JP5921542B2 - 紫外線電灯システム及び放出される紫外線光を制御するための方法 - Google Patents
紫外線電灯システム及び放出される紫外線光を制御するための方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5921542B2 JP5921542B2 JP2013519767A JP2013519767A JP5921542B2 JP 5921542 B2 JP5921542 B2 JP 5921542B2 JP 2013519767 A JP2013519767 A JP 2013519767A JP 2013519767 A JP2013519767 A JP 2013519767A JP 5921542 B2 JP5921542 B2 JP 5921542B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultraviolet light
- intensity
- detector
- reflector
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 24
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 20
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 8
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 5
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 4
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 2
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003070 Statistical process control Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012800 visualization Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B41/00—Circuit arrangements or apparatus for igniting or operating discharge lamps
- H05B41/14—Circuit arrangements
- H05B41/36—Controlling
- H05B41/38—Controlling the intensity of light
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B41/00—Circuit arrangements or apparatus for igniting or operating discharge lamps
- H05B41/14—Circuit arrangements
- H05B41/26—Circuit arrangements in which the lamp is fed by power derived from dc by means of a converter, e.g. by high-voltage dc
- H05B41/28—Circuit arrangements in which the lamp is fed by power derived from dc by means of a converter, e.g. by high-voltage dc using static converters
- H05B41/2806—Circuit arrangements in which the lamp is fed by power derived from dc by means of a converter, e.g. by high-voltage dc using static converters with semiconductor devices and specially adapted for lamps without electrodes in the vessel, e.g. surface discharge lamps, electrodeless discharge lamps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
- H01J65/044—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by a separate microwave unit
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02B—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
- Y02B20/00—Energy efficient lighting technologies, e.g. halogen lamps or gas discharge lamps
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Discharge Lamps And Accessories Thereof (AREA)
Description
Claims (23)
- 紫外線光を生成するための装置であって、
プラズマ電球と、
前記紫外線光を放出する前記プラズマ電球を励起するように、マイクロ波エネルギー場を生成するように動作可能であるマイクロ波発生器と、
前記紫外線光の強度を測定するように構成された検出器と、
前記プラズマ電球と前記検出器との間に配置された反射器と
を備え、
前記反射器は、前記プラズマ電球によって生成される前記紫外線光の少なくとも一部分を反射するように動作可能であり、
前記検出器と前記反射器との間に配置されたシャッターを更に備え、
前記シャッターは、前記検出器の少なくとも一部分から前記紫外線光を実質的に遮断するように構成されている装置。 - 前記紫外線光の放出を制御するように構成された制御システムを更に備え、
前記制御システムは、前記紫外線光についての目標強度を受信し、前記検出器から前記紫外線光の前記測定強度を決定し、前記目標強度が前記測定強度に相当するか否かを評価し、前記紫外線光の強度を調整するために、前記マイクロ波発生器に対する電力を調整するように構成されている請求項1に記載の装置。 - 前記制御システムは、前記紫外線光の前記目標強度が前記紫外線光の前記測定強度より大きいときに前記マイクロ波発生器に対する前記電力を増加させるように更に構成されている請求項2に記載の装置。
- 前記制御システムは、前記紫外線光の前記目標強度が前記紫外線光の前記測定強度より小さいときに前記マイクロ波発生器に対する前記電力を減少させるように更に構成されている請求項2に記載の装置。
- 前記制御システムは、前記紫外線光に対して前記検出器の前記一部分を少なくとも部分的に露出させるように前記シャッターを動作させるように更に構成されている請求項2に記載の装置。
- 前記制御システムは、表示装置を含み、
前記制御システムは、前記紫外線光の前記測定強度を前記表示装置に示すように更に構成されている請求項2に記載の装置。 - 前記制御システムは、表示装置を含み、
前記制御システムは、前記プラズマ電球、前記反射器、又は前記マイクロ波発生器のうちの少なくとも1つの変動を決定し、前記変動を前記表示装置に示すように更に構成されている請求項2に記載の装置。 - 前記検出器は、前記反射器の厚さを通して前記紫外線光の強度を測定する請求項1に記載の装置。
- 前記反射器は、2色性被覆を含み、
前記検出器は、前記2色性被覆を透過した前記紫外線光の強度を測定する請求項8に記載の装置。 - 前記反射器は、第1の厚さの第1の部分及び第2の厚さの第2の部分を有する2色性被覆を含み、
前記検出器は、前記2色性被覆の前記第2の部分を透過した前記紫外線光の強度を測定する請求項8に記載の装置。 - 前記反射器は、2色性被覆を含み、
前記反射器の一部分は、前記2色性被覆がなく、
前記検出器は、前記反射器の前記一部分を透過した前記紫外線光の強度を測定するように構成されている請求項8に記載の装置。 - 前記反射器は、前記反射器の厚さを通して延在する開口を含み、
前記検出器は、前記開口を透過した前記紫外線光の強度を測定する請求項1に記載の装置。 - 前記シャッターは、閉鎖されると、前記検出器の少なくとも一部分から前記紫外線光を実質的に遮断するように構成されている請求項1に記載の装置。
- 紫外線光を生成する電灯システムを制御する方法であって、
前記紫外線光についての目標強度を受信することと、
検出器を使用して前記紫外線光の強度を測定することと、
前記目標強度を前記測定強度と比較することと、
前記比較に応じて、前記紫外線光の強度を調整するために、マイクロ波発生器に対する電力を調整することと
を含み、
前記検出器を使用して前記紫外線光の強度を測定することは、
前記検出器の一部分を少なくとも部分的に露出させるように、前記検出器と反射器との間に配置されたシャッターを動作させることと、
前記検出器から、前記紫外線光の前記測定強度の表示を取込むことと
を含む方法。 - 前記電力を調整することは、
前記紫外線光の前記目標強度が前記紫外線光の前記測定強度より大きい場合、前記マイクロ波発生器に対する前記電力を増加させることを含む請求項14に記載の方法。 - 前記電力を調整することは、
前記紫外線光の前記目標強度が前記紫外線光の前記測定強度より小さい場合、前記マイクロ波発生器に対する前記電力を減少させることを含む請求項14に記載の方法。 - 前記検出器を使用して前記紫外線光の強度を測定することは、
前記検出器の前記一部分を前記紫外線光に対する露出から遮断するように前記シャッターを動作させることを含む請求項14に記載の方法。 - 前記紫外線光の前記測定強度を表示装置に示すことを更に含む請求項14に記載の方法。
- 前記紫外線光の供給源、前記反射器、又は前記マイクロ波発生器のうちの少なくとも1つの変動を決定することと、
前記変動を表示装置に示すことと
を更に含む請求項14に記載の方法。 - 前記検出器を使用して前記紫外線光の強度を測定することは、
前記紫外線光の供給源と前記検出器との間に配置された前記反射器の一部分を通して前記紫外線光を透過させることを更に含む請求項14に記載の方法。 - 前記検出器を使用して前記紫外線光の強度を測定することは、
前記反射器の前記一部分上の2色性被覆を通して前記紫外線光を透過させることを更に含む請求項20に記載の方法。 - 前記検出器を使用して前記紫外線光の強度を測定することは、
前記反射器に設けられた開口を通して前記検出器まで前記紫外線光を透過させることを更に含む請求項21に記載の方法。 - 紫外線光を生成する電灯システムを制御するシステムであって、
前記紫外線光についての目標強度を受信する手段と、
検出器を使用して前記紫外線光の強度を測定する手段と、
前記目標強度を前記測定強度と比較する手段と、
前記比較に応じて、前記紫外線光の強度を調整するために、マイクロ波発生器に対する電力を調整する手段と、
を備え、
前記検出器を使用して前記紫外線光の強度を測定する手段は、
前記検出器の一部分を少なくとも部分的に露出させるように、前記検出器と反射器との間に配置されたシャッターを動作させる手段と、
前記検出器から、前記紫外線光の前記測定強度の表示を取込む手段と
を含むシステム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US36357210P | 2010-07-12 | 2010-07-12 | |
US61/363,572 | 2010-07-12 | ||
PCT/US2011/043706 WO2012009353A1 (en) | 2010-07-12 | 2011-07-12 | Ultraviolet lamp system and method for controlling emitted ultraviolet light |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013541126A JP2013541126A (ja) | 2013-11-07 |
JP5921542B2 true JP5921542B2 (ja) | 2016-05-24 |
Family
ID=45469780
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013519767A Active JP5921542B2 (ja) | 2010-07-12 | 2011-07-12 | 紫外線電灯システム及び放出される紫外線光を制御するための方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9439273B2 (ja) |
JP (1) | JP5921542B2 (ja) |
KR (1) | KR20130123370A (ja) |
CN (1) | CN102986302B (ja) |
DE (1) | DE112011102339T5 (ja) |
WO (1) | WO2012009353A1 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BR112013013941B1 (pt) | 2010-12-05 | 2019-10-15 | Oy Halton Group Ltd. | Métodos de manter um sistema de tratamento de ar por ultravioleta |
DE102011079531A1 (de) * | 2011-07-21 | 2013-01-24 | Ist Metz Gmbh | Bestrahlungsvorrichtung zur UV-Strahlungsbehandlung |
US8907564B2 (en) | 2012-01-04 | 2014-12-09 | Nordson Corporation | Microwave excited ultraviolet lamp system with data logging and retrieval circuit and method |
GB2495161B (en) * | 2012-02-28 | 2013-08-07 | Gew Ec Ltd | Ink curing apparatus |
US9171747B2 (en) | 2013-04-10 | 2015-10-27 | Nordson Corporation | Method and apparatus for irradiating a semi-conductor wafer with ultraviolet light |
JP6691530B2 (ja) * | 2014-07-07 | 2020-04-28 | ノードソン コーポレーションNordson Corporation | 紫外線システムにおける高周波源の好適性を決定するためのシステム及び方法 |
DE102015016730A1 (de) | 2015-12-22 | 2017-06-22 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | UV-Aushärtevorrichtung mit geteilten UV-Umlenkspiegeln |
US10739253B2 (en) * | 2016-06-07 | 2020-08-11 | Youv Labs, Inc. | Methods, systems, and devices for calibrating light sensing devices |
US10475636B2 (en) * | 2017-09-28 | 2019-11-12 | Nxp Usa, Inc. | Electrodeless lamp system and methods of operation |
US11299405B2 (en) | 2017-09-28 | 2022-04-12 | Nxp Usa, Inc. | Purification apparatus with electrodeless bulb and methods of operation |
KR102430452B1 (ko) * | 2017-11-03 | 2022-08-05 | 헤라우스 노블라이트 아메리카 엘엘씨 | 자외선 램프 시스템 및 그의 동작 및 구성 방법 |
US20200124468A1 (en) | 2018-10-19 | 2020-04-23 | Emmanuel Dumont | Methods, systems, and apparatuses for accurate measurement of health relevant uv exposure from sunlight |
WO2020113149A1 (en) * | 2018-11-28 | 2020-06-04 | Gold Mine Ideas, Llc | Uv pathogen control device and system |
US11083810B2 (en) * | 2019-01-07 | 2021-08-10 | Ghsp, Inc. | Control panel having UV disinfection |
US11388809B2 (en) * | 2019-03-25 | 2022-07-12 | Recarbon, Inc. | Systems for controlling plasma reactors |
DE102021103961A1 (de) * | 2021-02-19 | 2022-08-25 | Ledvance Gmbh | Leuchtvorrichtung zur Luftdesinfektion in einer Umgebung |
DE102021112174A1 (de) * | 2021-05-10 | 2022-11-10 | Robert Bürkle GmbH | UV-Bestrahlungsvorrichtung für Beschichtungsanlagen sowie Verfahren zur Qualitätssicherung |
DE102021003128A1 (de) * | 2021-06-17 | 2022-12-22 | Rausch Rehab GmbH | Vorrichtung und Verfahren zur Intensitätsmessung von der durch eine UV-Strahlungsquelle erzeugten UV-Strahlung |
CN114554654A (zh) * | 2022-02-16 | 2022-05-27 | 无锡商业职业技术学院 | 一种基于氧化物薄膜光电效应的紫外线强度控制器 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4665627A (en) * | 1985-11-01 | 1987-05-19 | Research, Incorporated | Dry film curing machine with ultraviolet lamp controls |
US5723943A (en) * | 1994-11-10 | 1998-03-03 | Atto Instruments, Inc. | Methods and apparatuses for high-speed control of lamp intensities and/or wavelengths and for high-speed optical data transmission |
AU5324801A (en) * | 2000-04-07 | 2001-10-30 | Nordson Corp | Microwave excited ultraviolet lamp system with improved lamp cooling |
JP2002079203A (ja) * | 2000-09-07 | 2002-03-19 | Techno Plex:Kk | 紫外線照射装置と紫外線照射装置の制御方法 |
US6323601B1 (en) * | 2000-09-11 | 2001-11-27 | Nordson Corporation | Reflector for an ultraviolet lamp system |
JP3782736B2 (ja) | 2002-01-29 | 2006-06-07 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びその制御方法 |
JP2004041843A (ja) * | 2002-07-09 | 2004-02-12 | Ushio Inc | 紫外線照射装置 |
JP2006501620A (ja) * | 2002-09-30 | 2006-01-12 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理システムとともに光学系を使用するための装置及び方法 |
US6933683B2 (en) | 2003-02-27 | 2005-08-23 | Nordson Corporation | Microwave powered lamphead having external shutter |
US6850010B1 (en) * | 2003-07-16 | 2005-02-01 | Fusion Uv Systems, Inc. | Microwave powered lamp with reliable detection of burned out light bulbs |
US7709814B2 (en) * | 2004-06-18 | 2010-05-04 | Axcelis Technologies, Inc. | Apparatus and process for treating dielectric materials |
DE102004037603B3 (de) | 2004-08-03 | 2005-10-27 | Atlas Material Testing Technology Gmbh | Regelung der UV-Strahlungsquellen einer Bewitterungsvorrichtung auf der Basis der gemittelten Strahlungsintensität |
US7692171B2 (en) * | 2006-03-17 | 2010-04-06 | Andrzei Kaszuba | Apparatus and method for exposing a substrate to UV radiation using asymmetric reflectors |
JP2008053014A (ja) * | 2006-08-23 | 2008-03-06 | Orc Mfg Co Ltd | 光照射装置 |
GB2454666B (en) * | 2007-11-13 | 2012-05-16 | Jenact Ltd | Methods and apparatus for generating ultraviolet light |
JP2009289528A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Harison Toshiba Lighting Corp | 紫外線照射装置 |
JP2009289527A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Harison Toshiba Lighting Corp | 紫外線照射装置 |
US20100096569A1 (en) * | 2008-10-21 | 2010-04-22 | Applied Materials, Inc. | Ultraviolet-transmitting microwave reflector comprising a micromesh screen |
JP5424616B2 (ja) * | 2008-11-11 | 2014-02-26 | タツモ株式会社 | エキシマ照射装置 |
-
2011
- 2011-07-12 DE DE112011102339T patent/DE112011102339T5/de not_active Withdrawn
- 2011-07-12 WO PCT/US2011/043706 patent/WO2012009353A1/en active Application Filing
- 2011-07-12 US US13/704,385 patent/US9439273B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-07-12 CN CN201180034214.5A patent/CN102986302B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-07-12 KR KR1020137003382A patent/KR20130123370A/ko not_active Application Discontinuation
- 2011-07-12 JP JP2013519767A patent/JP5921542B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9439273B2 (en) | 2016-09-06 |
KR20130123370A (ko) | 2013-11-12 |
CN102986302B (zh) | 2016-06-15 |
WO2012009353A1 (en) | 2012-01-19 |
US20130093322A1 (en) | 2013-04-18 |
DE112011102339T5 (de) | 2013-04-18 |
JP2013541126A (ja) | 2013-11-07 |
CN102986302A (zh) | 2013-03-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5921542B2 (ja) | 紫外線電灯システム及び放出される紫外線光を制御するための方法 | |
JP6877601B2 (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の運転方法 | |
US7187138B2 (en) | Excimer lamp apparatus | |
US8111388B2 (en) | Luminous flux depreciation notification system for light fixtures incorporating light emitting diode sources | |
US20180359823A1 (en) | Cooking apparatus and method of controlling the cooking apparatus | |
EP1605251B1 (en) | Gas sensor arrangement with reduced settling time | |
EP1879215B1 (en) | Ultraviolet lamp system with cooling air control | |
WO2012005316A1 (ja) | 電子レンジ | |
TWI621374B (zh) | 雙燈泡燈頭控制方法 | |
JP2009152203A (ja) | Uvランプシステム及びその改善したマグネトロン制御方法 | |
WO2017094459A1 (ja) | エキシマレーザ装置 | |
CN104345529A (zh) | 图像投影设备和控制方法 | |
JP2010500730A (ja) | 放電ランプの駆動方法、駆動配置及びプロジェクタシステム | |
JP3869295B2 (ja) | 照明装置内のマイクロ波の漏出を遮断する装置及びその方法 | |
US11206949B1 (en) | High power density toaster | |
JP2010034293A (ja) | 露光用光照射装置 | |
JP6691530B2 (ja) | 紫外線システムにおける高周波源の好適性を決定するためのシステム及び方法 | |
JP2006269596A (ja) | フラッシュランプ発光装置 | |
JP2011147909A (ja) | 紫外線照射装置 | |
KR20000051301A (ko) | 전자렌지의 제어방법 | |
JP2004084992A (ja) | 加熱調理器 | |
JPH10123298A (ja) | 誘電体バリア放電装置 | |
JP5907808B2 (ja) | 加熱調理器 | |
US8179532B1 (en) | Method and apparatus for monitoring the condition of a projector lamp | |
US20240014052A1 (en) | Synchronization between temperature measurement device and radiation sources |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140711 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150318 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150324 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150624 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150924 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160315 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160412 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5921542 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |