第2の空洞及び前記バイブレータを維持する冷却デバイスを有する、請求項5から7の何れか一項に記載の放射源。
- 前記冷却デバイスは、前記第2の空洞及び前記バイブレータを取り囲む冷却チャンバである、請求項9に記載の放射源。
- 前記バイブレータは、圧電アクチュエータであり、前記冷却デバイスは、使用中、前記圧電アクチュエータのキュリー温度より低い温度で前記圧電アクチュエータを維持する、請求項8から10の何れか一項に記載の放射源。
- 前記供給チャンバは、前記ノズルと直接的に流体連結している、請求項2に記載の放射源。
- 前記供給チャンバは、キャピラリチューブであり、前記ノズルは、前記キャピラリチューブの遠位端における狭窄部である、請求項12に記載の放射源。
- 前記供給チャンバは、実質的に、前記リザーバから音響的に分離されている、請求項2に記載の放射源。
- 前記燃料は、5×10−6m2より小さい断面積を有する絞り穴を通って前記供給チャンバに入る、請求項14に記載の放射源。
- 前記液体は、使用中の前記液体の空洞化を抑制するために大気圧を十分に超える圧力で維持される、請求項1から15の何れか一項に記載の放射源。
- 放射ビームを生成する請求項1から16の何れか一項に記載の放射源と、
前記放射源を調整する照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、を備える、
リソグラフィ装置。 - 放射源のための燃料の小滴の流れを提供する燃料小滴ジェネレータであって、
ノズルと、
駆動空洞と接触している外面を有する供給チャンバであって、前記駆動空洞は、前記駆動空洞に動作可能に接続されたバイブレータによる振動を受けるように駆動可能に配置された液体で満たされ、前記振動は、前記供給チャンバの前記外面から前記液体を通って前記供給チャンバ内の前記溶融燃料に伝達可能である、供給チャンバと、
リザーバと、
前記リザーバから前記供給チャンバを通って前記ノズルから小滴の流れとして出る溶融状態の燃料流を供給するポンプと、
を備える、燃料小滴ジェネレータ。 - リザーバから供給チャンバを通ってノズルから出るように溶融燃料をポンプで注入するステップであって、前記供給チャンバは、液体で満たされた第1の空洞と接触している外面を有する、ステップと、
バイブレータによる振動を受けるように前記第1の空洞を駆動するステップであって、前記振動は、前記液体及び前記供給チャンバの前記外面を通って前記供給チャンバ内の前記燃料に伝達される、ステップと、
前記ノズルから燃料小滴の流れを放出するステップと、
レーザによって前記燃料の小滴のうちの少なくとも一部を気化させて放射を生成するステップと、
を含む、方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201161515716P | 2011-08-05 | 2011-08-05 | |
US61/515,716 | 2011-08-05 | ||
PCT/EP2012/063019 WO2013020758A1 (en) | 2011-08-05 | 2012-07-04 | Radiation source and method for lithographic apparatus and device manufacturing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014529840A JP2014529840A (ja) | 2014-11-13 |
JP5952399B2 true JP5952399B2 (ja) | 2016-07-13 |
Family
ID=46583965
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014523258A Expired - Fee Related JP5952399B2 (ja) | 2011-08-05 | 2012-07-04 | 放射源、リソグラフィ装置のための方法及びデバイス製造方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8866111B2 (ja) |
EP (1) | EP2745648B1 (ja) |
JP (1) | JP5952399B2 (ja) |
KR (1) | KR20140052012A (ja) |
CN (1) | CN103718654B (ja) |
NL (1) | NL2009117A (ja) |
TW (1) | TWI576014B (ja) |
WO (1) | WO2013020758A1 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8881526B2 (en) | 2009-03-10 | 2014-11-11 | Bastian Family Holdings, Inc. | Laser for steam turbine system |
NL2011533A (en) * | 2012-10-31 | 2014-05-06 | Asml Netherlands Bv | Method and apparatus for generating radiation. |
JP6263196B2 (ja) | 2012-11-30 | 2018-01-17 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 液滴ジェネレータ、euv放射源、リソグラフィ装置、液滴を生成する方法及びデバイス製造方法 |
KR101378382B1 (ko) * | 2013-10-17 | 2014-03-24 | 주식회사 펩트론 | 무균공정용 초음파 분무장치 |
KR101378383B1 (ko) * | 2013-10-17 | 2014-03-24 | 주식회사 펩트론 | 무균공정용 초음파 분무장치 |
WO2016084167A1 (ja) | 2014-11-26 | 2016-06-02 | ギガフォトン株式会社 | 加振ユニット、ターゲット供給装置および極端紫外光生成システム |
NL2018004A (en) * | 2015-12-17 | 2017-06-26 | Asml Netherlands Bv | Droplet generator for lithographic apparatus, euv source and lithographic apparatus |
WO2017102261A1 (en) * | 2015-12-17 | 2017-06-22 | Asml Netherlands B.V. | Nozzle and droplet generator for euv source |
EP3490720B1 (en) * | 2016-07-26 | 2021-06-16 | Molex, LLC | Capillary for use in a droplet generator |
WO2018069976A1 (ja) * | 2016-10-11 | 2018-04-19 | ギガフォトン株式会社 | ターゲット供給装置 |
CN109116683B (zh) * | 2017-06-23 | 2021-03-02 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 喷嘴模块、光刻装置及其操作方法 |
WO2019180826A1 (ja) * | 2018-03-20 | 2019-09-26 | ギガフォトン株式会社 | ターゲット供給装置、極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法 |
KR20200135798A (ko) * | 2018-03-28 | 2020-12-03 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 액적 생성기 성능을 모니터링 및 제어하는 장치 및 방법 |
WO2020068598A1 (en) | 2018-09-24 | 2020-04-02 | Asml Netherlands B.V. | Target formation apparatus |
US20230028848A1 (en) * | 2019-12-20 | 2023-01-26 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus for and method of monitoring droplets in a droplet stream |
JP7491737B2 (ja) | 2020-05-21 | 2024-05-28 | ギガフォトン株式会社 | ターゲット供給装置、ターゲット供給方法、及び電子デバイスの製造方法 |
CN112540513B (zh) * | 2021-01-07 | 2024-03-29 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 一种用于euv光源的熔融液滴发生装置 |
TW202337273A (zh) * | 2021-11-22 | 2023-09-16 | 荷蘭商Asml荷蘭公司 | 用於將液態靶材供給至輻射源之裝置 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4380018A (en) | 1980-06-20 | 1983-04-12 | Sanyo Denki Kabushiki Kaisha | Ink droplet projecting device and an ink jet printer |
JPS61153936A (ja) | 1984-12-26 | 1986-07-12 | Toshiba Corp | プラズマx線発生装置 |
US5560543A (en) * | 1994-09-19 | 1996-10-01 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Heat-resistant broad-bandwidth liquid droplet generators |
FR2801113B1 (fr) * | 1999-11-15 | 2003-05-09 | Commissariat Energie Atomique | Procede d'obtention et source de rayonnement extreme ultra violet, application en lithographie |
DE10013450B4 (de) | 2000-03-17 | 2006-05-04 | Degussa Ag | Vorrichtung zur Erzeugung monodisperser Tropfen |
US6562099B2 (en) * | 2000-05-22 | 2003-05-13 | The Regents Of The University Of California | High-speed fabrication of highly uniform metallic microspheres |
US7405416B2 (en) | 2005-02-25 | 2008-07-29 | Cymer, Inc. | Method and apparatus for EUV plasma source target delivery |
DE102004036441B4 (de) * | 2004-07-23 | 2007-07-12 | Xtreme Technologies Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Dosieren von Targetmaterial für die Erzeugung kurzwelliger elektromagnetischer Strahlung |
WO2006075535A1 (ja) * | 2005-01-12 | 2006-07-20 | Nikon Corporation | レーザプラズマeuv光源、ターゲット部材、テープ部材、ターゲット部材の製造方法、ターゲットの供給方法、及びeuv露光装置 |
JP5215540B2 (ja) * | 2006-07-18 | 2013-06-19 | ギガフォトン株式会社 | ターゲット物質供給装置 |
JP5076087B2 (ja) * | 2006-10-19 | 2012-11-21 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置及びノズル保護装置 |
US7696492B2 (en) * | 2006-12-13 | 2010-04-13 | Asml Netherlands B.V. | Radiation system and lithographic apparatus |
NL1035846A1 (nl) * | 2007-08-23 | 2009-02-24 | Asml Netherlands Bv | Radiation source. |
NL1036614A1 (nl) * | 2008-03-21 | 2009-09-22 | Asml Netherlands Bv | A target material, a source, an EUV lithographic apparatus and a device manufacturing method using the same. |
NL2003152A1 (nl) * | 2008-08-14 | 2010-02-16 | Asml Netherlands Bv | Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method. |
JP5670619B2 (ja) * | 2009-02-06 | 2015-02-18 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置 |
US20120280148A1 (en) * | 2010-01-07 | 2012-11-08 | Asml Netherlands B.V. | Euv radiation source and lithographic apparatus |
US8598551B2 (en) * | 2010-01-07 | 2013-12-03 | Asml Netherlands B.V. | EUV radiation source comprising a droplet accelerator and lithographic apparatus |
CN103733735B (zh) * | 2011-08-12 | 2016-05-11 | Asml荷兰有限公司 | 辐射源 |
NL2009358A (en) * | 2011-09-23 | 2013-03-26 | Asml Netherlands Bv | Radiation source. |
NL2009359A (en) * | 2011-09-23 | 2013-03-26 | Asml Netherlands Bv | Radiation source. |
-
2012
- 2012-07-04 NL NL2009117A patent/NL2009117A/en not_active Application Discontinuation
- 2012-07-04 CN CN201280036635.6A patent/CN103718654B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-07-04 WO PCT/EP2012/063019 patent/WO2013020758A1/en active Application Filing
- 2012-07-04 US US14/233,116 patent/US8866111B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-07-04 JP JP2014523258A patent/JP5952399B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2012-07-04 KR KR1020147006032A patent/KR20140052012A/ko not_active Application Discontinuation
- 2012-07-04 EP EP12740518.1A patent/EP2745648B1/en not_active Not-in-force
- 2012-07-20 TW TW101126374A patent/TWI576014B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI576014B (zh) | 2017-03-21 |
KR20140052012A (ko) | 2014-05-02 |
WO2013020758A1 (en) | 2013-02-14 |
JP2014529840A (ja) | 2014-11-13 |
TW201313073A (zh) | 2013-03-16 |
US8866111B2 (en) | 2014-10-21 |
EP2745648A1 (en) | 2014-06-25 |
NL2009117A (en) | 2013-02-06 |
US20140160450A1 (en) | 2014-06-12 |
CN103718654A (zh) | 2014-04-09 |
CN103718654B (zh) | 2016-04-20 |
EP2745648B1 (en) | 2016-01-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5952399B2 (ja) | 放射源、リソグラフィ装置のための方法及びデバイス製造方法 | |
JP6845245B2 (ja) | 液滴ジェネレータ及びレーザ生成プラズマ放射源 | |
JP6263196B2 (ja) | 液滴ジェネレータ、euv放射源、リソグラフィ装置、液滴を生成する方法及びデバイス製造方法 | |
TWI586223B (zh) | 輻射源燃料小滴串流產生器、微影裝置及增進輻射源燃料小滴之聚結的方法 | |
TW202044926A (zh) | 目標傳遞系統 | |
JP6824985B2 (ja) | Euvソースのためのノズル及び液滴発生器 | |
JP7473534B2 (ja) | ターゲット形成装置 | |
TWI840411B (zh) | 目標形成設備 | |
KR102297812B1 (ko) | 방사선 소스 및 리소그래피 장치 | |
JP2022059264A (ja) | 極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150626 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160413 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160413 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160516 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160607 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160609 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5952399 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |