TWI586223B - 輻射源燃料小滴串流產生器、微影裝置及增進輻射源燃料小滴之聚結的方法 - Google Patents

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Description

輻射源燃料小滴串流產生器、微影裝置及增進輻射源燃料小滴之聚結的方法
本發明係關於一種輻射源及一種微影裝置。
微影裝置為將所要圖案施加至基板上(通常施加至基板之目標部分上)之機器。微影裝置可用於(例如)積體電路(IC)之製造中。在彼情況下，圖案化器件(其或者被稱作光罩或比例光罩)可用以產生待形成於IC之個別層上之電路圖案。可將此圖案轉印至基板(例如，矽晶圓)上之目標部分(例如，包含晶粒之部分、一個晶粒或若干晶粒)上。通常經由成像至提供於基板上之輻射敏感材料(抗蝕劑)層上而進行圖案之轉印。一般而言，單一基板將含有經順次地圖案化之鄰近目標部分之網路。
微影被廣泛地認為是在IC以及其他器件及/或結構之製造中之關鍵步驟中的一者。然而，隨著使用微影所製造之特徵之尺寸變得愈來愈小，微影正變為用於使能夠製造小型IC或其他器件及/或結構之更具決定性之因素。
圖案印刷極限之理論估計可藉由瑞立(Rayleigh)解析度準則給出，如方程式(1)所示： 其中λ為所使用之輻射之波長，NA為用以印刷圖案之投影系統之數值孔徑，k 1為程序相依調整因數(亦被稱為瑞立常數)，且CD為經印刷特徵之特徵大小(或臨界尺寸)。自方 程式(1)可見，可以三種方式來獲得特徵之最小可印刷大小之縮減：藉由縮短曝光波長λ、藉由增加數值孔徑NA，或藉由減低k 1之值。
為了縮短曝光波長且因此縮減最小可印刷大小，已提議使用極紫外線(EUV)輻射源。EUV輻射為具有在5奈米至20奈米之範圍內(例如，在13奈米至14奈米之範圍內，例如，在5奈米至10奈米之範圍內，諸如，6.7奈米或6.8奈米)之波長的電磁輻射。可能之源包括(例如)雷射產生電漿源、放電電漿源，或基於藉由電子儲存環提供之同步加速器輻射之源。
可使用電漿來產生EUV輻射。用於產生EUV輻射之輻射系統可包括用於激發燃料以提供電漿之雷射，及用於含有電漿之源收集器模組。可(例如)藉由將雷射光束引導於燃料(諸如，合適材料(例如，錫)之小滴，或合適氣體或蒸汽(諸如，Xe氣體或Li蒸汽)之串流)處來創製電漿。所得電漿發射輸出輻射，例如，EUV輻射，該輻射係使用輻射收集器予以收集。輻射收集器可為鏡面式正入射輻射收集器，其接收輻射且將輻射聚焦成光束。源收集器模組可包括經配置以提供真空環境以支援電漿之圍封結構或腔室。此輻射系統通常被稱為雷射產生電漿(LPP)源。
可能難以向電漿形成部位遞送具有所要大小及所要分離度之燃料材料小滴。
需要提供一種相比於已知輻射源為新穎且具創造性之輻 射源及微影裝置。
根據本發明之一第一態樣，提供一種輻射源燃料小滴產生器，該輻射源燃料小滴產生器包含：一燃料小滴發射器，其連接至一調變電壓源，該調變電壓源經組態以將一第一電壓施加至一燃料小滴串流之一第一部分且將一第二電壓施加至一燃料小滴串流之一第二部分；一第一電極，其經定位成接近於該燃料小滴發射器；及一第二電極，其經定位成較遠離於該燃料小滴發射器；以及一電壓源，其經組態以在該第一電極與該第二電極之間施加一電位差且藉此在該第一電極與該第二電極之間產生一電場，該電場將一減速力施加至該燃料小滴串流之該第一部分及該第二部分中之一者且將一加速力施加至該燃料小滴串流之該第一部分及該第二部分中之另一者。
在一實例中，該第一電壓及該第二電壓相對於該第一電極被固持之一電壓分別為正及負，該電壓可處於零電位。在一實例中，該第一電極與該第二電極之間的該電位差實質上恆定。
在本發明之一些實施例中，對於在該第一電壓之該施加與該第二電壓之該施加之間的一時段，沒有電壓被施加至該小滴串流。
該第一電壓相對於施加至該第一電極之該電壓的量值可相同於或不同於該第二電壓相對於施加至該第一電極之該電壓的量值。
該第一電壓及該第二電壓可被施加歷時相同時段或歷時 不同時段。
根據本發明之一第二態樣，提供一種輻射源燃料小滴串流產生器，該輻射源燃料小滴串流產生器包含：一燃料小滴發射器；及一電極，其經定位成接近於藉由該發射器形成之小滴之形成點；以及一電壓源，其用於在該發射器與該電極之間施加一交流電壓，藉以，一串流中之交替小滴被給出具有交替正負號之電荷。
在一實例中，在一小滴序列中，每隔一個小滴上之該電荷之量值增加。在一實例中，在此序列之後，可在下一序列之前存在沒有電壓被施加的一時段。另外，在一實例中，該交流電壓之該施加可與小滴之該形成同步。
根據本發明之一第三態樣，提供一種輻射源燃料小滴串流產生器，該輻射源燃料小滴串流產生器包含：一燃料小滴發射器；及一電極；以及一電壓源，其用於在該發射器與該電極之間施加一交流電壓，藉以形成一小滴串流，該小滴串流具有相反電正負號或具有相同正負號，但具有不同量值，且該等小滴朝向該電極加速或減速，從而增進該等小滴之聚結。
在一實例中，一恆定電壓可另外被施加至該發射器。
根據本發明之一第四態樣，提供一種輻射源燃料小滴串流產生器，該輻射源燃料小滴串流產生器包含：一燃料小滴發射器；一電極；及一調變電壓源，其連接至該發射器以用於控制該發射器與該電極之間的小滴相對速率，藉以促進較小小滴聚結成較大小滴。
在一實例中，藉由在一電場中向不同小滴提供相反電荷及/或藉由向不同小滴提供具有不同量值之電荷來控制該小滴相對速率。在一實例中，藉由調變一電場來控制該小滴相對速率。
根據本發明之一第五態樣，提供一種微影裝置，該微影裝置包含如上文所定義之一輻射源，且進一步包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化器件，該圖案化器件能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；及一投影系統，其經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上。
根據本發明之一第六態樣，提供一種增進自一燃料小滴發射器所發射之輻射燃料源小滴之聚結的方法，該方法包含藉由將一調變電壓施加至該發射器來控制一串流中之小滴相對速率。
下文參看隨附圖式詳細地描述本發明之另外特徵及優點，以及本發明之各種實施例之結構及操作。應注意，本發明不限於本文所描述之特定實施例。本文僅出於說明性目的而呈現此等實施例。基於本文所含有之教示，額外實施例對於熟習相關技術者將係顯而易見的。
併入本文中且形成本說明書之部分的隨附圖式說明本發明，且連同[實施方式]進一步用以解釋本發明之原理，且 使熟習相關技術者能夠製造及使用本發明。
本發明之特徵及優點已自下文在結合圖式時所闡述之[實施方式]變得更顯而易見，在該等圖式中，類似元件符號始終識別對應元件。在該等圖式中，類似元件符號通常指示等同、功能上相似及/或結構上相似之元件。一元件第一次出現時之圖式係藉由對應元件符號中之最左側數位指示。
本說明書揭示併入本發明之特徵之一或多個實施例。所揭示實施例僅僅例示本發明。本發明之範疇不限於所揭示實施例。本發明係藉由附加於此處之申請專利範圍界定。
所描述實施例及在本說明書中對「一實施例」、「一實例實施例」等等之參考指示所描述實施例可能包括一特定特徵、結構或特性，但每一實施例可能未必包括該特定特徵、結構或特性。此外，此等片語未必指代同一實施例。另外，當結合一實施例來描述一特定特徵、結構或特性時，應理解，無論是否予以明確地描述，結合其他實施例來實現此特徵、結構或特性皆係在熟習此項技術者之認識範圍內。
本發明之實施例可以硬體、韌體、軟體或其任何組合予以實施。本發明之實施例亦可被實施為儲存於機器可讀媒體上之指令，該等指令可藉由一或多個處理器讀取及執行。機器可讀媒體可包括用於儲存或傳輸呈可藉由機器(例如，計算器件)讀取之形式之資訊的任何機構。舉例而言，機器可讀媒體可包括：唯讀記憶體(ROM)；隨機存取 記憶體(RAM)；磁碟儲存媒體；光學儲存媒體；快閃記憶體器件；電學、光學、聲學或其他形式之傳播信號(例如，載波、紅外線信號、數位信號，等等)；及其他者。另外，韌體、軟體、常式、指令可在本文中被描述為執行某些動作。然而，應瞭解，此等描述僅僅係出於方便起見，且此等動作事實上係由計算器件、處理器、控制器或執行韌體、軟體、常式、指令等等之其他器件引起。
然而，在更詳細地描述此等實施例之前，有指導性的是呈現可供實施本發明之實施例的實例環境。
圖1示意性地描繪微影裝置。該裝置包含：照明系統(照明器)IL，其經組態以調節輻射光束B(例如，UV輻射或DUV輻射)；支撐結構(例如，光罩台)MT，其經建構以支撐圖案化器件(例如，光罩)MA，且連接至經組態以根據某些參數來準確地定位該圖案化器件之第一定位器PM；基板台(例如，晶圓台)WT，其經建構以固持基板(例如，抗蝕劑塗佈晶圓)W，且連接至經組態以根據某些參數來準確地定位該基板之第二定位器PW；及投影系統(例如，折射投影透鏡系統)PS，其經組態以將藉由圖案化器件MA賦予至輻射光束B之圖案投影至基板W之目標部分C(例如，包含一或多個晶粒)上。
照明系統可包括用於引導、塑形或控制輻射的各種類型之光學組件，諸如，折射、反射、磁性、電磁、靜電或其他類型之光學組件，或其任何組合。
支撐結構MT以取決於圖案化器件MA之定向、微影裝置 之設計及其他條件(諸如，該圖案化器件是否被固持於真空環境中)的方式來固持該圖案化器件。支撐結構可使用機械、真空、靜電或其他夾持技術以固持圖案化器件。支撐結構可為(例如)框架或台，其可根據需要而固定或可移動。支撐結構可確保圖案化器件(例如)相對於投影系統處於所要位置。
術語「圖案化器件」應被廣泛地解釋為指代可用以在輻射光束之橫截面中向輻射光束賦予圖案以便在基板之目標部分中創製圖案的任何器件。被賦予至輻射光束之圖案可對應於目標部分中所創製之器件(諸如，積體電路)中之特定功能層。
圖案化器件可為透射的或反射的。圖案化器件之實例包括光罩、可程式化鏡面陣列，及可程式化LCD面板。光罩在微影中為吾人所熟知，且包括諸如二元、交變相移及衰減相移之光罩類型，以及各種混合光罩類型。可程式化鏡面陣列之一實例使用小鏡面之矩陣配置，該等小鏡面中每一者可個別地傾斜，以便在不同方向上反射入射輻射光束。傾斜鏡面在藉由鏡面矩陣反射之輻射光束中賦予圖案。
類似於照明系統，投影系統可包括適於所使用之曝光輻射或適於諸如真空之使用之其他因素的各種類型之光學組件，諸如，折射、反射、磁性、電磁、靜電或其他類型之光學組件，或其任何組合。可能需要將真空用於EUV輻射，此係因為其他氣體可能吸收過多輻射。因此，可憑藉 真空壁及真空泵而將真空環境提供至整個光束路徑。
如此處所描繪，裝置為反射類型(例如，使用反射光罩)。
微影裝置可為具有兩個(雙載物台)或兩個以上基板台(及/或兩個或兩個以上光罩台)之類型。在此等「多載物台」機器中，可並行地使用額外台，或可在一或多個台上進行預備步驟，同時將一或多個其他台用於曝光。
參看圖1，照明器IL自源收集器模組SO接收極紫外線(EUV)輻射光束。用以產生EUV輻射之方法包括(但未必限於)用在EUV範圍內之一或多種發射譜線將具有至少一元素(例如，氙、鋰或錫)之材料轉換成電漿狀態。在一種此類方法(常常被稱為雷射產生電漿(「LPP」))中，可藉由用雷射光束來輻照燃料(諸如，具有所需譜線發射元素之材料的小滴)而產生所需電漿。源收集器模組SO可為包括雷射(圖1中未繪示)之EUV輻射源之部件，該雷射用於提供激發燃料之雷射光束。所得電漿發射輸出輻射，例如，EUV輻射，該輻射係使用安置於源收集器模組中之輻射收集器予以收集。
舉例而言，當使用CO2雷射以提供用於燃料激發之雷射光束時，雷射與源收集器模組可為分離實體。在此等狀況下，輻射光束係憑藉包含(例如)合適引導鏡面及/或光束擴展器之光束遞送系統而自雷射傳遞至源收集器模組。可認為雷射及燃料供應件包含EUV輻射源。
照明器IL可包含用於調整輻射光束之角強度分佈之調整 器。通常，可調整照明器之光瞳平面中之強度分佈的至少外部徑向範圍及/或內部徑向範圍(通常分別被稱作σ外部及σ內部)。另外，照明器IL可包含各種其他組件，諸如，琢面化場鏡面器件及琢面化光瞳鏡面器件。照明器可用以調節輻射光束，以在其橫截面中具有所要均一性及強度分佈。
輻射光束B入射於被固持於支撐結構(例如，光罩台)MT上之圖案化器件(例如，光罩)MA上，且係藉由該圖案化器件而圖案化。在自圖案化器件(例如，光罩)MA反射之後，輻射光束B傳遞通過投影系統PS，投影系統PS將該光束聚焦至基板W之目標部分C上。憑藉第二定位器PW及位置感測系統PS2(例如，使用干涉量測器件、線性編碼器或電容性感測器)，可準確地移動基板台WT，例如，以便使不同目標部分C定位於輻射光束B之路徑中。相似地，第一定位器PM及另一位置感測系統PS1可用以相對於輻射光束B之路徑來準確地定位圖案化器件(例如，光罩)MA。可使用光罩對準標記M1、M2及基板對準標記P1、P2來對準圖案化器件(例如，光罩)MA及基板W。
所描繪裝置可用於以下模式中至少一者中：
1.在步進模式中，在將被賦予至輻射光束之整個圖案一次性投影至目標部分C上時，使支撐結構(例如，光罩台)MT及基板台WT保持基本上靜止(亦即，單次靜態曝光)。接著，使基板台WT在X及/或Y方向上移位，使得可曝光不同目標部分C。
2.在掃描模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分C上時，同步地掃描支撐結構(例如，光罩台)MT及基板台WT(亦即，單次動態曝光)。可藉由投影系統PS之放大率(縮小率)及影像反轉特性來判定基板台WT相對於支撐結構(例如，光罩台)MT之速度及方向。
3.在另一模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分C上時，使支撐結構(例如，光罩台)MT保持基本上靜止，從而固持可程式化圖案化器件，且移動或掃描基板台WT。在此模式中，通常使用脈衝式輻射源，且在基板台WT之每一移動之後或在一掃描期間之順次輻射脈衝之間根據需要而更新可程式化圖案化器件。此操作模式可易於應用於利用可程式化圖案化器件(諸如，上文所提及之類型之可程式化鏡面陣列)之無光罩微影。
亦可使用對上文所描述之使用模式之組合及/或變化或完全不同之使用模式。
圖2更詳細地展示微影裝置100，其包括源收集器模組SO、照明系統IL及投影系統PS。源收集器模組SO經建構及配置成使得可將真空環境維持於該源收集器模組之圍封結構220中。
雷射LA經配置以經由雷射光束205而將雷射能量沈積至自燃料小滴串流產生器200所提供之燃料(諸如，氙(Xe)、錫(Sn)或鋰(Li))中。此情形在電漿形成部位211處創製具有數十電子伏特之電子溫度之高度離子化電漿210。在此等離子之去激發及再結合期間所產生之高能輻射係自電漿 予以發射、藉由近正入射輻射收集器CO收集及聚焦。雷射LA及燃料小滴串流產生器200可一起被視為包含EUV輻射源。EUV輻射源可被稱作雷射產生電漿(LPP)源。
可提供第二雷射(圖中未繪示)，第二雷射經組態以在雷射光束205入射於燃料上之前預加熱燃料。使用此途徑之LPP源可被稱作雙雷射脈動(dual laser pulsing,DLP)源。
藉由輻射收集器CO反射之輻射聚焦於虛擬源點IF中。虛擬源點IF通常被稱作中間焦點，且源收集器模組SO經配置成使得中間焦點IF位於圍封結構220中之開口221處或附近。虛擬源點IF為輻射發射電漿210之影像。
隨後，輻射橫穿照明系統IL，照明系統IL可包括琢面化場鏡面器件22及琢面化光瞳鏡面器件24，琢面化場鏡面器件22及琢面化光瞳鏡面器件24經配置以提供在圖案化器件MA處輻射光束21之所要角分佈，以及在圖案化器件MA處輻射強度之所要均一性。在藉由支撐結構MT固持之圖案化器件MA處輻射光束21之反射後，隨即形成經圖案化光束26，且藉由投影系統PS將經圖案化光束26經由反射元件28、30而成像至藉由晶圓載物台或基板台WT固持之基板W上。
通常，比所示元件多之元件可存在於照明系統IL及投影系統PS中。此外，可存在比諸圖所示之鏡面多的鏡面，例如，在投影系統PS中可存在比圖2所示之反射元件多1至6個的額外反射元件。
圖3示意性地展示燃料小滴串流產生器之燃料小滴發射 器310。燃料小滴發射器310包含儲集器300，儲集器300含有燃料液體302(例如，液體錫)。儲集器300連接至毛細管304，毛細管304係藉由壓電致動器306包圍。在壓電致動器306與毛細管304之間提供堅固連接(例如，使用合適黏結材料)，使得振動可自該壓電致動器行進至該毛細管。毛細管304具備噴嘴308，燃料材料係沿著軌跡A而自噴嘴308被噴出。軌跡A係與沿著毛細管304之中心而延行之軸線同軸，如藉由穿過該毛細管之中心之點線示意性地所表示。
在一實施例中，噴嘴308可具有3微米至5微米之直徑。毛細管304之長度可(例如)為25毫米，其中外徑為1毫米且壁厚度為0.2毫米。壓電致動器306之長度可(例如)為大約10毫米，且可使用黏接劑而固定至毛細管304。黏接劑可為高溫黏接劑，亦即，在燃料供應件200之操作溫度下不會放鬆黏接力之黏接劑。壓電致動器306經組態成使得其可以所要調變頻率擠壓毛細管304，藉此以串流之速率可被變化的效應調變該毛細管內之壓力。
在使用時，液體燃料302被固持於儲集器300內部之壓力下。舉例而言，此情形可藉由如下方式達成：加壓於亦位於儲集器300中之氣體(圖中未繪示)，使得藉由該氣體將壓力施加至液體燃料。由於該壓力，燃料串流自噴嘴308流出。在不存在壓電致動器306的情況下，串流將在自噴嘴308行進一距離(該距離為(例如)該噴嘴之直徑之100倍至1000倍)之後自然地破裂，藉此形成小滴串流。此破裂被 稱作瑞立破裂。當發生瑞立破裂時，形成燃料小滴，其中直徑為噴嘴308之直徑之大約兩倍或稍微小於此噴嘴308之直徑之大約兩倍且分離度為該噴嘴之直徑之大約4.5倍。儘管在不致動壓電致動器306的情況下將發生燃料液體串流之瑞立破裂，但壓電致動器306可用以藉由調變毛細管304內部之壓力來控制瑞立破裂。
然而，重要的是應注意，其他類型之燃料小滴發射器可用於本發明之實施例中。詳言之，可能的小滴發射器包括藉由可藉由機械構件輔助或調諧之瑞立破裂機制產生連續小滴串流的小滴發射器。其他可能的小滴發射器為可被稱為按需小滴發射器的小滴發射器，其中藉由某機械刺激及/或電刺激而產生小滴。按需小滴發射器之所得小滴串流可具有恆定小滴頻率。或者，小滴之間的時間可根據需要而變化。
圖3及一些其他圖中指示笛卡爾(Cartesian)座標，以便允許讀者容易地理解不同圖所示之裝置之相對定向。笛卡爾座標不意欲暗示裝置必須具有特定定向。
圖4中示意性地展示燃料小滴串流產生器200。燃料小滴串流產生器200包括圖3之燃料小滴發射器310，且進一步包括第一電極314及第二電極318。調變電壓源312連接於燃料小滴發射器310與第一電極314之間。恆定電壓源316連接於第一電極314與第二電極318之間。第一電極314被固持於可為接地之固定電壓，但亦有可能可使第二電極318或小滴發射器接地。
調變電壓源312經組態以施加自恆定正值Va切換至恆定負值-Va之電壓，繼之以零電壓。正電壓(或第一電壓)Va被施加歷時對應於使燃料小滴發射器310發射小滴串流之小滴之一半所花費之時間的時段，且負電壓-Va(或第二電壓)被施加歷時對應於發射小滴串流之另一半所花費之時間的時段。小滴串流之第一半(或燃料小滴串流之一第一部分)在圖4中被指示為320，且小滴串流之第二半(或燃料小滴串流之一第二部分)被指示為322。因為當發射小滴串流之第一半320時施加正電壓Va，所以此等小滴具有正電荷。相似地，因為當發射小滴串流之第二半322時施加負電壓-Va，所以此等小滴具有負電荷。應理解，在此內容背景中，術語「負電壓」及「正電壓」係相對於電極314之固定電壓。若電極314被固持於零，則此等術語意謂在絕對意義上之正及負，但若(例如)電極314被固持於正電壓，則有可能使在絕對意義上為正但相比於電極314之電壓為負之電壓施加至小滴發射器310。亦應理解，交流電壓Va不僅用來使小滴帶電，而且用來使小滴加速。有可能的是，當電壓Va改變極性時，已經在發射器310與電極314之間行進之小數目個小滴可減速，此係因為該等小滴具有「錯誤(wrong)」電荷，但若發射器310與電極314之間的距離小，則此等小滴在表示該等小滴在串流中之僅小分率之數目方面將很少，且將不會顯著地影響小滴之總加速。
在已發射小滴串流之第二半322之後，藉由調變電壓源312施加之電壓變為零且小滴不帶電。該電壓可保持於零歷時對應於帶電小滴串流之結束與下一帶電小滴串流之開 始之間的時期的時期tsilent。時期tsilent可為任何合適時期。在一實施例中，時期tsilent可為零，亦即，使得電壓自-Va立即改變至Va。在一實施例中，在小滴串流之第二半之結束與後續小滴串流之第一半之開始之間可不存在間隙。
第一電極314具有零電位(或至少一固定電位--其無需為零，此係因為本發明之此實施例在發射器及兩個電極全部被升高達相同固定電位時仍將工作)，且第二電極318係藉由恆定電壓供應件316而設定至固定正(相對於電極314)電壓。以此方式，在電極314與電極318之間產生恆定電場，其中使帶負電燃料小滴(或燃料小滴串流之一第二部分)322加速且使帶正電燃料小滴(或燃料小滴串流之一第一部分)320減速。此情形將引起小滴速率變化--一些小滴將快於其他小滴--且高速小滴將超越低速小滴。在此實例中，高速小滴將帶負電且低速小滴將帶正電，且因此，隨著高速小滴通過低速小滴，將存在將促進及促使聚結之電吸引。
電壓調變及相位差係使得當自燃料小滴發射器310發射帶負電燃料小滴322時，第一電極314具有正電荷。因此，第一電極314吸引燃料小滴322，從而造成該等燃料小滴加速。燃料小滴322傳遞通過第一電極314中之開口315。當燃料小滴322傳遞通過該開口時，該等燃料小滴具有比其在自燃料小滴發射器310被發射時所具有之速度高的速度。
在燃料小滴(或燃料小滴串流之一第一部分及第二部分)320、322已通過第一電極314之後，該等燃料小滴經歷藉由恆定電壓源316施加至第二電極318之電壓 所產生之電場。此電壓為恆定正電壓Vc，且因此，形成小滴串流之第一半之帶正電燃料小滴320經歷推斥力且減速。形成小滴串流之第二半之帶負電燃料小滴322經歷吸引力且加速。此情形造成帶負電燃料小滴322與帶正電燃料小滴320彼此較接近地移動，藉此增進該等燃料小滴聚結成單一燃料小滴。因此，小滴串流320、322聚結成單一小滴324。可在第二電極318之前發生此聚結。亦應注意，取決於電極318之電位高於電極314之電位抑或低於電極314之電位的選擇，且亦取決於串流中之小滴序列(亦即，帶正電小滴是否先於帶負電小滴，或反之亦然)，一個別串流內之帶正電小滴與帶負電小滴可聚結，或一串流中之帶正電小滴可與一緊鄰串流中之帶負電小滴聚結。應進一步理解，此實施例可與可產生隔開式小滴群組之類型之小滴發射器310一起使用(此為所示實施例)，或可與產生連續小滴串流之類型之小滴發射器310一起使用。
若存在相等數目個帶正電小滴與帶負電小滴且所有此等帶電小滴皆具有相同量值之電荷，則所得已聚結之較大小滴將係電中性的。然而，有可能用電荷而藉由形成不等數目個帶正電粒子與帶負電粒子(此可藉由在Va高時及在Va低時具有不等時期而進行)及/或藉由具有不同量值之正電荷與負電荷(此可藉由針對正Va及負Va具有不同量值而進行)來形成已聚結粒子。若用電荷在電極314與電極318之間形成已聚結小滴，則此情形可實現進一步加速。
單一小滴324或剩餘未聚結小滴串流傳遞通過第二電極 318中之開口319。因此，燃料小滴串流產生器200產生一系列燃料小滴324，燃料小滴324可行進至電漿形成部位211(參見圖2)且可用以產生EUV輻射發射電漿。燃料小滴324具有中性電荷，此係因為該等燃料小滴係由帶正電燃料小滴320與帶負電燃料小滴322之組合形成。
與已知燃料小滴串流產生器一樣，燃料小滴324之大小、其速率及其分離度可藉由燃料小滴發射器310之噴嘴308之直徑、施加至儲集器300中之燃料之壓力及藉由壓電致動器306(參見圖3)施加之調變部分地判定。然而，另外，燃料小滴324之速率可藉由施加至第一電極314之電壓修改。另外，歸因於施加至第二電極318之電壓，發生不完全地聚結小滴串流以形成單一小滴之可能性會縮減。
控制器CT可用以控制施加至燃料小滴發射器310之電壓，且控制施加至電極314、318、332之電壓。控制器CT亦可控制燃料小滴發射器310之壓電致動器之致動，且可控制該燃料小滴發射器之其他態樣。
在以上描述中，藉由調變電壓源312提供之電壓之調變係自正至負，且藉由恆定電壓源316提供之恆定電壓為正。然而，可調換電壓之正負號，亦即，使得藉由調變電壓源312提供之電壓之調變係自負至正，且藉由恆定電壓源提供之恆定電壓為負。
如圖4示意性地所表示，第一電極314與燃料小滴發射器310之間的距離可小於該第一電極與第二電極318之間的距離。實際上，在一實例中，發射器310與第一電極314之間 的距離約為在小滴離開發射器310時該等小滴之間的距離，但圖4中出於說明清晰起見而將該距離展示為較大。
施加至第一電極之電壓可經組態以使燃料小滴串流(或燃料小滴串流之一第一部分及第二部分)320、322之小滴加速至相同速率。
電極314中之開口315及電極318中之開口319可具有任何合適形狀及大小。開口315、319可藉由電極314、318完全地包圍，或可藉由該等電極部分地包圍。
圖4所示之本發明之實施例可與藉由壓電致動器306(參見圖3)應用之調變組合，該調變增進藉由燃料小滴發射器310發射之燃料之瑞立破裂。致動器之頻率可接近瑞立破裂頻率(亦即，在為10之因數內)。使用壓電致動器之優點為：歸因於瑞立破裂機制之小滴形成之位置變得被良好地界定。此意謂小滴形成點與電極314之間的距離變得被較好地界定。
圖4所示之實施例可與除了信號Va以外之額外信號組合，其中頻率接近(在因數10內)瑞立破裂頻率，以便增進瑞立破裂。
在本實例中，噴嘴可(例如)具有4微米之直徑。燃料小滴可藉由瑞立破裂而形成且可具有7微米之直徑。小滴可被分離達大約18微米之距離。對應於噴嘴308之小滴產生率之瑞立頻率係與該噴嘴處燃料之平均速度及該噴嘴之直徑有關：
儘管在不致動壓電致動器306的情況下將發生燃料液體串流之瑞立破裂，但壓電致動器306可用以藉由調變毛細管304內部之壓力來控制瑞立破裂。調變毛細管304內部之壓力會調變液體燃料自噴嘴308之射出速度，且造成液體燃料串流在離開噴嘴之後直接地以受控制方式破裂成小滴。若藉由壓電致動器306施加之頻率足夠接近瑞立頻率，則會形成燃料小滴，該等小滴被分離達藉由來自燃料噴嘴308之平均射出速度及藉由壓電致動器306所施加之頻率判定的距離。可藉由圖4所示之本發明之實施例來使燃料小滴加速。可藉由圖4所示之本發明之實施例來增進使燃料小滴聚結以形成較大小滴。
若藉由壓電致動器306施加之頻率顯著地低於瑞立頻率，則代替形成一系列燃料小滴，會形成燃料雲。給定燃料雲可包括以相對高速率行進之小滴群組及以相對低速率行進之小滴群組(該等速率係相對於該燃料雲之平均速率)。此等小滴群組可聚結在一起以形成單一燃料小滴。以此方式，可藉由將顯著地低於瑞立頻率之頻率施加至壓電致動器306而產生一系列燃料小滴。圖4所示之本發明之實施例可結合燃料雲而使用。
亦應注意，在圖4之實施例中，電極314可由以已知距離而隔開以使得小滴被加速至甚至更高速率或較低電壓可用以使小滴加速之一連串電極組成。
圖5中示意性地展示本發明之一替代實施例。本發明之 替代實施例包含燃料小滴發射器310及電極332，調變電壓源338連接於燃料小滴發射器310與電極332之間。燃料小滴發射器310可經組態以發射燃料小滴串流，每一串流在時間方面可能地被分離。在所說明實施例中，每一小滴串流330a至330c包含六個小滴。然而，每一小滴串流可包含任何合適數目個小滴。該等串流之間的距離係任意的。
調變電壓源338經組態以施加在正值與負值之間交替之電壓Vv。電壓在正值與負值之間交替之頻率為燃料小滴藉由燃料小滴發射器310發射之頻率的一半。因此，在所說明實施例中，當發射第一小滴串流330a之第一小滴時電壓為正，當發射該第一小滴串流之第二小滴時電壓為負，當發射該第一小滴串流之第三小滴時電壓為正，等等。結果，第一小滴串流330a之第一小滴、第三小滴及第五小滴帶正電，且該第一小滴串流之第二小滴、第四小滴及第六小滴帶負電。在已發射第一小滴串流330a之最後小滴之後，電壓Vv降至零且保持於零直至藉由燃料小滴發射器310發射第二小滴串流330b之第一小滴為止。接著，在第二小滴串流330b之發射期間以與電壓Vv在第一小滴串流330a之發射期間被施加之方式相同的方式來施加該電壓。可在後續小滴串流之發射期間以相同方式施加電壓Vv。以此方式，每一小滴串流330a至330c之連續小滴被給出具有相反正負號之電荷。噴嘴(或更準確地，小滴形成點)之間的距離應小於兩個小滴之間的距離，否則，電極不能將不同電壓施加至順次小滴。
自圖5可看出，施加至小滴串流之小滴之電壓作為時間的函數而增加。因此，舉例而言，第一小滴串流330a之第一小滴具有相對小正電荷，第一小滴串流330a之第二小滴具有較大負電荷，第一小滴串流330a之第三小滴具有較大正電荷，等等。
或者，另一可能性為：電壓之量值可保持相同(但正負號仍交替)，使得小滴具有相同速率，但具有相同量值之交替正電荷及負電荷。在電極332下游使用額外電極的情況下，吾人可使小滴之一半加快且使另一半減慢，從而導致兩兩小滴聚結，此引起以初始小滴頻率之一半形成中性小滴。
調變電壓源338亦將一電壓施加至電極332。該電壓經調變成使得電極332產生使帶正電小滴及/或帶負電小滴兩者加速之電場。小滴串流330a至330c之最後小滴具有最大電荷，且因此經歷最大加速。小滴串流之第一小滴具有最小電荷，且因此經歷最小加速。中間小滴經歷中間加速，較靠近小滴串流之末端之小滴經歷較大加速。由小滴所經歷之不同加速造成該等小滴較靠攏地移動，藉此增進小滴串流聚結成單一小滴336。單一小滴336傳遞通過電極332中之開口334，且可傳遞至電漿形成部位211(參見圖2)。若tsilent等於零，則稍後將存在小滴序列之一部分，在該部分中，較後小滴將慢於較早小滴，此情形再次將引起聚結。實際上，信號VV之量值之任何調變皆導致聚結，其中最終小滴頻率等於調變頻率。
另一可能性為：供使小滴加速之電壓隨著時間而減低。
因為小滴串流330a至330c之小滴之一半具有正電荷且小滴之一半具有負電荷，所以經由聚結而形成之單一小滴336具有中性電荷(或接近中性之電荷，例如，小於小滴串流之小滴中任一者之電荷的電荷)。
除了增進小滴串流330a至330c聚結成單一小滴336以外，藉由電極332產生之場亦使小滴加速。因此，單一小滴336具有大於其在不存在電極332時將具有之速度的速度。
施加至燃料小滴發射器310之電壓為零之時段tsilent可為任何合適時段。舉例而言，時段tsilent可縮減至零。
儘管在所說明實施例中施加至小滴串流330a至330c之第一小滴之電壓為正，但該電壓可代替地為負。
控制器CT可用以控制施加至燃料小滴發射器310之電壓Vv，且控制施加至電極332之電壓。控制器CT亦可控制燃料小滴發射器310之壓電致動器之致動，且可控制該燃料小滴發射器之其他態樣。
此實施例可與按需小滴系統一起使用，此係因為：在彼狀況下，知曉何時產生小滴且接著使電壓與小滴同步會容易得多。然而，亦有可能使電壓調變與瑞立破裂機制同步，且因此，該實施例亦可與使用瑞立破裂機制之小滴發射器一起使用(無論經電刺激抑或經機械刺激)。
圖6示意性地說明本發明之一另外替代實施例。在此實施例中，藉由電壓源348將交流電壓施加至燃料小滴發射 器310。儘管自燃料小滴發射器310所發射之燃料最初呈連續串流之形式，但該連續串流在被發射之後的某時間破裂成小滴串流340(例如，歸因於瑞立破裂)。
交流電壓源348亦連接至電極342。電極342創製使小滴串流340之燃料小滴加速之電場。因為小滴之一半具有正電荷且小滴之一半具有負電荷，所以會增進小滴聚結成較大小滴346。當交流電壓具有零平均值時，小滴346將係中性的。
藉由交流電壓源348施加之電壓之量值判定發生聚結成較大小滴346的與燃料小滴發射器310相隔之距離，此係因為：當交流電壓之量值較大時，存在小滴速率之較大變化且因此較早地發生聚結。藉由交流電壓源348施加之電壓之頻率判定較大燃料小滴346之頻率且判定較大燃料小滴之大小，此係因為調變之頻率判定速率調變之頻率，速率調變之頻率又判定有多少小滴被聚結且因此判定所得已聚結小滴之大小。
電極342具備小滴串流340傳遞通過之開口344。若在電極342之前已發生小滴串流340聚結成較大燃料小滴346，則該等較大燃料小滴傳遞通過開口344。
圖7示意性地展示本發明之一另外替代實施例。在此另外替代實施例中，恆定電壓源360連接至燃料小滴發射器310，且經配置以將一電荷施加至藉由該燃料小滴發射器發射之燃料。該電荷可為負電荷或正電荷。
恆定電壓源360亦連接至電極352。電極352具有在正負 號方面與施加至自燃料小滴發射器310所發射之燃料之電荷相反的電荷。因此，電極352將吸引力施加至燃料，藉此使燃料朝向該電極加速。
如圖7示意性地所表示，燃料可作為恆定串流而自燃料小滴發射器310被發射，且燃料可破裂成燃料小滴350(例如，歸因於瑞立破裂)。
調變電壓源358將電壓調變應用於電極352。應用於電極352之電壓調變產生增進燃料小滴350聚結成較大燃料小滴串流356之電場。該調變可(例如)具有對應於較大燃料小滴356之頻率的頻率。調變之第一部分可(例如)具有與燃料小滴350之電荷之正負號相同的正負號，藉此將排斥力施加至該等燃料小滴且造成該等燃料小滴減速。調變之第二部分可(例如)具有與燃料小滴之電荷之正負號相反的正負號，藉此將吸引力施加至燃料小滴且造成燃料小滴加速。因此，燃料小滴可較靠攏地移動，從而增進聚結成較大燃料小滴356。
可在電極352之後提供離子化氣體(圖中未繪示)，離子化氣體用以使藉由燃料小滴發射器310施加至燃料之電荷呈中性。可藉由任何合適離子化氣體源提供離子化氣體。
在一另外替代實施例(圖中未繪示)中，將具有相同正負號但具有不同量值之電壓施加至自燃料小滴發射器所發射之燃料。藉由經定位成遠離於燃料小滴發射器之電極來施加恆定電場。恆定電場用較大電荷將較強力施加至燃料小滴且用較小電荷將較弱力施加至燃料小滴。此情形造成將 不同加速施加至燃料小滴，藉此增進聚結成較大燃料小滴。
對於所有實施例，此處可將具有接近瑞立破裂頻率(亦即，在為約10之因數內)之頻率的信號加至電壓，以便增進瑞立破裂。
可在如下不同模式中驅動管狀壓電致動器(例如，圖3所示之壓電致動器306)：例如，長度鍵音½ λ模式、厚度(徑向)鍵音½ λ模式、彎曲模式、較高階諧振(泛音)。此等特性模式受到壓電致動器被安裝之方式影響。可在厚度½ λ模式中驅動圖3所示之壓電致動器306。壓電致動器306之厚度模式頻率係由於毛細管304之存在而降低。壓電致動器306經歷作為額外質量塊之毛細管304且亦經歷增加之硬度。在毛細管304中燃料302之存在亦改變壓電致動器306之厚度模式頻率。壓電致動器306可在其厚度(徑向)模式中受到驅動，使得其在毛細管304中產生駐波。壓電致動器306與毛細管304之壁之組合厚度可為大約XX毫米。若駐波具有½λ=XX毫米，則可使用在壓電致動器306及毛細管304之壁中之聲速來演算駐波之關聯頻率。壓電致動器306可為陶瓷，且毛細管304可為玻璃。在此等材料中之聲速可為4000公尺/秒。因此，駐波之頻率F之估計為(波長=2×厚度)：F=聲速/波長=XX MHz (方程式9)
此頻率接近瑞立頻率。因此，可驅動壓電致動器306以在瑞立頻率下調變毛細管304。
噴嘴308之直徑可(例如)為3微米或3微米以上。使噴嘴308具備小於3微米之直徑可使該噴嘴易受歸因於污染之堵塞的影響。
可需要提供具有大約20微米之直徑之燃料小滴。此直徑之燃料小滴足夠大以使得雷射光束205未命中燃料小滴之風險極小，且此直徑之燃料小滴足夠小以使得大多數燃料藉由該雷射光束汽化且歸因於未汽化燃料材料之污染低。
噴嘴可具有小於將自然地產生具有大約20微米之直徑之燃料小滴(歸因於瑞立破裂)之直徑的直徑。因此，噴嘴可產生較小燃料小滴，該等較小燃料小滴隨後聚結在一起以形成具有所要直徑之燃料小滴。
可(例如)藉由使用電極來使燃料小滴加速而使燃料小滴具備所要速度。可需要使燃料小滴具有高速度(例如，100公尺/秒或更高)。此係因為：速度愈高，則燃料小滴之間的分離度距離愈大(對於在電漿形成部位處燃料小滴遞送之給定頻率)。較大分離度係理想的，此係因為其縮減藉由前一燃料小滴產生之電漿與下一燃料小滴相互作用之風險，例如，造成彼燃料小滴之軌跡之修改。遞送至電漿形成部位之小滴之間的1毫米或1毫米以上之分離度可為理想的(但可使用任何分離度)。
本發明之一或多個實施例可提供如下優點：壓電致動器係在處於或接近其自有諧振頻率之頻率下受到驅動(考量毛細管壁及位於毛細管壁與壓電致動器之間的任何材料)。此情形相比於另外狀況允許更有效率地驅動壓電致 動器。
燃料小滴速度、燃料小滴大小、燃料小滴分離度、儲集器中之燃料壓力、藉由壓電致動器施加之調變頻率、噴嘴之直徑的值僅僅為實例。可使用任何其他合適值。
在本發明之上述實施例中，燃料小滴為液體錫。然而，燃料小滴可由一或多種其他材料(例如，呈液體形式)形成。
壓電致動器306僅僅為可用以將壓力調變應用於液體燃料之致動器之實例。可使用任何合適致動器。
藉由源產生之輻射可(例如)為EUV輻射。EUV輻射可(例如)具有在5奈米至20奈米之範圍內(例如，在13奈米至14奈米之範圍內，例如，在5奈米至10奈米之範圍內，諸如，6.7奈米或6.8奈米)之波長。
儘管在本文中可特定地參考微影裝置在IC製造中之使用，但應理解，本文所描述之微影裝置可具有其他應用，諸如，製造整合式光學系統、用於磁疇記憶體之導引及偵測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCD)、薄膜磁頭、LED、太陽能電池、光子器件，等等。熟習此項技術者應瞭解，在此等替代應用之內容背景中，可認為本文對術語「晶圓」或「晶粒」之任何使用分別與更通用之術語「基板」或「目標部分」同義。可在曝光之前或之後在(例如)塗佈顯影系統(通常將抗蝕劑層施加至基板且顯影經曝光抗蝕劑之工具)、度量衡工具及/或檢測工具中處理本文所提及之基板。適用時，可將本文之揭示內容應用於此等及 其他基板處理工具。另外，可將基板處理一次以上，例如，以便創製多層IC，使得本文所使用之術語「基板」亦可指代已經含有多個經處理層之基板。
術語「透鏡」在內容背景允許時可指代各種類型之光學組件中任一者或其組合，包括折射、反射、磁性、電磁及靜電光學組件。
雖然上文已描述本發明之特定實施例，但應瞭解，可以與所描述之方式不同的其他方式來實踐本發明。以上描述意欲為說明性的而非限制性的。因此，對於熟習此項技術者將顯而易見，可在不脫離下文所闡明之申請專利範圍之範疇的情況下對所描述之本發明進行修改。
應瞭解，[實施方式]章節而非[發明內容]及[中文發明摘要]章節意欲用以解釋申請專利範圍。[發明內容]及[中文發明摘要]章節可闡述如由本發明之發明人所預期的本發明之一或多個而非所有例示性實施例，且因此，不意欲以任何方式來限制本發明及附加申請專利範圍。
上文已憑藉說明指定功能及其關係之實施之功能建置區塊來描述本發明。為了便於描述，本文任意地界定此等功能建置區塊之邊界。只要適當地執行指定功能及該等功能之關係，便可界定替代邊界。
特定實施例之前述描述將充分地揭露本發明之一般性質，使得在不脫離本發明之一般概念的情況下，其他人可藉由應用熟習此項技術者之認識針對各種應用而易於修改及/或調適此等特定實施例，而無不當實驗。因此，基於 本文所呈現之教示及指導，此等調適及修改意欲係在所揭示實施例之等效者的涵義及範圍內。應理解，本文之措辭或術語係出於描述而非限制之目的，使得本說明書之術語或措辭待由熟習此項技術者按照該等教示及該指導進行解釋。
本發明之廣度及範疇不應受到上述例示性實施例中任一者限制，而應僅根據以下申請專利範圍及其等效者進行界定。
21‧‧‧輻射光束
22‧‧‧琢面化場鏡面器件
24‧‧‧琢面化光瞳鏡面器件
26‧‧‧經圖案化光束
28‧‧‧反射元件
30‧‧‧反射元件
100‧‧‧微影裝置
200‧‧‧燃料小滴串流產生器/燃料供應件
205‧‧‧雷射光束
210‧‧‧高度離子化電漿/輻射發射電漿
211‧‧‧電漿形成部位
220‧‧‧圍封結構
221‧‧‧開口
300‧‧‧儲集器
302‧‧‧燃料液體/液體燃料
304‧‧‧毛細管
306‧‧‧壓電致動器
308‧‧‧噴嘴
310‧‧‧燃料小滴發射器
312‧‧‧調變電壓源
314‧‧‧第一電極
315‧‧‧開口
316‧‧‧恆定電壓供應件/恆定電壓源
318‧‧‧第二電極
319‧‧‧開口
320‧‧‧小滴串流之第一半/帶正電燃料小滴/燃料小滴串流
322‧‧‧小滴串流之第二半/帶負電燃料小滴/燃料小滴串流
324‧‧‧單一小滴/燃料小滴
330a‧‧‧第一小滴串流
330b‧‧‧第二小滴串流
330c‧‧‧小滴串流
332‧‧‧電極
334‧‧‧開口
336‧‧‧單一小滴
338‧‧‧調變電壓源
340‧‧‧小滴串流
342‧‧‧電極
344‧‧‧開口
346‧‧‧較大燃料小滴
348‧‧‧交流電壓源
350‧‧‧燃料小滴
352‧‧‧電極
356‧‧‧較大燃料小滴串流/較大燃料小滴
358‧‧‧調變電壓源
360‧‧‧恆定電壓源
B‧‧‧輻射光束
C‧‧‧目標部分
CO‧‧‧近正入射輻射收集器
CT‧‧‧控制器
IF‧‧‧虛擬源點/中間焦點
IL‧‧‧照明系統/照明器
LA‧‧‧雷射
M1‧‧‧光罩對準標記
M2‧‧‧光罩對準標記
MA‧‧‧圖案化器件
MT‧‧‧支撐結構
P1‧‧‧基板對準標記
P2‧‧‧基板對準標記
PM‧‧‧第一定位器
PS‧‧‧投影系統
PS1‧‧‧位置感測系統
PS2‧‧‧位置感測系統
PW‧‧‧第二定位器
SO‧‧‧源收集器模組
W‧‧‧基板
WT‧‧‧基板台
圖1示意性地描繪根據本發明之一實施例的微影裝置。
圖2為包括LPP源收集器模組的圖1之裝置的更詳細視圖。
圖3示意性地描繪可形成圖1及圖2所示之微影裝置之部件的燃料小滴發射器。
圖4示意性地描繪根據本發明之一實施例的可形成輻射源之部件之燃料小滴串流產生器。
圖5示意性地描繪根據本發明之一實施例的可形成輻射源之部件之替代燃料小滴串流產生器。
圖6示意性地描繪根據本發明之一實施例的可形成輻射源之部件之另外替代燃料小滴串流產生器。及圖7示意性地描繪根據本發明之一實施例的可形成輻射源之部件之另外替代燃料小滴串流產生器。
21‧‧‧輻射光束
22‧‧‧琢面化場鏡面器件
24‧‧‧琢面化光瞳鏡面器件
26‧‧‧經圖案化光束
28‧‧‧反射元件
30‧‧‧反射元件
100‧‧‧微影裝置
200‧‧‧燃料小滴串流產生器/燃料供應件
205‧‧‧雷射光束
210‧‧‧高度離子化電漿/輻射發射電漿
211‧‧‧電漿形成部位
220‧‧‧圍封結構
221‧‧‧開口
CO‧‧‧近正入射輻射收集器
IF‧‧‧虛擬源點/中間焦點
IL‧‧‧照明系統/照明器
LA‧‧‧雷射
MA‧‧‧圖案化器件
MT‧‧‧支撐結構
PS‧‧‧投影系統
SO‧‧‧源收集器模組
W‧‧‧基板
WT‧‧‧基板台

Claims (21)

  1. 一種輻射源燃料小滴串流產生器(radiation source fuel droplet stream generator)，其包含：一燃料小滴發射器，其連接至一調變電壓源(modulating voltage source)，該調變電壓源經組態以將一第一電壓施加至一燃料小滴串流(stream of fuel droplets)之一第一部分且將一第二電壓施加至一燃料小滴串流之一第二部分；一第一電極，其經定位成接近於該燃料小滴發射器；一第二電極，其經定位成較遠離於燃料小滴發射器；及一電壓源，其經組態以在該第一電極與該第二電極之間施加一電位差(potential difference)且藉此在該第一電極與該第二電極之間產生一電場(electric field)，該電場將一減速力(decelerating force)施加至該燃料小滴串流之該第一部分及該第二部分中之一者且將一加速力(accelerating force)施加至該燃料小滴串流之該第一部分及該第二部分中之另一者。
  2. 如請求項1之輻射源燃料小滴串流產生器，其中該第一電壓及該第二電壓相對於該第一電極被固持之一電壓分別為正及負。
  3. 如請求項1或2之輻射源燃料小滴串流產生器，其中該第一電極被固持於零電位。
  4. 如請求項1或2之輻射源燃料小滴串流產生器，其中該第 一電極與該第二電極之間的該電位差實質上恆定。
  5. 如請求項1或2之輻射源燃料小滴串流產生器，其中對於在該第一電壓之該施加與該第二電壓之該施加之間的一時段，沒有電壓被施加至該小滴串流。
  6. 如請求項1或2之輻射源燃料小滴串流產生器，其中該第一電壓相對於施加至該第一電極之該電壓的量值相同於該第二電壓相對於施加至該第一電極之該電壓的量值。
  7. 如請求項1或2之輻射源燃料小滴串流產生器，其中該第一電壓相對於施加至該第一電極之該電壓的量值不同於該第二電壓相對於施加至該第一電極之該電壓的量值。
  8. 如請求項1或2之輻射源燃料小滴串流產生器，其中該第一電壓及該第二電壓被施加歷時相同時段。
  9. 如請求項1或2之輻射源燃料小滴串流產生器，其中該第一電壓及該第二電壓被施加歷時不同時段。
  10. 一種輻射源燃料小滴串流產生器，其包含：一燃料小滴發射器；一電極，其經定位成接近於藉由該發射器形成之小滴之形成點(formation point)；及一電壓源，其經組態以在該發射器與該電極之間施加一交流電壓(alternating voltage)，藉以，一串流中之交替小滴被給出具有交替正負號之電荷。
  11. 如請求項10之輻射源燃料小滴串流產生器，其中在一小滴序列中，每隔一個小滴上之該電荷之量值增加。
  12. 如請求項11之輻射源燃料小滴串流產生器，其中在該小滴序列之後，在下一序列之前存在沒有電壓被施加的一時段。
  13. 如請求項10至12中任一項之輻射源燃料小滴串流產生器，其中該交流電壓之該施加係與小滴之該形成同步。
  14. 一種輻射源燃料小滴串流產生器，其包含：一燃料小滴發射器；一電極；及一電壓源，其經組態以在該發射器與該電極之間施加一交流電壓，藉以形成一小滴串流，該小滴串流具有相反電正負號或具有相同正負號，但具有不同量值，且該等小滴朝向該電極加速或減速，從而增進該等小滴之聚結(coalescence)。
  15. 如請求項14之輻射源燃料小滴串流產生器，其中一恆定電壓另外被施加至該發射器。
  16. 一種輻射源燃料小滴串流產生器，其包含：一燃料小滴發射器；一電極；及一調變電壓源，其連接至該發射器以用於控制該發射器與該電極之間的小滴相對速率，藉以促進較小小滴聚結成較大小滴。
  17. 如請求項16之輻射源燃料小滴串流產生器，其中藉由在一電場中向不同小滴提供相反電荷來控制該小滴相對速 率。
  18. 如請求項16或17之輻射源燃料小滴串流產生器，其中藉由向不同小滴提供具有不同量值之電荷來進一步控制該小滴相對速率。
  19. 如請求項16之輻射源燃料小滴串流產生器，其中藉由調變一電場來控制該小滴相對速率。
  20. 一種微影裝置，其包含：如請求項1至19中任一項之輻射源燃料小滴串流產生器；一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化器件(patterning devic)，該圖案化器件能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；及一投影系統，其經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上。
  21. 一種增進(promoting)自一燃料小滴發射器所發射之輻射源燃料小滴之聚結的方法，其包含藉由將一調變電壓施加至該發射器來控制一串流中之小滴相對速率。
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