KR20140052012A - 리소그래피 장치에 대한 방법 및 방사선 소스 및 디바이스 제조 방법 - Google Patents

리소그래피 장치에 대한 방법 및 방사선 소스 및 디바이스 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20140052012A
KR20140052012A KR1020147006032A KR20147006032A KR20140052012A KR 20140052012 A KR20140052012 A KR 20140052012A KR 1020147006032 A KR1020147006032 A KR 1020147006032A KR 20147006032 A KR20147006032 A KR 20147006032A KR 20140052012 A KR20140052012 A KR 20140052012A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
fuel
cavity
supply chamber
liquid
nozzle
Prior art date
Application number
KR1020147006032A
Other languages
English (en)
Inventor
에릭 루프스트라
요한 디크스만
Original Assignee
에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. filed Critical 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Publication of KR20140052012A publication Critical patent/KR20140052012A/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B17/00—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups
    • B05B17/04—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods
    • B05B17/06—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations
    • B05B17/0607—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations generated by electrical means, e.g. piezoelectric transducers
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
    • H05G2/005—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas containing a metal as principal radiation generating component
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
    • H05G2/006—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas details of the ejection system, e.g. constructional details of the nozzle
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B1/00—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means
    • B05B1/02—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape
    • B05B1/08—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape of pulsating nature, e.g. delivering liquid in successive separate quantities ; Fluidic oscillators
    • B05B1/083—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape of pulsating nature, e.g. delivering liquid in successive separate quantities ; Fluidic oscillators the pulsating mechanism comprising movable parts
    • B05B1/086—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape of pulsating nature, e.g. delivering liquid in successive separate quantities ; Fluidic oscillators the pulsating mechanism comprising movable parts with a resiliently deformable element, e.g. sleeve
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B1/00—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means
    • B05B1/24—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means incorporating means for heating the liquid or other fluent material, e.g. electrically

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

LPP(Laser Produced Plasma) 또는 DLP(Dual Laser Plasma)에 의해 용융 연료 액적들의 스트림으로부터 EUV를 발생시키는 방사선 소스가 연료의 액적(314)들의 스트림을 제공하도록 배치된 연료 액적 발생기 및 연료의 액적들의 적어도 일부를 증발시켜 방사선을 발생시키도록 구성된 적어도 하나의 레이저를 갖는다. 연료 액적 발생기는 노즐(301), 공급 챔버, 및 저장부(303)를 갖고, 저장부로부터 공급 챔버를 통해 노즐 밖으로 액적들의 스트림으로서 용융 상태의 연료 유동을 공급하도록 펌핑 디바이스가 배치된다. 공급 챔버는 액체로 채워진 구동 캐비티(310)와 접촉하는 외부면을 갖고, 액체는 진동기(311)에 의해 진동하도록 구동되며, 진동은 액체를 통해 공급 챔버의 외부면으로부터 공급 챔버 내의 용융 연료로 투과가능하다. 상기 구성은 노즐 공급 챔버의 진동 구동이 연료 노즐 공급 챔버와 진동기 간의 직접 접촉의 필요 없이 연료 스트림의 액적들로의 분리를 제어하게 한다. 이는 접촉 불량을 통한 진동기로부터 공급 챔버로의 투과 손실 위험을 감소시킬 수 있고, 효율적인 작동을 위해 냉각되는 위치로 진동기를 멀리 위치시키게 할 수 있다.

Description

리소그래피 장치에 대한 방법 및 방사선 소스 및 디바이스 제조 방법{RADIATION SOURCE AND METHOD FOR LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD}
본 출원은 2011년 8월 5일에 출원된 미국 가출원 61/515,716의 이익을 주장하며, 이는 본 명세서에서 그 전문이 인용참조된다.
본 발명은 EUV 방사선 소스, 리소그래피 장치 및 디바이스들을 제조하는 방법들에 관한 것이다.
리소그래피 장치는 기판 상에, 통상적으로는 기판의 타겟부 상에 원하는 패턴을 적용시키는 기계이다. 리소그래피 장치는, 예를 들어 집적 회로(IC)의 제조 시에 사용될 수 있다. 그 경우, 대안적으로 마스크 또는 레티클이라 칭하는 패터닝 디바이스가 IC의 개별층 상에 형성될 회로 패턴을 생성하기 위해 사용될 수 있다. 이 패턴은 기판(예컨대, 실리콘 웨이퍼) 상의 (예를 들어, 다이의 부분, 한 개 또는 수 개의 다이를 포함하는) 타겟부 상으로 전사(transfer)될 수 있다. 패턴의 전사는, 통상적으로 기판 상에 제공된 방사선-감응재(레지스트)층 상으로의 이미징(imaging)을 통해 수행된다. 일반적으로, 단일 기판은 연속하여 패터닝되는 인접한 타겟부들의 네트워크를 포함할 것이다.
리소그래피는 IC, 및 다른 디바이스 및/또는 구조체의 제조 시 핵심 단계들 중 하나로서 폭넓게 인식된다. 하지만, 리소그래피를 이용하여 구성되는 피처들의 치수들이 더 작아짐에 따라, 리소그래피는 소형 IC 또는 다른 디바이스들 및/또는 구조체들이 제조될 수 있게 하는데 더 결정적인 인자(critical factor)가 되고 있다.
패턴 프린팅의 한계들의 이론적 추산은 수학식 1에 나타낸 바와 같은 분해능에 대한 레일리 기준(Rayleigh criterion)에 의해 설명될 수 있다:
Figure pct00001
이때, λ는 사용되는 방사선의 파장이고, NA는 패턴을 프린트하는데 사용되는 투영 시스템의 개구수(numerical aperture)이며, k1은 레일리 상수라고도 칭하는 공정 의존성 조정 인자(process dependent adjustment factor)이고, CD는 프린트된 피처의 피처 크기(또는 임계 치수)이다. 수학식 1에 따르면, 피처들의 프린트가능한 최소 크기의 감소는 세 가지 방식으로: 즉, 노광 파장 λ를 단축함으로써, 개구수 NA를 증가시킴으로써, 또는 k1의 값을 감소시킴으로써 얻어질 수 있다.
노광 파장을 단축하고, 이에 따라 프린트가능한 최소 크기를 감소시키기 위해, 극자외(EUV) 방사선 소스를 사용하는 것이 제안되었다. EUV 방사선은 5 내지 20 nm의 범위, 예를 들어 13 내지 14 nm의 범위, 예를 들어 6.7 nm 또는 6.8 nm와 같이 5 내지 10 nm의 범위 내의 파장을 갖는 전자기 방사선이다. 가능한 소스들로는, 예를 들어 레이저-생성 플라즈마 소스, 방전 플라즈마 소스, 또는 전자 저장 링에 의해 제공되는 싱크로트론 방사선(synchrotron radiation)에 기초한 소스들을 포함한다.
EUV 방사선은 플라즈마를 이용하여 생성될 수 있다. EUV 방사선을 생성하는 방사선 시스템은 플라즈마를 제공하도록 연료를 여기(excite)시키는 레이저, 및 플라즈마를 수용하는 소스 컬렉터 모듈을 포함할 수 있다. 플라즈마는, 예를 들어 Xe 가스 또는 Li 증기와 같은 적절한 가스 또는 증기의 스트림, 또는 적절한 재료(예컨대, 주석)의 입자들 또는 액적(droplet)들과 같은 연료에 레이저 빔을 지향함으로써 생성될 수 있다. 결과적인 플라즈마는 출력 방사선(output radiation), 예를 들어 EUV 방사선을 방출하고, 이는 방사선 컬렉터를 이용하여 수집된다.
방사선 컬렉터는 거울로 이루어진 수직 입사 방사선 컬렉터(mirrored normal incidence radiation collector)일 수 있으며, 이는 방사선을 수용하고 방사선을 빔으로 포커스한다. 소스 컬렉터 모듈은 플라즈마를 지지하기 위해 진공 환경을 제공하도록 배치된 포위 구조체(enclosing structure) 또는 챔버를 포함할 수 있다. 이러한 방사선 시스템은 전형적으로 레이저 생성 플라즈마(LPP) 소스라고 칭해진다.
또한, 방사선을 발생시키는 플라즈마가 생성되는 연료로서 용융 연료 액적들이 사용되는 경우, 제 1 레이저 빔이 플라즈마 및 후속하여 방사선을 발생시키기 위하여 액적들 상에 입사하기 전에 연료 액적들을 예열하도록 제 2 레이저가 제공될 수 있다. 이 접근법을 사용하는 LPP 소스는 DLP(dual laser pulsing) 소스라고 칭해질 수 있다.
방사선 소스의 플라즈마 형성 위치에 용융 연료의 액적들의 스트림을 제공하도록 연료 액적 발생기(fuel droplet generator)가 배치될 수 있다.
연료 액적 발생기들은 노즐을 포함할 수 있으며, 이를 통해 용융 연료가 압력을 받아 액적들의 스트림으로서 노즐로부터 주입되게 된다. 노즐로부터 나오는 액체의 스트림의 자연적 분리(natural break-up)는 레일리 분리라고 알려져 있다. 노즐의 액적 생성률에 대응하는 레일리 주파수(Rayleigh frequency)는, 수학식 2에 나타낸 바와 같이 노즐의 직경 및 노즐에서의 연료의 평균 속도와 관련된다:
Figure pct00002
연료의 스트림의 레일리 분리는 자극(excitation) 없이 일어날 수 있지만, 노즐에서의 용융 연료의 압력을 진동시키거나 변조(modulate)함으로써 레일리 분리를 제어하기 위해 압전 액추에이터와 같은 진동기(vibrator)가 사용될 수 있다. 노즐 내부의 압력을 변조하는 것은 노즐로부터의 액체 연료의 출구 속도(exit velocity)를 변조할 수 있고, 노즐을 떠난 직후에 제어되는 방식으로 액체 연료의 스트림을 액적들로 분리시킬 수 있다.
진동기에 의해 적용된 진동 주파수가 노즐의 레일리 주파수에 충분히 가까운 경우, 연료의 액적들이 형성되고, 상기 액적들은 진동기에 의해 적용된 진동 주파수 및 연료 노즐로부터의 평균 출구 속도에 의해 결정되는 거리로 이격된다. 진동기에 의해 적용된 진동 주파수가 레일리 주파수보다 실질적으로 낮은 경우, 연료 액적들의 주기적 스트림이 형성되는 대신에 연료 클라우드(cloud of fuel)들이 생성될 수 있다. 주어진 연료 클라우드는 비교적 높은 속도로 이동하는 액적들의 그룹 및 비교적 낮은 속도로 이동하는 액적들의 그룹을 포함할 수 있다(상기 속도들은 노즐을 빠져나가는 스트림의 평균 속도에 대한 것임). 이 클라우드들은 함께 합쳐져 단일 연료 액적들을 형성할 수 있다. 이 방식으로, 레일리 주파수보다 상당히 더 낮은 진동기에 대한 진동 주파수를 적용함으로써 연료 액적들의 주기적 스트림이 생성될 수 있다. 액적들 간의 간격은 여전히 평균 출구 속도 및 진동 주파수에 의해 좌우된다: 액적들 간의 간격은 진동 주파수가 감소함에 따라 증가한다.
압전 변환기들이 노즐에 진동을 적용시키는 진동기들로서 사용될 수 있다. 예를 들어, 노즐이 그 근위 단부(proximal end)에 연결된 연료 저장부(fuel reservoir)로부터 그 원위 단부(distal end)에 제한부(restriction)로서 형성된 노즐로 제공된 연료를 공급하도록 배치된 연료 공급 챔버로서 작용하는 모세관(capillary tube)의 형태인 경우, 압전 진동기는 모세관의 외부면에 접착되거나 시멘트 접합된 슬리브(sleeve)의 형태일 수 있다. 용융 주석과 같은 용융 연료의 사용은, 모세관의 외부면에 진동기를 접착하는 데 사용된 접착제 또는 시멘트가 연료 공급의 작동 온도에서 접착력을 잃지 않는 것이어야 함을 의미한다.
장시간 사용 시, 진동기와 공급 챔버의 외부면(예컨대, 모세관의 외부면) 간의 접착력이 손실되어, 공급 챔버 내의 용융 연료와 진동기 사이에 투과율 손실(즉, 열악한 음향 커플링)을 초래할 수 있다.
또한, 압전 진동기들이 공급 챔버의 외벽과의 직접 접촉으로 인해 용융 연료의 온도와 같거나 바로 아래의 온도를 가질 수 있으며, 이는 압전 진동기들이 퀴리 온도(Curie temperature) 이상에서 작동하여 낮은 효율성을 초래한다는 것을 의미할 수 있다.
압전 성질로 이루어지지 않은 진동기들은 연료를 용융 상태에 유지하는 데 필요한 고온에서 효과적으로 작동하기에 불가능할 수 있다.
본 발명의 실시예들의 일 실시형태는, 특히 앞서 설명된 문제점들 중 적어도 일부를 극복하거나 처리하는 리소그래피 방사선 소스들에서 사용되는 연료 액적들의 스트림들의 생성을 위한 장치 및 방법들, 및 이러한 스트림들의 연료 액적 크기 및 간격을 제어하는 장치 및 방법들을 제공하는 것이다. 특히, 본 발명의 실시예들의 일 실시형태는 노즐에서 연료 공급의 진동 자극(oscillatory stimulation)을 야기하는 데 사용될 수 있는 장치 및 방법들을 제공하는 것이며, 이러한 장치 및 방법들은 종래 장치 및 방법들에 대한 대안예들을 제공하고 노즐을 빠져나가는 용융 연료의 스트림의 분리에 있어서 효율적인 제어를 가능하게 한다.
본 명세서에서, "포함하는" 또는 "포함한다"라는 용어는 명시된 구성요소(들)를 포함하되 다른 구성요소들의 존재도 배제하지 않음을 의미한다. "필수적으로 구성되는" 또는 "필수적으로 구성된다"라는 용어는 명시된 구성요소들을 포함하되, 본 발명의 기술적 효과를 달성하는 것 이외의 목적을 위해 추가된 구성요소들, 명시된 구성요소들을 제공하는 데 사용된 공정들의 결과로서 존재하는 불가피한 재료들, 및 불순물들로서 존재하는 재료들을 제외한 다른 구성요소들을 배제함을 의미한다.
적절한 경우, "포함한다" 또는 "포함하는"이라는 용어의 사용은 "본질적으로 구성된다" 또는 "본질적으로 구성되는"의 의미를 포함하는 것으로 취해질 수도 있으며, "구성된다" 또는 "구성되는"의 의미를 포함하는 것으로 취해질 수도 있다.
본 명세서에서 설명되는 바와 같은 선택적인 특징 및/또는 바람직한 특징은 적절하다면 개별적으로 사용되거나 서로 조합하여 사용되며, 특히 첨부된 청구항들에서 설명되는 바와 같은 조합들로 사용된다. 또한, 본 명세서에서 설명되는 본 발명의 각 실시형태에 대한 선택적인 특징 및/또는 바람직한 특징은, 적절하다면 본 발명의 여하한의 다른 실시형태들에도 적용가능하다.
본 발명의 일 실시형태는 연료의 액적들의 스트림을 제공하도록 배치된 연료 액적 발생기, 및 상기 연료의 액적들의 적어도 일부를 증발시켜 방사선을 발생시키도록 구성된 적어도 하나의 레이저를 포함한 방사선 소스를 제공하며, 상기 연료 액적 발생기는 노즐, 공급 챔버, 저장부, 및 저장부로부터 공급 챔버를 통해 노즐 밖으로 액적들의 스트림으로서 용융 상태의 연료 유동을 공급하도록 배치된 펌핑 디바이스를 포함하고, 상기 공급 챔버는 구동 캐비티(drive cavity)와 접촉하는 외부면을 가지며, 상기 구동 캐비티는 액체로 채워지고, 상기 액체가 구동되어 구동 캐비티와 작동가능하게 연결된 진동기에 의해 진동을 받을 수 있도록 배치되며, 상기 진동은 액체를 통해 공급 챔버의 외부면으로부터 공급 챔버 내의 상기 용융 연료로 투과가능하다.
본 발명의 일 실시형태는 방사선 빔을 발생시키도록 배치된 앞서 설명된 방사선 소스를 포함한 리소그래피 장치를 제공하며, 이는 방사선 빔을 컨디셔닝(condition)하도록 구성된 조명 시스템, 패터닝된 방사선 빔을 형성하기 위해 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여할 수 있는 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성된 지지체, 기판을 유지하도록 구성된 기판 테이블, 및 상기 기판의 타겟부 상으로 패터닝된 방사선 빔을 투영하도록 구성된 투영 시스템을 더 포함한다.
본 발명의 일 실시형태는 노즐로부터 연료 액적들의 스트림을 방출하는 단계, 및 방사선을 생성하도록 연료의 액적들의 적어도 일부를 증발시키기 위해 레이저를 사용하는 단계를 포함한 방법을 제공하며, 용융 연료는 액적들의 스트림으로서 저장부로부터 공급 챔버를 통해 노즐 밖으로 펌핑되고, 상기 공급 챔버는 액체로 채워진 제 1 캐비티와 접촉하는 외부면을 가지며, 상기 제 1 캐비티는 진동기에 의해 진동을 받도록 구동되고, 상기 진동은 액체 및 공급 챔버의 외부면을 통해 공급 챔버 내의 연료로 투과된다.
앞서 설명된 본 발명의 일 실시형태에 따른 방사선 소스는 앞서 설명된 본 발명의 일 실시형태의 방법을 실행하기에 특히 적절하다.
앞서 설명된 일 실시형태에 따르고 본 발명의 다른 실시형태들에서 사용되는 방사선 소스는 연료의 액적들의 스트림을 제공하도록 배치된 연료 액적 발생기를 포함한다. 적어도 하나의 레이저가 상기 연료의 액적들의 적어도 일부를 증발시키도록 구성되며, 이로 인해 본 발명의 제 1 실시형태의 방사선 소스에 의해 방사선이 생성된다.
본 발명의 제 1 실시형태의 방사선 소스의 일부분을 형성하는 본 명세서에서 설명되는 바와 같은 연료 액적 발생기는 그 자체만으로 본 발명의 일 실시형태로서 독립적으로 간주될 수 있다는 것을 이해하여야 한다. 이에 따라, 본 발명의 일 실시형태는 방사선 소스에 대한 연료의 액적들의 스트림을 제공하는 연료 액적 발생기를 제공하며, 상기 연료 액적 발생기는 노즐, 공급 챔버, 저장부, 및 저장부로부터 공급 챔버를 통해 노즐 밖으로 액적들의 스트림으로서 용융 상태의 연료 유동을 공급하도록 배치된 펌핑 디바이스를 포함하고, 상기 공급 챔버는 구동 캐비티와 접촉하는 외부면을 가지며, 상기 구동 캐비티는 액체로 채워지고, 상기 액체가 구동되어 구동 캐비티와 작동가능하게 연결된 진동기에 의해 진동을 받을 수 있도록 배치되며, 상기 진동은 액체를 통해 공급 챔버의 외부면으로부터 공급 챔버 내의 상기 용융 연료로 투과가능하다.
본 발명의 방사선 소스는 전형적으로 EUV(극자외)와 같은 방사선을 발생시키도록 구성될 것이다. 예를 들어, EUV 방사선은 5 내지 20 nm의 범위, 예를 들어 13 내지 14 nm의 범위, 예를 들어 6.7 nm 또는 6.8 nm와 같이 5 내지 10 nm의 범위 내의 파장을 가질 수 있다.
연료 액적 발생기는 노즐, 공급 챔버, 저장부, 및 저장부로부터 공급 챔버를 통해 노즐 밖으로 액적들의 스트림으로서 용융 상태의 연료 유동을 공급하도록 배치된 펌핑 디바이스를 포함할 수 있다. 펌핑 디바이스는 단순히, 저장부로부터 공급 챔버를 통해 노즐의 유출 오리피스(outlet orifice) 밖으로 액적들의 스트림으로서 용융 상태의 연료를 내보내도록 저장부에 적용된 압력 발생기일 수 있다.
공급 챔버는 구동 캐비티와 접촉하는 외부면을 갖는다. 구동 캐비티는 액체로 채워지고, 액체가 구동되어 구동 캐비티와 작동가능하게 연결된 진동기에 의해 진동을 받을 수 있도록 배치된다. 진동은 사용 시 공급 챔버 내의 용융 연료로 투과가능하며, 액체를 통해 공급 챔버의 외부면으로부터 음파로서 투과된다.
공급 챔버는 제 1 공진 주파수를 가질 수 있고, 구동 캐비티는 제 2 공진 주파수를 가질 수 있다.
구동 캐비티는 적절하게는 튜닝 디바이스(tuning device)를 포함할 수 있으며, 이로 인해 구동 캐비티의 제 2 공진 주파수가 가변적이다.
구동 캐비티는 공급 챔버의 외부면과 직접 접촉하는 제 1 캐비티를 포함할 수 있으며, 상기 제 1 캐비티는 연결 튜브의 보어(bore)를 통해 제 2 캐비티와 유체 연결되고, 제 2 캐비티는 그에 작동가능하게 연결된 진동기를 가지며, 제 1 캐비티, 제 2 캐비티 및 연결 튜브는 액체로 채워지고, 제 1 캐비티는 구동되어 연결 튜브를 통하여 액체를 통한 제 2 캐비티로부터의 진동의 음향 투과에 의해 상기 진동을 받을 수 있다.
연결 튜브는 적절하게는 강성 벽(rigid wall) 또는 벽들을 갖는 튜브이며, 이로 인해 음향 에너지가 연결 튜브를 통하여 제 2 캐비티로부터 제 1 캐비티로 투과가능하다.
제 2 캐비티는 튜닝 디바이스를 포함할 수 있으며, 이로 인해 구동 캐비티의 제 2 공진 주파수가 가변적이다. 튜닝 디바이스는, 예를 들어 제 2 캐비티의 용적(volume)을 조정하는 디바이스일 수 있다.
진동기는 적절하게는, 사용 시 제 2 캐비티의 외벽을 진동시키도록 배치되어 액체가 진동을 받도록 구동될 수 있다. 이에 따라 제 2 캐비티 내의 액체가 진동되고, 진동은 연결 튜브를 통해 음향 에너지로서 제 1 캐비티로 투과되어 공급 챔버 내의 용융 연료를 구동시킬 수 있다.
연료 액적 발생기는, 사용 시 진동기를 용융 상태의 연료를 유지하는 데 필요한 온도보다 낮은 온도로 유지하도록 배치된 냉각 디바이스를 포함할 수 있다.
또한, 예를 들어 사용 시 진동기는 약 50 ℃ 이하, 예를 들어 약 30 ℃ 이하와 같이, 100 ℃ 이하의 온도에 유지될 수 있다.
냉각 디바이스는, 사용 시 진동기 및 제 2 캐비티를 용융 상태의 연료를 유지하는 데 필요한 온도보다 낮은 온도로 유지하도록 배치된 냉각 디바이스를 포함할 수 있다. 냉각 디바이스는 제 2 캐비티 및 진동기를 둘러싸는 냉각 챔버를 포함할 수 있다.
진동기는 압전 액추에이터일 수 있으며, 냉각 디바이스는 사용 시 압전 액추에이터를 압전 액추에이터의 퀴리 온도보다 낮은 온도로 유지하도록 배치될 수 있다. 압전 액추에이터는 그 퀴리 온도 이상의 온도에서 여전히 효과적으로 진동시키고 진동기로서 작용할 수 있지만, 압전 재료들은 퀴리 온도 아래의 온도에서 작동되는 경우에 상당히 더 효율적이다.
진동기는 적절하게는 굽힘 모드(bending mode)에서 구동되는 압전 액추에이터일 수 있다.
공급 챔버는 노즐과 직접 유체 연결될 수 있다. 예를 들어, 공급 챔버는 모세관일 수 있고, 노즐은 모세관의 원위 단부에서 좁아지는 부분(narrowing)일 수 있다.
공급 챔버는 공급 저장부로부터 실질적으로 음향 디커플링(decouple)되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 연료는 공급 챔버로부터 저장부로의 음향 에너지의 투과를 최소화하도록 배치된 제한부, 예를 들어 5×10-6 ㎡보다 작은 단면적을 갖는 제한부를 통해 공급 챔버로 들어갈 수 있다.
액체는, 사용 시 액체의 캐비테이션(cavitation)을 억제하도록 기압을 충분히 넘는 압력으로 유지될 수 있다. 적절하게는, 액체는 가스 제거된다. 예를 들어, 액체는 기압을 초과하여 0.1 내지 5 MPa의 압력으로 유지될 수 있다.
이제 대응하는 참조 부호들이 대응하는 부분들을 나타내는 첨부된 개략적인 도면들을 참조하여, 단지 예시의 방식으로만 본 발명의 실시예들을 설명할 것이다:
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치를 개략적으로 도시하는 도면;
도 2는 레이저 생성 플라즈마(LPP) 소스 컬렉터 모듈을 포함하여, 도 1의 장치를 더 상세히 나타내는 도면;
도 3은 도 1 및 도 2에 나타낸 리소그래피 장치의 일부분을 형성할 수 있는 본 발명의 일 실시예에 따른 방사선 소스의 일부분을 형성하는 연료 액적 발생기의 제 1 실시예를 개략적으로 도시하는 도면; 및
도 4는 도 1 및 도 2에 나타낸 리소그래피 장치의 일부분을 형성할 수 있는 본 발명의 일 실시예에 따른 방사선 소스의 일부분을 형성하는 연료 액적 발생기의 제 2 실시예를 개략적으로 도시하는 도면이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 소스 컬렉터 모듈(SO)을 포함하는 리소그래피 장치(100)를 개략적으로 도시한다. 상기 장치는: 방사선 빔(B)(예를 들어, EUV 방사선)을 컨디셔닝하도록 구성된 조명 시스템(일루미네이터)(IL); 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크 또는 레티클)(MA)를 지지하도록 구성되고, 패터닝 디바이스를 정확히 위치시키도록 구성된 제 1 위치설정기(PM)에 연결된 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT); 기판(예를 들어, 레지스트-코팅된 웨이퍼)(W)을 유지하도록 구성되고, 기판을 정확히 위치시키도록 구성된 제 2 위치설정기(PW)에 연결된 기판 테이블(예를 들어, 웨이퍼 테이블)(WT); 및 기판(W)의 (예를 들어, 1 이상의 다이를 포함하는) 타겟부(C) 상으로 패터닝 디바이스(MA)에 의해 방사선 빔(B)에 부여된 패턴을 투영하도록 구성된 투영 시스템(예를 들어, 반사 투영 시스템)(PS)을 포함한다.
조명 시스템은 방사선을 지향, 성형 또는 제어하기 위하여, 굴절, 반사, 자기, 전자기, 정전기 또는 다른 형태의 광학 구성요소들, 또는 여하한의 그 조합과 같은 다양한 형태의 광학 구성요소들을 포함할 수 있다.
지지 구조체(MT)는 패터닝 디바이스의 방위, 리소그래피 장치의 디자인, 및 예를 들어 패터닝 디바이스가 진공 환경에서 유지되는지의 여부와 같은 다른 조건들에 의존하는 방식으로 패터닝 디바이스(MA)를 유지한다. 지지 구조체는 패터닝 디바이스를 유지하기 위해 기계적, 진공, 정전기, 또는 다른 클램핑 기술들을 이용할 수 있다. 지지 구조체는, 예를 들어 필요에 따라 고정되거나 이동가능할 수 있는 프레임 또는 테이블일 수 있다. 지지 구조체는, 패터닝 디바이스가 예를 들어 투영 시스템에 대해 원하는 위치에 있을 것을 보장할 수 있다.
"패터닝 디바이스"라는 용어는, 기판의 타겟부에 패턴을 생성하기 위해서 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여하는데 사용될 수 있는 여하한의 디바이스를 언급하는 것으로 폭넓게 해석되어야 한다. 방사선 빔에 부여된 패턴은 집적 회로와 같이 타겟부에 생성될 디바이스 내의 특정 기능 층에 해당할 것이다.
패터닝 디바이스는 투과형 또는 반사형일 수 있다. 패터닝 디바이스의 예로는 마스크, 프로그램가능한 거울 어레이 및 프로그램가능한 LCD 패널들을 포함한다. 마스크는 리소그래피 분야에서 잘 알려져 있으며, 바이너리(binary)형, 교번 위상-시프트형 및 감쇠 위상-시프트형과 같은 마스크 타입들, 및 다양한 하이브리드(hybrid) 마스크 타입들을 포함한다. 프로그램가능한 거울 어레이의 일 예시는 작은 거울들의 매트릭스 구성을 채택하며, 그 각각은 입사하는 방사선 빔을 상이한 방향으로 반사시키도록 개별적으로 기울어질 수 있다. 기울어진 거울들은 거울 매트릭스에 의해 반사되는 방사선 빔에 패턴을 부여한다.
조명 시스템과 같은 투영 시스템은, 사용되는 노광 방사선에 대하여, 또는 진공의 사용과 같은 다른 인자들에 대하여 적절하다면, 굴절, 반사, 자기, 전자기, 정전기 또는 다른 타입의 광학 구성요소들과 같은 다양한 타입의 광학 구성요소들을 포함할 수 있다. 가스들이 EUV 방사선을 흡수할 수 있기 때문에, EUV 방사선에 대해 진공을 사용하는 것이 바람직할 수 있다. 그러므로, 진공 벽 및 진공 펌프들의 도움으로 전체 빔 경로에 진공 환경이 제공될 수 있다.
본 명세서에 도시된 바와 같이, 상기 장치는 (예를 들어, 반사 마스크를 채택하는) 반사형으로 구성된다.
리소그래피 장치는 2 개(듀얼 스테이지) 이상의 기판 테이블(및/또는 2 이상의 마스크 테이블)을 갖는 형태로 구성될 수 있다. 이러한 "다수 스테이지" 기계에서는 추가 테이블이 병행하여 사용될 수 있으며, 또는 1 이상의 테이블이 노광에 사용되고 있는 동안 1 이상의 다른 테이블에서는 준비작업 단계가 수행될 수 있다.
도 1을 참조하면, 일루미네이터(IL)는 소스 컬렉터 모듈(SO)로부터 극자외(EUV) 방사선 빔을 수용한다. EUV 방사선을 생성하는 방법들은 EUV 범위 내의 1 이상의 방출선을 갖는 적어도 1 이상의 원소, 예를 들어 크세논, 리튬 또는 주석을 갖는 재료를 플라즈마 상태로 전환하는 단계를 포함하며, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. 흔히 레이저 생성 플라즈마("LPP")라고 칭하는 이러한 한 방법에서, 요구되는 플라즈마는 요구되는 선-방출 원소를 갖는 재료의 액적과 연료를 레이저 빔으로 조사함으로써 생성될 수 있다. 소스 컬렉터 모듈(SO)은 연료를 여기시키는 레이저 빔을 제공하는 레이저(도 1에 나타내지 않음)를 포함한 EUV 방사선 소스의 일부분일 수 있다. 결과적인 플라즈마는 출력 방사선, 예를 들어 EUV 방사선을 방출하며, 이는 소스 컬렉터 모듈에 배치된 방사선 컬렉터를 이용하여 수집된다.
예를 들어, CO2 레이저가 연료 여기에 대한 레이저 빔을 제공하는 데 사용되는 경우, 상기 레이저 및 소스 컬렉터 모듈은 별도의 개체일 수 있다. 이러한 경우, 방사선 빔은 예를 들어 적절한 지향 거울 및/또는 빔 익스팬더(beam expander)를 포함하는 빔 전달 시스템의 도움으로, 레이저로부터 소스 컬렉터 모듈로 통과된다. 상기 레이저 및 연료 공급기(즉, 연료 액적 발생기)는 EUV 방사선 소스를 포함하는 것으로 간주될 수 있다.
상기 일루미네이터(IL)는 방사선 빔의 각도 세기 분포를 조정하는 조정기를 포함할 수 있다. 일반적으로, 일루미네이터의 퓨필 평면 내의 세기 분포의 적어도 외반경 및/또는 내반경 크기(통상적으로, 각각 외측-σ 및 내측-σ라 함)가 조정될 수 있다. 또한, 일루미네이터(IL)는 패싯 필드(facetted field) 및 퓨필 거울 디바이스들과 같이, 다양한 다른 구성요소들을 포함할 수도 있다. 일루미네이터는 방사선 빔의 단면에 원하는 균일성(uniformity) 및 세기 분포를 갖기 위해, 방사선 빔을 컨디셔닝하는 데 사용될 수 있다.
상기 방사선 빔(B)은 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT) 상에 유지되어 있는 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA) 상에 입사되며, 패터닝 디바이스에 의해 패터닝된다. 상기 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)로부터 반사된 후, 상기 방사선 빔(B)은 투영 시스템(PS)을 통과하며, 이는 기판(W)의 타겟부(C) 상으로 상기 빔을 포커스한다. 제 2 위치설정기(PW) 및 위치 센서 시스템(PS2)(예를 들어, 간섭계 디바이스, 리니어 인코더, 또는 용량성 센서를 이용함)의 도움으로, 기판 테이블(WT)은 예를 들어 방사선 빔(B)의 경로 내에 상이한 타겟부(C)들을 위치시키도록 정확하게 이동될 수 있다. 이와 유사하게, 제 1 위치설정기(PM) 및 또 다른 위치 센서 시스템(PS1)은 방사선 빔(B)의 경로에 대해 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)를 정확히 위치시키는 데 사용될 수 있다. 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA) 및 기판(W)은 마스크 정렬 마크들(M1 및 M2) 및 기판 정렬 마크들(P1 및 P2)을 이용하여 정렬될 수 있다.
도시된 장치는 다음 모드들 중 적어도 1 이상에서 사용될 수 있다:
1. 스텝 모드에서, 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT) 및 기판 테이블(WT)은 기본적으로 정지 상태로 유지되는 한편, 방사선 빔에 부여되는 전체 패턴은 한번에 타겟부(C) 상으로 투영된다[즉, 단일 정적 노광(single static exposure)]. 그 후, 기판 테이블(WT)은 상이한 타겟부(C)가 노광될 수 있도록 X 및/또는 Y 방향으로 시프트된다.
2. 스캔 모드에서, 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT) 및 기판 테이블(WT)은 방사선 빔에 부여된 패턴이 타겟부(C) 상에 투영되는 동안에 동기적으로 스캐닝된다[즉, 단일 동적 노광(single dynamic exposure)]. 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)에 대한 기판 테이블(WT)의 속도 및 방향은 투영 시스템(PS)의 확대(축소) 및 이미지 반전 특성에 의하여 결정될 수 있다.
3. 또 다른 모드에서, 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)는 프로그램가능한 패터닝 디바이스를 유지하여 기본적으로 정지된 상태로 유지되며, 방사선 빔에 부여된 패턴이 타겟부(C) 상에 투영되는 동안 기판 테이블(WT)이 이동되거나 스캐닝된다. 이 모드에서는, 일반적으로 펄스화된 방사선 소스(pulsed radiation source)가 채택되며, 프로그램가능한 패터닝 디바이스는 기판 테이블(WT)이 각각 이동한 후, 또는 스캔 중에 계속되는 방사선 펄스 사이사이에 필요에 따라 업데이트된다. 이 작동 모드는 앞서 언급된 바와 같은 타입의 프로그램가능한 거울 어레이와 같은 프로그램가능한 패터닝 디바이스를 이용하는 마스크없는 리소그래피(maskless lithography)에 용이하게 적용될 수 있다.
또한, 상술된 사용 모드들의 조합 및/또는 변형, 또는 완전히 다른 사용 모드들이 채택될 수도 있다.
도 2는 소스 컬렉터 모듈(SO), 조명 시스템(IL), 및 투영 시스템(PS)을 포함하는 장치(100)를 더 상세히 나타낸다. 소스 컬렉터 모듈(SO)은, 소스 컬렉터 모듈(SO)의 포위 구조체(220) 내에 진공 환경이 유지될 수 있도록 구성되고 배치된다.
레이저(LA)가 레이저 빔(205)을 통해, 연료 공급기 또는 연료 액적 발생기(200)로부터 제공되는 크세논(Xe), 주석(Sn) 또는 리튬(Li)의 연료 액적들과 같은 연료에 레이저 에너지를 축적(deposit)하도록 배치되어, 수십 eV의 전자 온도를 갖는 고이온화 플라즈마(highly ionized plasma: 210)를 생성한다. 이 이온들의 하방천이(de-excitation) 및 재조합 동안 발생되는 강렬한 방사선은 플라즈마로부터 방출되어, 거의 수직 입사인 컬렉터 광학기(near normal incidence collector optic: CO)에 의해 수집되고 포커스된다.
제 2 레이저(도시되지 않음)가 제공될 수 있으며, 상기 제 2 레이저는 레이저 빔(205)이 그 위에 입사하기 전에 연료를 예열하도록 구성된다. 이 접근법을 이용하는 LPP 소스는 DLP(dual laser pulsing) 소스라고 칭해질 수 있다.
컬렉터 광학기(CO)에 의해 반사되는 방사선은 가상 소스점(virtual source point: IF)에 포커스된다. 가상 소스점(IF)은 통상적으로 중간 포커스라고 칭해지며, 소스 컬렉터 모듈(SO)은 중간 포커스(IF)가 포위 구조체(220)에서의 개구부(opening: 221)에, 또는 그 부근에 위치되도록 배치된다. 가상 소스점(IF)은 방사선 방출 플라즈마(210)의 이미지이다.
후속하여, 방사선은 조명 시스템(IL)을 가로지른다. 조명 시스템(IL)은 패터닝 디바이스(MA)에서의 방사선 세기의 원하는 균일성뿐 아니라, 패터닝 디바이스(MA)에서의 방사선 빔(21)의 원하는 각도 분포를 제공하도록 배치된 패싯 필드 거울 디바이스(22) 및 패싯 퓨필 거울 디바이스(24)를 포함할 수 있다. 패터닝 디바이스(MA)에서의 방사선 빔(21)의 반사 시, 패터닝된 빔(26)이 형성되고, 패터닝된 빔(26)은 투영 시스템(PS)에 의하여 반사 요소들(28, 30)을 통해 기판 테이블(WT)에 의해 유지되어 있는 기판(W) 상에 이미징된다.
일반적으로, 나타낸 것보다 더 많은 요소들이 조명 시스템(IL) 및 투영 시스템(PS) 내에 존재할 수 있다. 또한, 도면들에 나타낸 것보다 더 많은 거울들이 존재할 수 있으며, 예를 들어 도 2에 나타낸 것보다 1 내지 6 개의 추가 반사 요소들이 투영 시스템(PS) 내에 존재할 수 있다.
도 3은 본 발명의 실시형태들과 사용하기에 적절한 도 2에 나타낸 연료 액적 발생기(200)의 일 실시예를 개략적으로 나타낸다. 연료 액적 발생기의 이 실시예는 용융 상태의 액체 연료(304)가 들어 있는 저장부(303)를 포함한다. 예를 들어, 이 연료는 용융 주석일 수 있다. 저장부는 연결기(302)에 의해 모세관(300)에 연결된다. 모세관(300)은 저장부(303) 내의 연료 액체와 직접 접촉하는 근위 단부 및 노즐(301)로 형성된 원위 단부를 갖는다. 노즐(301)로부터 배출되는 액적(314)들의 주기적인 스트림이 도시된다.
제 1 포위부(enclosure: 305)가 모세관(300)의 일부분을 둘러싸는 제 1 캐비티(310)를 형성하며, 제 1 포위부(305)와 모세관(300) 사이에는 유밀 연결(fluid-tight connection)이 제공된다. 중공 연결 튜브(306)의 보어(309)가 제 1 캐비티(310)를 제 2 포위부(307)에 둘러싸인 제 2 캐비티(308)에 결합시켜, 구동 캐비티(316)를 형성한다.
진동기(311) -이 실시예에서는 굽힘 모드에서 구동되도록 배치된 압전 액추에이터- 가 제 2 포위부(307)의 외벽(315)에 단단히 연결되며, 이에 따라 제 2 캐비티(308)의 외벽(315)에 단단히 연결된다. 다른 실시예들에서, 진동기는 대안적인 구성들을 가질 수 있으며, 예를 들어 압전 액추에이터들의 스택(stack)이 차곡차곡 장착되어 다층 스택을 형성하고 두께 모드에서 구동된다. 이러한 스택은 제 2 캐비티(308)의 외벽(315)과 액적 발생기의 외부 하우징(도시되지 않음) 사이에 장착될 수 있다.
냉각 챔버(312)가 제 2 포위부와 진동기(311), 및 연결 튜브(306)의 일부분을 둘러싼다. 냉장 유닛(refrigeration unit) 및 열 교환기(도시되지 않음)와 같은 냉각 디바이스가, 연료가 용융 상태로 유지되는 데 필요한 온도보다 낮은 온도로 냉각 챔버(312) 내부의 온도를 유지한다.
일 실시예에서, 노즐(301)은 그 유출구에서 10 미크론의 직경을 가질 수 있다. 본 발명의 실시예들은 10 미크론의 직경을 갖는 노즐로 제한되지 않으며, 대체로 5 미크론, 3 미크론과 같은 여하한의 적절한 노즐 직경이 가능하다. 모세관(300)은, 예를 들어 그 길이가 50 밀리미터이고, 외경이 1 밀리미터이며, 벽 두께가 0.15 밀리미터일 수 있다. 또한, 본 명세서에서 모세관(300) 및 노즐(301)의 치수들은 단지 예시들로서 주어지며, 제한적인 것으로 간주되지 않는다. 제 1 캐비티(310)는, 예를 들어 약 10 mm 내지 20 mm의 길이를 가질 수 있다. 진동기(311)는 AA로 표시된 방향으로 원하는 변조 주파수로 외벽(315)을 진동시킬 수 있도록 구성되어, 연결 튜브(306)의 보어(309) 및 제 1 캐비티(310) 및 제 2 캐비티(308)에 의해 형성된 구동 캐비티(316) 내의 액체의 압력을 변조시킨다.
사용 시, 액체 연료(304)는 저장부(303) 내부의 압력으로 유지되고 노즐(301)로 공급된다. 이는, 예를 들어 가스에 의해 용융 연료에 압력이 적용되도록 펌핑 디바이스(도시되지 않음)에 의해 저장부(303) 내에 위치되는 가스(도시되지 않음)에 압력을 가함으로써 달성될 수 있다. 압력의 결과로서, 연료의 스트림이 노즐(301)로부터 나온다. 모세관(300)에 의해 형성된 공급 챔버에 압력 변동(pressure fluctuation)을 야기하는 진동이 없는 경우, 노즐(301)로부터 나오는 연료의 스트림은 노즐(301)로부터 소정 거리를 이동한 후 자연적으로 분리되어(상기 거리는, 예를 들어 노즐 직경의 100 내지 1000 배임), 액적들의 스트림을 형성할 것이다. 공급 챔버의 진동 자극 없이 이 방식으로 발생된 액적들은 노즐(301)의 유출구 직경의 약 2 배이거나 이보다 약간 더 작은 직경들을 가질 수 있다. 본 예시에서, 진동 자극 없이 형성된 액적들은 예를 들어 19 미크론의 직경을 가질 수 있다. 액적들은 노즐 직경의 약 4.5 배인 거리로 이격될 수 있다. 이 예시에서, 액적들은 진동 자극이 적용되지 않은 경우 약 45 미크론으로 이격될 수 있다. 연료 스트림의 액적들로의 이 자연적 분리는 레일리 분리라고 알려져 있다. 노즐(301)의 액적 생성률에 대응하는 레일리 주파수는 앞서 설명된 바와 같이 노즐의 직경 및 노즐에서의 연료의 평균 속도와 관련된다.
연료 액체(314)의 스트림의 레일리 분리는 공급 챔버 모세관(300) 내의 압력의 진동 자극 없이 일어날 것이지만, 분리를 제어하고 그 자연적 거동으로부터 수정하기 위해 이러한 진동 자극이 사용되는 것이 바람직하다. 공급 챔버 모세관(300) 내부의 압력을 변조하는 것은 노즐(301)로부터의 액체 연료의 출구 속도를 변조하고, 노즐을 떠난 직후에 제어되는 방식으로 액체 연료의 스트림을 액적들로 분리시킨다. 적용되는 진동 주파수가 레일리 주파수에 충분히 가까운 경우, 연료의 액적들이 형성되고, 상기 액적들은 적용되는 진동 주파수 및 연료 노즐(301)로부터의 평균 출구 속도에 의해 결정되는 거리로 이격된다.
적용되는 주파수가 레일리 주파수보다 상당히 더 낮은 경우, 일련의 연료 액적들이 형성되는 대신에 연료 클라우드들이 형성될 수 있다. 주어진 연료 클라우드는 비교적 높은 속도로 이동하는 액적들의 그룹 및 비교적 낮은 속도로 이동하는 액적들의 그룹을 포함할 수 있다(상기 속도들은 연료 클라우드의 평균 속도에 대한 것임). 이들은 함께 합쳐져 단일 연료 액적을 형성할 수 있다. 이 방식으로, 레일리 주파수보다 상당히 더 낮은 진동 주파수를 공급 챔버에 적용함으로써 일련의 연료 액적들이 발생될 수 있다. 액적들 간의 간격은 여전히 평균 출구 속도 및 진동 주파수에 의해 좌우되므로, 진동 주파수가 감소함에 따라 액적들 간의 간격이 증가한다.
진동기(311)로부터 공급 챔버 모세관(300)으로 진동들을 전달하는 데 사용되는 구동 캐비티(316) 내의 액체는, 통상적으로 용융 상태의 연료(304)를 제공하는 데 필요한 온도 및 냉각 챔버(312) 내부의 온도에서의 액체이다. 전형적으로, 이 냉각 챔버 내부의 온도는 약 25 ℃와 같은 실온일 수 있는 반면, 용융 상태의 연료(304)는 예를 들어 약 240 ℃ 이상의 온도일 수 있다. 적절하게는, 액체는 구동 캐비티(316)를 채우기 전에 진공 펌핑과 같은 종래 방식으로 가스 제거될 수 있으며, 또는 액체는 구동 캐비티(316) 내에서 가스 제거될 수 있다. 바람직하게는, 액체는 사용 시 가압되어, 음향 손실이 발생될 수 있는 캐비테이션의 위험을 최소화한다. 예를 들어, 액체는 기압을 넘어 0.1 내지 5 MPa의 압력을 받을 수 있다. 액체는 본질적으로 제 2 포위부(308)로부터 제 1 캐비티(310)로 음향 에너지를 전달하기 위해 도파관으로서 작동하는 것이 바람직하다. 구동 캐비티 내의 여하한의 기체 기포들의 존재는 음향 전달의 효율성을 떨어뜨릴 수 있다. 구동 캐비티(316) 내에서 사용하기에 적절한 액체는 Therminol 66®과 같은 터페닐 기반 유체(terphenyl based fluid)이다.
구동 캐비티(316) 및 그 안의 유체를 통해 공급 챔버 모세관(300) 내의 압력의 진동 구동 효율성을 개선하기 위해, 진동기는 모세관(300)의 제 1 공진 주파수에 대응하는 주파수에서 작동될 수 있으며, 이는 기본 진동 공진 주파수 또는 그 배진동(overtone)(즉, 고차 진동 모드)일 수 있다. 튜닝 디바이스를 갖는 구동 캐비티를 제공함으로써, 구동 캐비티의 제 2 공진 주파수가 공급 챔버 모세관(300)의 제 1 공진 주파수와 매칭하도록 조정될 수 있다. 이 방식으로, 진동기(311)로부터 공급 챔버 모세관(300) 내의 용융 연료로의 최적 에너지 전달이 달성되어 노즐(301)에서의 큰 속도 변조들을 제공하고, 액적 형성에 있어서 더 우수한 제어를 유도할 수 있다. 이는 특히, 진동기(311)로부터의 진동 구동 주파수가 레일리 주파수보다 실질적으로 낮은 경우 고속 액적들과 저속 액적들의 합체에 의한 액적 형성의 제어에 효과적일 수 있다.
그 내부가 거의 실온인 온도로 유지되는 냉각 챔버(312)를 이용하여, 진동기(311)는 그 퀴리 온도 훨씬 아래의 온도에서 작동하도록 구동되는 압전 액추에이터일 수 있으며, 이로 인해 고-효율성으로 벽(315)을 통해 구동 캐비티 내의 액체로 진동들을 전달하도록 작동할 수 있다. 진동기(311)로 하여금 고온 연료 챔버에 대해 멀리 위치되게 하는 구동 캐비티의 사용은 진동기가 더 낮은 온도에서 작동되게 하고, 진동기(311)와 공급 챔버 모세관(300)의 외벽 간의 직접적인 접촉 유지 -계면이 연료의 용융 온도에 접근하는 온도들의 영향을 받거나, 유지 동안 온도의 폭넓은 변동들을 겪고, 이 경우 공급 챔버 모세관(300)이 주위 온도로 냉각될 수 있음- 의 필요성을 제거한다. 그 대신, 구동 캐비티(316) 내의 액체는 공급 챔버 모세관(300)의 외벽과의 음향 접촉을 제공하는 한편, 열 전달을 방지하거나 감소시킨다. 제 1 캐비티를 둘러싸는 제 1 포위부(305)와 공급 챔버 모세관(300)의 외벽 간의 접촉이 음향 에너지를 전달할 수 있는 직접 접촉일 필요는 없다.
도 4는 본 발명의 실시예들과 사용하기에 적절한 도 2에 나타낸 연료 액적 발생기(200)의 일 실시예를 개략적으로 나타낸다.
연료 액적 발생기는, 도관(414)을 통해 공급 챔버(402)로 공급되도록 용융 상태의 연료(예를 들어, 용융 주석과 같은 용융 금속)를 유지하는 연료 저장부(도시되지 않음)를 포함한다. 도관(414)은 제한부(409)를 통해 공급 챔버(402)에 연결되며, 이로 인해 공급 챔버(402)가 도관(414) 및 연료 저장부로부터 실질적으로 음향 절연(acoustically isolated)된다. 공급 챔버(402)는 노즐(401)을 갖는다. 노즐(401)로부터 배출되는 액적(413)들의 주기적인 스트림이 도시된다.
제 1 캐비티(405)가 공급 챔버(402)의 외부면(403)과 접촉한다. 중공 연결 튜브(406)의 보어(408)가 제 1 캐비티(405)를 제 2 캐비티(407)에 결합시켜 구동 캐비티를 형성한다.
진동기(411) -이 실시예에서는 굽힘 모드에서 구동되도록 배치된 압전 액추에이터- 가 제 2 캐비티(410)의 외벽(412)에 단단히 연결된다.
냉각 챔버(이 실시예에서는 도시되지 않음)가 제 2 캐비티(407)와 진동기(411), 및 연결 튜브(406)의 일부분을 둘러쌀 수 있다. 냉장 유닛 및 열 교환기(도시되지 않음)와 같은 냉각 디바이스가, 연료가 용융 상태로 유지되는 데 필요한 온도보다 낮은 온도로 진동기(411) 및 제 2 캐비티(407)의 온도를 유지할 수 있다.
노즐(301)은, 예를 들어 그 유출구에서 10 미크론 또는 5 미크론 또는 3 미크론, 또는 여하한의 적절한 값의 직경을 가질 수 있다. 진동기(411)로서 압전 액추에이터는 접착제 또는 시멘트를 이용하여 외벽(412)에 고정될 수 있다. 진동기(411)는 AA로 표시된 방향으로 원하는 변조 주파수로 제 2 캐비티의 외벽(412)을 진동시킬 수 있도록 구성되어, 보어(408) 및 제 1 캐비티(405) 및 제 2 캐비티(410)에 의해 형성된 구동 캐비티 내의 액체의 압력을 변조시킨다.
사용 시, 액체 연료는 저장부 내에 유지되고 제 1 실시예에 대해 설명된 바와 같은 노즐로 공급된다. 노즐(401)에서 발생된 용융 연료의 압력의 결과로서, 그로부터 용융 연료의 스트림이 나온다.
도 3에 나타낸 실시예를 이용하는 바와 같이, 이 실시예에서 진동기(411)로부터의 진동들이 제 2 캐비티의 외벽(412)을 통해 전달되고 구동 캐비티 내의 액체를 통해 공급 챔버의 외부면(403)을 진동시켜, 공급 챔버(402) 내의 용융 연료의 진동 압력 변동들을 야기한다.
공급 챔버(402) 내부의 압력을 변조하는 것은, 앞서 기재된 제 1 실시예에서 이미 설명된 바와 같이 노즐(401)로부터의 액체 연료의 출구 속도를 변조하고, 노즐을 떠난 직후에 제어되는 방식으로 액체 연료의 스트림을 액적들로 분리시킨다. 적용되는 진동 주파수가 레일리 주파수에 충분히 가까운 경우, 연료의 액적들이 형성되고, 상기 액적들은 적용되는 진동 주파수 및 연료 노즐(401)로부터의 평균 출구 속도에 의해 결정되는 거리로 이격된다. 적용되는 주파수가 레일리 주파수보다 상당히 더 낮은 경우, 일련의 연료 액적들이 형성되는 대신에 연료 클라우드들이 형성될 수 있다. 주어진 연료 클라우드는 비교적 높은 속도로 이동하는 액적들의 그룹 및 비교적 낮은 속도로 이동하는 액적들의 그룹을 포함할 수 있다(상기 속도들은 연료 클라우드의 평균 속도에 대한 것임). 이들은 함께 합쳐져 단일 연료 액적을 형성할 수 있다. 이 방식으로, 레일리 주파수보다 상당히 더 낮은 진동 주파수를 공급 챔버에 적용함으로써 일련의 연료 액적들이 발생될 수 있다. 이 조건들 하에서의 액적들 간의 간격도 평균 출구 속도 및 진동 주파수에 의해 좌우되므로, 진동 주파수가 감소함에 따라 액적들 간의 간격이 증가한다.
또한, 도 3에 나타낸 연료 액적 발생기(200)의 실시예에 대해 설명된 바와 같은 예시들 및 특징들이 도 4에 나타낸 실시예에도 적용가능하다.
본 명세서에서는, IC 제조에 있어서 리소그래피 장치의 특정 사용예에 대하여 언급되지만, 본 명세서에 서술된 리소그래피 장치는 집적 광학 시스템, 자기 도메인 메모리용 안내 및 검출 패턴, 평판 디스플레이(flat-panel display), 액정 디스플레이(LCD), 박막 자기 헤드, LED, 포토닉 디바이스(photonic device) 등의 제조와 같이 다른 적용예들을 가질 수도 있음을 이해하여야 한다. 당업자라면, 이러한 대안적인 적용예와 관련하여, 본 명세서의 "웨이퍼" 또는 "다이"라는 용어의 어떠한 사용도 각각 "기판" 또는 "타겟부"라는 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수도 있음을 이해할 것이다. 본 명세서에서 언급되는 기판은 노광 전후에, 예를 들어 트랙(전형적으로, 기판에 레지스트 층을 도포하고 노광된 레지스트를 현상하는 툴), 메트롤로지 툴 및/또는 검사 툴에서 처리될 수 있다. 적용가능하다면, 이러한 기판 처리 툴과 다른 기판 처리 툴에 본 명세서의 기재 내용이 적용될 수 있다. 또한, 예를 들어 다층 IC를 생성하기 위하여 기판이 한번 이상 처리될 수 있으므로, 본 명세서에 사용되는 기판이라는 용어는 이미 여러번 처리된 층들을 포함한 기판을 칭할 수도 있다.
이상, 광학 리소그래피와 관련하여 본 발명의 실시예들의 특정 사용예를 언급하였지만, 본 발명은 다른 적용예들, 예를 들어 임프린트 리소그래피에 사용될 수 있으며, 본 명세서가 허용한다면 광학 리소그래피로 제한되지 않는다는 것을 이해할 것이다. 임프린트 리소그래피에서, 패터닝 디바이스 내의 토포그래피(topography)는 기판 상에 생성된 패턴을 정의한다. 패터닝 디바이스의 토포그래피는 전자기 방사선, 열, 압력 또는 그 조합을 인가함으로써 레지스트가 경화되는 기판에 공급된 레지스트 층으로 가압될 수 있다. 패터닝 디바이스는 레지스트가 경화된 후에 그 안에 패턴을 남기는 레지스트로부터 이동된다.
본 명세서가 허용하는 "렌즈"라는 용어는, 굴절, 반사, 자기, 전자기 및 정전기 광학 구성요소들을 포함하는 다양한 형태의 광학 구성요소들 중 어느 하나 또는 그 조합으로 언급될 수 있다.
"EUV 방사선"이라는 용어는 5 내지 20 nm의 범위, 예를 들어 13 내지 14 nm의 범위, 예를 들어 6.7 nm 또는 6.8 nm와 같이 5 내지 10 nm의 범위 내의 파장을 갖는 전자기 방사선을 포괄하는 것으로 간주될 수 있다.
이상, 본 발명의 특정 실시예가 설명되었지만, 본 발명은 설명된 것과 다르게 실시될 수 있다는 것을 이해할 것이다. 상기 서술내용은 예시를 위한 것이지, 제한하려는 것이 아니다. 따라서, 당업자라면 아래에 설명되는 청구항들의 범위를 벗어나지 않고 서술된 본 발명에 대한 변형예가 행해질 수 있다는 것을 분명히 알 것이다.
본 명세서에서 "바람직하다", "바람직하게는", "바람직한" 또는 "더 바람직한"과 같은 단어들의 사용은 그렇게 설명된 특징이 합당할(desirable) 수 있지만, 반드시 필요하지는 않을 수 있으며 이러한 특징이 없는 실시예들도 첨부된 청구항들에서 정의된 바와 같이 본 발명의 범위 내에서 고려될 수 있다는 것을 나타낸다. 청구항들과 관련하여, "하나(a, an)", "적어도 하나" 또는 "적어도 한 부분"과 같은 단어가 특징의 서문에 사용되는 경우, 청구항에서 달리 구체적으로 명시되지 않는 한 이러한 하나의 특징에만 청구항을 제한하려는 의도는 존재하지 않는다. "적어도 한 부분" 및/또는 "일부분"이라는 용어가 사용되는 경우, 달리 구체적으로 명시되지 않는 한 아이템은 일부분 및/또는 전체 아이템을 포함할 수 있다.

Claims (18)

  1. 방사선 소스에 있어서:
    연료 액적들의 스트림을 제공하도록 배치된 연료 액적 발생기(fuel droplet generator) -상기 연료 액적 발생기는
    노즐,
    구동 캐비티(drive cavity)와 접촉하는 외부면을 갖는 공급 챔버(feed chamber) -상기 구동 캐비티가 액체로 채워지고, 상기 액체는 구동되어 상기 구동 캐비티와 작동가능하게 연결된 진동기에 의해 진동을 받을 수 있도록 배치되는 경우, 상기 진동은 상기 액체를 통해 상기 공급 챔버의 외부면으로부터 상기 공급 챔버 내의 용융 연료로 투과가능함- ,
    저장부(reservoir), 및
    상기 저장부로부터 상기 공급 챔버를 통해 상기 노즐 밖으로 상기 액적들의 스트림으로서 용융 상태의 연료 유동을 공급하도록 배치된 펌프를 포함함- ; 및
    상기 연료의 액적들의 적어도 일부를 증발시켜 방사선을 발생시키도록 구성된 적어도 하나의 레이저
    를 포함하는 방사선 소스.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 공급 챔버는 제 1 공진 주파수를 가질 수 있고, 상기 구동 캐비티는 제 2 공진 주파수를 갖는 방사선 소스.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 구동 캐비티는 상기 구동 캐비티의 제 2 공진 주파수가 가변적이도록 튜닝 디바이스(tuning device)를 포함하는 방사선 소스.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 구동 캐비티는 상기 공급 챔버의 외부면과 직접 접촉하는 제 1 캐비티를 포함하고, 상기 제 1 캐비티는 연결 튜브의 보어(bore)를 통해 제 2 캐비티와 유체 연결되며, 상기 제 2 캐비티에는 상기 진동기가 작동가능하게 연결되어 있고, 상기 제 1 캐비티, 제 2 캐비티 및 연결 튜브는 상기 액체로 채워지며, 상기 제 1 캐비티는 구동되어 상기 연결 튜브를 통하여 상기 액체를 통한 제 2 캐비티로부터의 상기 진동의 음향 투과에 의해 진동을 받을 수 있는 방사선 소스.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 2 캐비티는 상기 구동 캐비티의 제 2 공진 주파수가 가변적이도록 튜닝 디바이스를 포함하는 방사선 소스.
  6. 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
    상기 진동기는 사용 시 상기 제 2 캐비티의 외벽을 진동시키도록 배치되어 상기 액체가 진동을 받도록 구동되는 방사선 소스.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 연료 액적 발생기는, 사용 시 상기 진동기를 상기 용융 상태의 연료로 유지하는 데 필요한 온도보다 낮은 온도에 유지하도록 배치된 냉각 디바이스를 포함하는 방사선 소스.
  8. 제 4 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 연료 액적 발생기는, 사용 시 상기 진동기 및 제 2 캐비티를 상기 용융 상태의 연료로 유지하는 데 필요한 온도보다 낮은 온도에 유지하도록 배치된 냉각 디바이스를 포함하는 방사선 소스.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 냉각 디바이스는 상기 제 2 캐비티 및 진동기를 둘러싸는 냉각 챔버인 방사선 소스.
  10. 제 7 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 진동기는 압전 액추에이터이고, 상기 냉각 디바이스는 사용 시 상기 압전 액추에이터를 상기 압전 액추에이터의 퀴리 온도(Curie temperature)보다 낮은 온도에 유지하도록 배치되는 방사선 소스.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공급 챔버는 상기 노즐과 직접 유체 연결되는 방사선 소스.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 공급 챔버는 모세관(capillary tube)이고, 상기 노즐은 상기 모세관의 원위 단부(distal end)에서 좁아지는 부분(narrowing)인 방사선 소스.
  13. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공급 챔버는 상기 저장부로부터 실질적으로 음향 디커플링되는(acoustically decoupled) 방사선 소스.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 연료는 5×10-6 ㎡보다 작은 단면적을 갖는 제한부(restriction)를 통해 상기 공급 챔버로 들어가는 방사선 소스.
  15. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 액체는 사용 시 상기 액체의 캐비테이션(cavitation)을 억제하도록 기압을 충분히 넘는 압력으로 유지되는 방사선 소스.
  16. 리소그래피 장치에 있어서:
    방사선 빔을 발생시키도록 배치된 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 따른 방사선 소스;
    상기 방사선 빔을 컨디셔닝(condition)하도록 구성된 조명 시스템;
    패터닝된 방사선 빔을 형성하기 위해, 상기 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여할 수 있는 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성된 지지체;
    기판을 유지하도록 구성된 기판 테이블; 및
    상기 기판의 타겟부 상으로 상기 패터닝된 방사선 빔을 투영하도록 구성된 투영 시스템
    을 포함하는 리소그래피 장치.
  17. 방사선 소스에 대한 연료의 액적들의 스트림을 제공하는 연료 액적 발생기에 있어서:
    노즐;
    구동 캐비티와 접촉하는 외부면을 갖는 공급 챔버 -상기 구동 캐비티는 액체로 채워지도록 구성되고, 상기 액체는 구동되어 상기 구동 캐비티와 작동가능하게 연결된 진동기에 의해 진동을 받을 수 있도록 배치되며, 상기 진동은 상기 액체를 통해 상기 공급 챔버의 외부면으로부터 상기 공급 챔버 내의 용융 연료로 투과가능함- ;
    저장부; 및
    상기 저장부로부터 상기 공급 챔버를 통해 상기 노즐 밖으로 액적들의 스트림으로서 용융 상태의 연료 유동을 공급하도록 배치된 펌프
    를 포함하는 연료 액적 발생기.
  18. 저장부로부터 공급 챔버를 통해 노즐 밖으로 용융 연료를 펌핑하는 단계 -상기 공급 챔버는 액체로 채워진 제 1 캐비티와 접촉하는 외부면을 가짐- ;
    진동기에 의해 진동을 받도록 상기 제 1 캐비티를 구동하는 단계 -상기 진동은 상기 액체 및 상기 공급 챔버의 외부면을 통해 상기 공급 챔버 내의 연료로 투과됨- ;
    상기 노즐로부터 연료 액적들의 스트림을 방출하는 단계; 및
    방사선을 발생시키도록 레이저로 상기 연료 액적들의 적어도 일부를 증발시키는 단계
    를 포함하는 방법.
KR1020147006032A 2011-08-05 2012-07-04 리소그래피 장치에 대한 방법 및 방사선 소스 및 디바이스 제조 방법 KR20140052012A (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201161515716P 2011-08-05 2011-08-05
US61/515,716 2011-08-05
PCT/EP2012/063019 WO2013020758A1 (en) 2011-08-05 2012-07-04 Radiation source and method for lithographic apparatus and device manufacturing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20140052012A true KR20140052012A (ko) 2014-05-02

Family

ID=46583965

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020147006032A KR20140052012A (ko) 2011-08-05 2012-07-04 리소그래피 장치에 대한 방법 및 방사선 소스 및 디바이스 제조 방법

Country Status (8)

Country Link
US (1) US8866111B2 (ko)
EP (1) EP2745648B1 (ko)
JP (1) JP5952399B2 (ko)
KR (1) KR20140052012A (ko)
CN (1) CN103718654B (ko)
NL (1) NL2009117A (ko)
TW (1) TWI576014B (ko)
WO (1) WO2013020758A1 (ko)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8881526B2 (en) 2009-03-10 2014-11-11 Bastian Family Holdings, Inc. Laser for steam turbine system
NL2011533A (en) * 2012-10-31 2014-05-06 Asml Netherlands Bv Method and apparatus for generating radiation.
WO2014082811A1 (en) 2012-11-30 2014-06-05 Asml Netherlands B.V. Droplet generator, euv radiation source, lithographic apparatus, method for generating droplets and device manufacturing method
KR101378382B1 (ko) 2013-10-17 2014-03-24 주식회사 펩트론 무균공정용 초음파 분무장치
KR101378383B1 (ko) * 2013-10-17 2014-03-24 주식회사 펩트론 무균공정용 초음파 분무장치
WO2016084167A1 (ja) * 2014-11-26 2016-06-02 ギガフォトン株式会社 加振ユニット、ターゲット供給装置および極端紫外光生成システム
NL2018004A (en) * 2015-12-17 2017-06-26 Asml Netherlands Bv Droplet generator for lithographic apparatus, euv source and lithographic apparatus
JP6824985B2 (ja) * 2015-12-17 2021-02-03 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． Ｅｕｖソースのためのノズル及び液滴発生器
EP3490720B1 (en) 2016-07-26 2021-06-16 Molex, LLC Capillary for use in a droplet generator
WO2018069976A1 (ja) * 2016-10-11 2018-04-19 ギガフォトン株式会社 ターゲット供給装置
CN109116683B (zh) * 2017-06-23 2021-03-02 台湾积体电路制造股份有限公司 喷嘴模块、光刻装置及其操作方法
WO2019180826A1 (ja) * 2018-03-20 2019-09-26 ギガフォトン株式会社 ターゲット供給装置、極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法
WO2019185370A1 (en) * 2018-03-28 2019-10-03 Asml Netherlands B.V. Apparatus for and method of monitoring and controlling droplet generator performance
WO2020068598A1 (en) 2018-09-24 2020-04-02 Asml Netherlands B.V. Target formation apparatus
CN114830833A (zh) * 2019-12-20 2022-07-29 Asml荷兰有限公司 用于监测微滴流中的微滴的设备和方法
JP7491737B2 (ja) 2020-05-21 2024-05-28 ギガフォトン株式会社 ターゲット供給装置、ターゲット供給方法、及び電子デバイスの製造方法
CN112540513B (zh) * 2021-01-07 2024-03-29 中国科学院上海光学精密机械研究所 一种用于euv光源的熔融液滴发生装置
TW202405570A (zh) * 2021-11-22 2024-02-01 荷蘭商Ａｓｍｌ荷蘭公司 液體靶材供應設備、燃料發射器、輻射源、微影設備以及液體靶材供應方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4380018A (en) 1980-06-20 1983-04-12 Sanyo Denki Kabushiki Kaisha Ink droplet projecting device and an ink jet printer
JPS61153936A (ja) * 1984-12-26 1986-07-12 Toshiba Corp プラズマｘ線発生装置
US5560543A (en) * 1994-09-19 1996-10-01 Board Of Regents, The University Of Texas System Heat-resistant broad-bandwidth liquid droplet generators
FR2801113B1 (fr) * 1999-11-15 2003-05-09 Commissariat Energie Atomique Procede d'obtention et source de rayonnement extreme ultra violet, application en lithographie
DE10013450B4 (de) 2000-03-17 2006-05-04 Degussa Ag Vorrichtung zur Erzeugung monodisperser Tropfen
US6562099B2 (en) * 2000-05-22 2003-05-13 The Regents Of The University Of California High-speed fabrication of highly uniform metallic microspheres
US7405416B2 (en) 2005-02-25 2008-07-29 Cymer, Inc. Method and apparatus for EUV plasma source target delivery
DE102004036441B4 (de) * 2004-07-23 2007-07-12 Xtreme Technologies Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Dosieren von Targetmaterial für die Erzeugung kurzwelliger elektromagnetischer Strahlung
JPWO2006075535A1 (ja) * 2005-01-12 2008-06-12 株式会社ニコン レーザプラズマｅｕｖ光源、ターゲット部材、テープ部材、ターゲット部材の製造方法、ターゲットの供給方法、及びｅｕｖ露光装置
JP5215540B2 (ja) * 2006-07-18 2013-06-19 ギガフォトン株式会社 ターゲット物質供給装置
JP5076087B2 (ja) * 2006-10-19 2012-11-21 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源装置及びノズル保護装置
US7696492B2 (en) * 2006-12-13 2010-04-13 Asml Netherlands B.V. Radiation system and lithographic apparatus
NL1035846A1 (nl) * 2007-08-23 2009-02-24 Asml Netherlands Bv Radiation source.
NL1036614A1 (nl) * 2008-03-21 2009-09-22 Asml Netherlands Bv A target material, a source, an EUV lithographic apparatus and a device manufacturing method using the same.
NL2003152A1 (nl) * 2008-08-14 2010-02-16 Asml Netherlands Bv Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method.
JP5670619B2 (ja) * 2009-02-06 2015-02-18 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源装置
CN102714911A (zh) * 2010-01-07 2012-10-03 Asml荷兰有限公司 Euv辐射源和光刻设备
CN102696283B (zh) * 2010-01-07 2015-07-08 Asml荷兰有限公司 包括液滴加速器的euv辐射源以及光刻设备
US9119280B2 (en) * 2011-08-12 2015-08-25 Asml Netherlands B.V. Radiation source
NL2009359A (en) * 2011-09-23 2013-03-26 Asml Netherlands Bv Radiation source.
NL2009358A (en) * 2011-09-23 2013-03-26 Asml Netherlands Bv Radiation source.

Also Published As

Publication number Publication date
EP2745648A1 (en) 2014-06-25
TWI576014B (zh) 2017-03-21
EP2745648B1 (en) 2016-01-20
US8866111B2 (en) 2014-10-21
TW201313073A (zh) 2013-03-16
CN103718654A (zh) 2014-04-09
WO2013020758A1 (en) 2013-02-14
US20140160450A1 (en) 2014-06-12
NL2009117A (en) 2013-02-06
JP5952399B2 (ja) 2016-07-13
JP2014529840A (ja) 2014-11-13
CN103718654B (zh) 2016-04-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8866111B2 (en) Radiation source and method for lithographic apparatus and device manufacturing method
KR101710433B1 (ko) 액적 가속기를 포함하는 ｅｕｖ 방사선 소스 및 리소그래피 장치
JP6845245B2 (ja) 液滴ジェネレータ及びレーザ生成プラズマ放射源
US20240090109A1 (en) Target delivery system
TWI586223B (zh) 輻射源燃料小滴串流產生器、微影裝置及增進輻射源燃料小滴之聚結的方法
KR101938707B1 (ko) 디바이스 제조용 리소그래피 장치에 대한 방법 및 방사선 소스
WO2014082811A1 (en) Droplet generator, euv radiation source, lithographic apparatus, method for generating droplets and device manufacturing method
TW201131317A (en) EUV radiation source and lithographic apparatus
JP2019502149A (ja) Ｅｕｖソースのためのノズル及び液滴発生器
US11448967B2 (en) Target formation apparatus
TWI840411B (zh) 目標形成設備
KR20160047553A (ko) 방사선 소스 및 리소그래피 장치
JP2022059264A (ja) 極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application