JP5951329B2 - 液晶表示装置 - Google Patents
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Claims (8)
- TFTと画素電極がマトリクス状に形成された表示領域と端子領域を有するTFT基板の前記端子領域に形成された端子部金属の上に、第1の絶縁膜と第2の絶縁膜が形成され、前記第1の絶縁膜と前記第2の絶縁膜にコンタクトホールが形成され、前記コンタクトホールと前記第2の絶縁膜の上に第1のITOが形成された端子を有し、導電粒子を有するASCを介して他の回路と接続する液晶表示装置であって、
前記コンタクトホールの内部に前記第1の絶縁膜の上に第2のITOが積層され、この上に第1のITOが積層された領域を有し、
前記コンタクトホールにおける前記端子部金属と前記第1のITOとが接触する部分の幅sは、前記導電粒子の径をdとした場合、s<dであることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記液晶表示装置はIPS方式の液晶表示装置であり、
前記端子部金属はゲート電極と同じ材料で形成され、前記第1の絶縁膜はゲート絶縁膜であり、前記第2の絶縁膜は無機パッシベーション膜であり、前記第1のITOはコモン電極と同じ材料で形成され、前記第2のITOは画素電極と同じ材料で形成されたものであることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記コンタクトホールは、前記端子部金属の上に複数個形成されていることを特徴する請求項2に記載の液晶表示装置。
- TFTと画素電極がマトリクス状に形成された表示領域と端子領域を有するTFT基板の前記端子領域に形成された端子部金属の上に、第1の絶縁膜と第2の絶縁膜と第3の絶縁膜が形成され、前記第1の絶縁膜と前記第2の絶縁膜と前記第3の絶縁膜にコンタクトホールが形成され、前記コンタクトホールと前記第3の絶縁膜の上に第1のITOが形成された端子を有し、導電粒子を有するASCを介して他の回路と接続する液晶表示装置であって、
前記コンタクトホールの内部に前記第1の絶縁膜、前記第2の絶縁膜、第2のITOがこの順で積層され、前記第2のITOの上に第1のITOが積層された領域を有し、
前記コンタクトホールにおける前記端子部金属と前記第1のITOとが接触する部分の幅sは、前記導電粒子の径をdとした場合、s<dであることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記液晶表示装置はIPS方式の液晶表示装置であり、
前記端子部金属はゲート電極と同じ材料で形成され、前記第1の絶縁膜はゲート絶縁膜であり、前記第2の絶縁膜は無機パッシベーション膜であり、前記第3の絶縁膜は層間絶縁膜であり、前記第1のITOは画素電極またはコモン電極と同じ材料で形成され、前記第2のITOは、前記画素電極あるいは前記コモン電極のうちの、前記第1のITOとは異なる材料で形成されたものであることを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置。 - 前記コンタクトホールは、前記端子部金属の上に複数個形成されていることを特徴する請求項5に記載の液晶表示装置。
- TFTと画素電極がマトリクス状に形成された表示領域と端子領域を有するTFT基板の前記端子領域において、第1の絶縁膜の上に端子部金属が形成され、
前記端子部金属の上に第2の絶縁膜と第3の絶縁膜が形成され、前記第2の絶縁膜と前記第3の絶縁膜にコンタクトホールが形成され、前記コンタクトホールと前記第3の絶縁膜の上に第1のITOが形成された端子を有し、導電粒子を有するASCを介して他の回路と接続する液晶表示装置であって、
前記コンタクトホールの内部に前記第2の絶縁膜の上に第2のITOが積層され、この上に第1のITOが積層された領域を有し、
前記コンタクトホールにおける前記端子部金属と前記第1のITOとが接触する部分の幅sは、前記導電粒子の径をdとした場合、s<dであることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記液晶表示装置はIPS方式の液晶表示装置であり、
前記第1の絶縁膜はゲート絶縁膜であり、前記端子部金属はドレイン電極と同じ材料で形成され、前記第2の絶縁膜は無機パッシベーション膜であり、前記第3の絶縁膜は層間絶縁膜であり、前記第1のITOは画素電極またはコモン電極と同じ材料で形成されたものであり、前記第2のITOは、前記画素電極あるいは前記コモン電極のうちの、前記第1のITOとは異なる材料で形成されたものであることを特徴とする請求項7に記載の液晶表示装置。
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