JP5916023B2 - 半導体非破壊検査装置及び半導体非破壊検査方法 - Google Patents
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Description
半導体層を含む積層構造体に対して所定の波長を有するパルスレーザー光を照射し、当該パルスレーザー光照射位置から放射される電磁波により前記積層構造体を非破壊で検査する半導体非破壊検査装置であって、
前記パルスレーザー光をプローブ光とポンプ光とに2分割するレーザー光分割手段と、
前記積層構造体に前記ポンプ光を照射することで、当該ポンプ光照射位置から前記電磁波を放射させる手段と、
前記ポンプ光照射位置から放射される前記電磁波が入射され、当該入射された電磁波の振幅強度に応じた電流を発生させる検出素子と、
前記検出素子に接続され、前記検出素子で発生した電流を電圧に変換する電流アンプと、
前記電流アンプに接続され、前記電流アンプで変換された電圧を前記電磁波の振幅強度の時間波形に対応した時間的に変化する電圧信号に変換するロックインアンプと、
前記プローブ光の光路に配置され、前記検出素子に前記電磁波が入射する時間を周期的に遅延可能である時間遅延手段と、
前記時間的に変化する電圧信号と、予め参照データとして準備した前記積層構造体を構成する各単層構造体の時間的に変化する電圧信号を比較することで、前記積層構造体の各層の電子物性情報又は各層間界面の電子物性情報を取得する物性情報取得手段と、
を有し、
前記電磁波の振幅強度は、
前記積層構造体の各層間界面に形成される空乏層にそれぞれ対応して前記各層間界面近傍に形成される局所電界の向き及び大きさに応じて比例するとともに、前記各層間界面近傍からそれぞれ放射される電磁波の振幅強度が合算されたものであり、
前記局所電界の向き及び大きさは、前記積層構造体の各層の物性状態や該各層間の界面の物性状態によって変化し、
組成の異なる前記積層構造体を検査する際に、各積層構造体の前記時間的に変化する電圧信号の波形パターンを比較する半導体非破壊検査装置である。
前記積層構造体の前記時間的に変化する電圧信号の周波数成分と、予め参照データとして準備した前記積層構造体を構成する各単層構造体の時間的に変化する電圧信号の周波数成分を算出する算出手段をさらに有し、
前記物性情報取得手段は、前記積層構造体の前記時間的に変化する電圧信号の周波数成分と、前記各単層構造体の時間的に変化する電圧信号の周波数成分を比較することで、前記積層構造体の各層の電子物性情報又は各層間界面の電子物性情報を取得する半導体非破壊検査装置である。
前記パルスレーザー光の中心波長を変化させる波長変化手段をさらに有する半導体非破壊検査装置である。
前記積層構造体に前記ポンプ光を照射して、2次元的に走査する走査手段をさらに有する半導体非破壊検査装置である。
前記パルスレーザー光の偏光方向を任意の角度に回転させる機構をさらに有する半導体非破壊検査装置である。
前記半導体非破壊検査装置を用いて、半導体層を含む積層構造体に対して所定の波長を有するパルスレーザー光を照射し、当該パルスレーザー光照射位置から放射される電磁波により前記積層構造体を非破壊で検査する半導体非破壊検査方法であって、
前記パルスレーザー光をプローブ光とポンプ光とに2分割する分割工程と、
前記ポンプ光を前記積層構造体に照射し、前記積層構造体から放射される電磁波を集光して、前記検出素子に入射させる入射工程と、
前記プローブ光を、所定の周期にて時間遅延させながら、前記ポンプ光により放射された前記パルス電磁波の入射と同期させて前記検出素子に照射するプローブ光照射工程と、
前記プローブ光の照射時に前記検出素子に入射した前記ポンプ光による前記パルス電磁波の振幅強度を検出することで、前記積層構造体における遅延時間の異なる複数の前記パルス電磁波の振幅強度を取得して、前記積層構造体における前記パルス電磁波の時系列波形を生成する時系列波形生成工程と、
前記積層構造体に帰属する時系列波形と、予め参照データとして準備した前記積層構造体を構成する各単層構造体に帰属する時系列波形を比較することで、前記積層構造体の各層の電子物性情報又は各層間界面の電子物性情報を取得する工程と、を有する半導体非破壊検査方法である。
なお、本発明における「電子物性情報」とは、前述した半導体ウェハ等の「半導体層を含む積層構造体」における固体電子物性に関する物性値などの情報である。このような「電子物性情報」としては、特に限定するものではないが、例えば、半導体のキャリア濃度、キャリア(電子、正孔)の移動度、キャリア寿命、原子配列(結晶方向に関する情報)、有効質量(m*)、及び層間電界分布などが挙げられる。
なお、上記電圧信号に関連付けて解析する物性情報としては、上記のように半導体層を含む積層構造体の各界面や各層に存在する物質濃度に限定するものではなく、半導体物性であるキャリア寿命、電子移動度、層間電界分布、及び結晶方向等も挙げられる。
図1は、本実施例の半導体非破壊検査装置の概略図である。この図に示すように、本実施例の検査装置1は、照射装置(光学系)、検出・変換装置4、及び制御・解析装置8を備える。
なお、パルスレーザー光9の方向を変更するために使用した鏡等の構成は、本実施形態に限定するものではなく、各構成部品の配置を考慮して、例えば更に鏡の数を増やす等適宜構成を変更してもかまわない。
また、このパルスレーザー光9の波長は、300ナノメートル(300nm=0.3μm)以上、2ミクロン(2μm)以下の範囲に含まれるものであり、時間平均のエネルギーが0.1mW以上、10W以下であり、パルス幅が1フェムト秒(1fs=0.001ps)以上、10ピコ秒(10ps)以下であるのがよい。
すなわち、電磁波の励起に際しては、光源として時間の幅の小さなパルスレーザー光9を用いることにより、半導体ウェハ5に大きな熱的影響を及ぼさない状態で、電磁波の励起ができる。また、特にパルスレーザー光9としてフェムト秒レーザー光を使用することで、高い時間分解能による時間分解計測が可能となり、検査対象である半導体ウェハ5をリアルタイムで観測可能となる。なお、半導体ウェハ5に熱的影響を及ぼさない最大光パルス幅は、約10ピコ秒と見積ることができる。また、フェムト秒レーザーを使用することで、レーザーによる加熱の影響を最小限に抑えることができるという効果がある。
なお、前記所定の解析としては、パルス電磁波10の振幅強度の時系列波形に基づく画像処理、及び所定のフーリエ変換等の演算処理も含む。
なお、本実施例における半導体非破壊検査装置1は、前記パルスレーザー光9を2次元的に走査して照射する手段(走査台7、パルスレーザー光源2)を備えているが、計測を行う際に必ず走査を行う必要はなく、計測環境に応じて走査の要不要を判断し適宜使用すればよい。
以上の装置構成及び原理によって、検査対象である半導体ウェハ5の検査が行われる。
図8に示すように、SiGe層のGe濃度の異なるもの(Ge組成:3%、7%、9%、0%)を検査対象の半導体ウェハとして作製した。またGe組成が0%である試料(試料名K−6−91、図9、図10ではHomoepiと記載している試料)は、SiGe層が形成されていないSi層とp−Si基板とからなるものである。これら各試料を上述した半導体非破壊検査装置1により検査した結果が図9及び図10である。
なお、上記SiGe層が形成されていないSi層とp−Si基板とからなる試料は、p−Si基板上に1層のSi層のみ形成された1層構造体であり、本明細書ではこれを単層構造体と呼ぶ。
4 検出・変換装置
5 半導体ウェハ
8 制御・解析装置
9 パルスレーザー光
10 パルス電磁波
14 ビームスプリッタ
15 時間遅延手段
19 検出素子
27 電流アンプ
28 ロックインアンプ
Claims (6)
- 半導体層を含む積層構造体に対して所定の波長を有するパルスレーザー光を照射し、当該パルスレーザー光照射位置から放射される電磁波により前記積層構造体を非破壊で検査する半導体非破壊検査装置であって、
前記パルスレーザー光をプローブ光とポンプ光とに2分割するレーザー光分割手段と、
前記積層構造体に前記ポンプ光を照射することで、当該ポンプ光照射位置から前記電磁波を放射させる手段と、
前記ポンプ光照射位置から放射される前記電磁波が入射され、当該入射された電磁波の振幅強度に応じた電流を発生させる検出素子と、
前記検出素子に接続され、前記検出素子で発生した電流を電圧に変換する電流アンプと、
前記電流アンプに接続され、前記電流アンプで変換された電圧を前記電磁波の振幅強度の時間波形に対応した時間的に変化する電圧信号に変換するロックインアンプと、
前記プローブ光の光路に配置され、前記検出素子に前記電磁波が入射する時間を周期的に遅延可能である時間遅延手段と、
前記時間的に変化する電圧信号と、予め参照データとして準備した前記積層構造体を構成する各単層構造体の時間的に変化する電圧信号を比較することで、前記積層構造体の各層の電子物性情報又は各層間界面の電子物性情報を取得する物性情報取得手段と、
を有し、
前記電磁波の振幅強度は、
前記積層構造体の各層間界面に形成される空乏層にそれぞれ対応して前記各層間界面近傍に形成される局所電界の向き及び大きさに応じて比例するとともに、前記各層間界面近傍からそれぞれ放射される電磁波の振幅強度が合算されたものであり、
前記局所電界の向き及び大きさは、前記積層構造体の各層の物性状態や該各層間の界面の物性状態によって変化し、
組成の異なる前記積層構造体を検査する際に、各積層構造体の前記時間的に変化する電圧信号の波形パターンを比較する、
ことを特徴とする半導体非破壊検査装置。 - 前記積層構造体の前記時間的に変化する電圧信号の周波数成分と、予め参照データとして準備した前記積層構造体を構成する各単層構造体の時間的に変化する電圧信号の周波数成分を算出する算出手段をさらに有し、
前記物性情報取得手段は、前記積層構造体の前記時間的に変化する電圧信号の周波数成分と、前記各単層構造体の時間的に変化する電圧信号の周波数成分を比較することで、前記積層構造体の各層の電子物性情報又は各層間界面の電子物性情報を取得する
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体非破壊検査装置。 - 前記パルスレーザー光の中心波長を変化させる波長変化手段をさらに有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体非破壊検査装置。
- 前記積層構造体に前記ポンプ光を照射して、2次元的に走査する走査手段をさらに有することを特徴とする請求項1から請求項3の何れか一項に記載の半導体非破壊検査装置。
- 前記パルスレーザー光の偏光方向を任意の角度に回転させる機構をさらに有することを特徴とする請求項1から請求項4の何れか一項に記載の半導体非破壊検査装置。
- 請求項1記載の半導体非破壊検査装置を用いて、半導体層を含む積層構造体に対して所定の波長を有するパルスレーザー光を照射し、当該パルスレーザー光照射位置から放射される電磁波により前記積層構造体を非破壊で検査する半導体非破壊検査方法であって、
前記パルスレーザー光をプローブ光とポンプ光とに2分割する分割工程と、
前記ポンプ光を前記積層構造体に照射し、前記積層構造体から放射される電磁波を集光して、前記検出素子に入射させる入射工程と、
前記プローブ光を、所定の周期にて時間遅延させながら、前記ポンプ光により放射された前記パルス電磁波の入射と同期させて前記検出素子に照射するプローブ光照射工程と、
前記プローブ光の照射時に前記検出素子に入射した前記ポンプ光による前記パルス電磁波の振幅強度を検出することで、前記積層構造体における遅延時間の異なる複数の前記パルス電磁波の振幅強度を取得して、前記積層構造体における前記パルス電磁波の時系列波形を生成する時系列波形生成工程と、
前記積層構造体に帰属する時系列波形と、予め参照データとして準備した前記積層構造体を構成する各単層構造体に帰属する時系列波形を比較することで、前記積層構造体の各層の電子物性情報又は各層間界面の電子物性情報を取得する工程と、を有する
ことを特徴とする半導体非破壊検査方法。
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