JP5951980B2 - 半導体ガスセンサ素子、半導体ガスセンサ素子の製造方法、及びガス検出装置 - Google Patents
半導体ガスセンサ素子、半導体ガスセンサ素子の製造方法、及びガス検出装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5951980B2 JP5951980B2 JP2011279342A JP2011279342A JP5951980B2 JP 5951980 B2 JP5951980 B2 JP 5951980B2 JP 2011279342 A JP2011279342 A JP 2011279342A JP 2011279342 A JP2011279342 A JP 2011279342A JP 5951980 B2 JP5951980 B2 JP 5951980B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- electrode
- sensor element
- sensitive body
- semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 53
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000012778 molding material Substances 0.000 claims description 20
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 9
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 144
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 11
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 2
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000012615 aggregate Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- -1 siloxane Chemical class 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Description
図1に示す構成のガス検出装置8を使用した。このガス検出装置8の半導体ガスセンサ素子1を作製するにあたり、線径20μmの白金線から、リード線5,6,7、ヒータ兼用電極2及び芯線状電極3を形成した。ヒータ兼用電極2の長さは0.5mm、直径は0.3mm、ターン数は7とした。また、酸化スズ粉末とα−アルミナ粉末を混合し、これに溶剤を加えることで、ペースト状の成形用組成物を得た。この成形用組成物を、ヒータ兼用電極2の内側に芯線状電極3が配置されている状態でこのヒータ兼用電極2の内部に注入することで、ヒータ兼用電極2の内部を成形用組成物で満たすことで、ヒータ兼用電極2の外側を成形用組成物で覆った。この成形用組成物を焼成することで、長さ0.35mm、直径0.3mmの寸法を有する、図2に示すような形状の感ガス体4を形成した。
実施例1において、半導体ガスセンサ素子を作製するにあたり、線径20μmの白金線から、リード線、ヒータ兼用電極及び芯線状電極を形成した。ヒータ兼用電極の長さは0.5mm、直径は0.3mm、ターン数は7とした。また、酸化スズ粉末とα−アルミナ粉末を混合し、これに溶剤を加えることで、ペースト状の成形用組成物を得た。この成形用組成物をヒータ兼用電極の内部に注入し、更に成形用組成物をヒータ兼用電極に外側から塗布することで、ヒータ兼用電極全体を成形用組成物で包み込んだ。この成形用組成物を焼成することで、長さ0.35mm、直径0.4mmの寸法を有し、且つ内部にヒータ兼用電極が埋設された、楕円体状の感ガス体を形成した。
実施例1及び比較例1で得られた各ガス検出装置を測定用回路に接続し、ヒータ兼用電極に通電して半導体ガスセンサ素子を420℃に加熱した状態で、このガス検出装置を空気雰囲気中に配置した。続いてこの雰囲気中に水素を10ppmの濃度となるように注入し、続いてこの雰囲気中に更に水素を20ppmの濃度となるように注入した。続いてガス検出装置の周囲の水素を含むガスを排気してガス検出装置を再び空気雰囲気中に配置した。次いで、ガス検出装置の周囲に雰囲気中にエタノール蒸気を10ppmの濃度となるように注入した。。続いてガス検出装置の周囲のエタノールを含むガスを排気してガス検出装置を再び空気雰囲気中に配置した。
2 電極(ヒータ兼用電極)
4 感ガス体
8 ガス検出装置
Claims (3)
- 金属酸化物半導体を含有する感ガス体と、コイル状の電極とを備え、
前記感ガス体が前記コイル状の電極の内側でこのコイル状の電極を構成する線材に接触すると共に、前記コイル状の電極の外側にははみ出さない形状であり、且つ前記コイル状の電極の両端又は一端に、前記感ガス体が存在しない部分がある半導体ガスセンサ素子。 - 請求項1に記載の半導体ガスセンサ素子の製造方法であって、金属酸化物半導体の粉末を含有する成形材料をコイル状の電極の内側に注入することで、前記コイル状の電極の両端又は一端に前記成形材料が存在しない部分があるように、前記成形材料で前記コイル状の電極の内部を満たす工程と、前記成形材料を焼成する工程とを含む半導体ガスセンサ素子の製造方法。
- 請求項1に記載の半導体ガスセンサ素子を備えるガス検出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011279342A JP5951980B2 (ja) | 2011-12-21 | 2011-12-21 | 半導体ガスセンサ素子、半導体ガスセンサ素子の製造方法、及びガス検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011279342A JP5951980B2 (ja) | 2011-12-21 | 2011-12-21 | 半導体ガスセンサ素子、半導体ガスセンサ素子の製造方法、及びガス検出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013130441A JP2013130441A (ja) | 2013-07-04 |
JP5951980B2 true JP5951980B2 (ja) | 2016-07-13 |
Family
ID=48908114
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011279342A Active JP5951980B2 (ja) | 2011-12-21 | 2011-12-21 | 半導体ガスセンサ素子、半導体ガスセンサ素子の製造方法、及びガス検出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5951980B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6203214B2 (ja) * | 2015-04-30 | 2017-09-27 | 日本写真印刷株式会社 | 半導体式ガスセンサの製造方法及びガス検知装置 |
JP2018189480A (ja) * | 2017-05-02 | 2018-11-29 | 凸版印刷株式会社 | 化学センシング電極、化学センシング装置、及び化学センシング電極の製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51152388U (ja) * | 1975-05-29 | 1976-12-04 | ||
JPS61189257U (ja) * | 1985-05-17 | 1986-11-26 | ||
JPH09269308A (ja) * | 1996-04-02 | 1997-10-14 | New Cosmos Electric Corp | 熱線型半導体式ガス検知素子及びガス検知装置 |
JP3935790B2 (ja) * | 2002-07-05 | 2007-06-27 | 新コスモス電機株式会社 | 半導体式ガス検知素子とその製造方法 |
JP4806232B2 (ja) * | 2005-08-24 | 2011-11-02 | エフアイエス株式会社 | 半導体ガスセンサ及びガスクロマトグラフ用半導体ガスセンサ |
-
2011
- 2011-12-21 JP JP2011279342A patent/JP5951980B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013130441A (ja) | 2013-07-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2007099933A1 (ja) | 水素ガスセンサ | |
JP2008249494A (ja) | 水素ガスセンサ | |
JPH0517650Y2 (ja) | ||
JP6224311B2 (ja) | 半導体ガスセンサ素子 | |
JP5951980B2 (ja) | 半導体ガスセンサ素子、半導体ガスセンサ素子の製造方法、及びガス検出装置 | |
US4528086A (en) | Oxygen sensor with heater | |
MXPA99005862A (es) | Detector de gas halogeno. | |
JP5012036B2 (ja) | 硫黄成分検出装置 | |
JP2004294079A (ja) | ガスセンサの製造方法 | |
JPS6133132B2 (ja) | ||
JP4041228B2 (ja) | フロンガスセンサおよびその製造方法 | |
JP7403232B2 (ja) | 半導体式ガス検知素子 | |
JP2004020377A (ja) | 接触燃焼式ガスセンサ | |
JP2005127743A (ja) | アンモニアガスセンサ | |
JPH1194784A (ja) | ガスセンサ | |
JP6203214B2 (ja) | 半導体式ガスセンサの製造方法及びガス検知装置 | |
JP5906531B2 (ja) | 半導体式ガス検知素子 | |
JP2020165896A (ja) | Mems型半導体式ガス検知素子 | |
JPS628135B2 (ja) | ||
JP5266287B2 (ja) | ガス濃度検出装置 | |
JP2726886B2 (ja) | 接触燃焼式一酸化炭素センサ | |
JP5548035B2 (ja) | ガスクロマトグラフ及びガスクロマトグラフの使用方法 | |
WO2020203100A1 (ja) | Mems型半導体式ガス検知素子 | |
JP2009002888A (ja) | 接触燃焼式ガスセンサ | |
JPS5886448A (ja) | 可燃性ガス検知素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140929 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20141024 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20141104 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20141104 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150507 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150526 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150727 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160209 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160411 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160607 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160609 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5951980 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |