JP5912395B2 - Substrate upper surface detection method and scribing apparatus - Google Patents
Substrate upper surface detection method and scribing apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP5912395B2 JP5912395B2 JP2011226517A JP2011226517A JP5912395B2 JP 5912395 B2 JP5912395 B2 JP 5912395B2 JP 2011226517 A JP2011226517 A JP 2011226517A JP 2011226517 A JP2011226517 A JP 2011226517A JP 5912395 B2 JP5912395 B2 JP 5912395B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- distance
- sub
- brittle material
- substrate
- material substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S17/00—Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
- G01S17/02—Systems using the reflection of electromagnetic waves other than radio waves
- G01S17/06—Systems determining position data of a target
- G01S17/08—Systems determining position data of a target for measuring distance only
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
- B28D5/00—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
- B28D5/0058—Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/14—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring distance or clearance between spaced objects or spaced apertures
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S17/00—Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
- G01S17/88—Lidar systems specially adapted for specific applications
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Remote Sensing (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
- Dicing (AREA)
Description
本発明はスクライブ装置に用いられ、テーブル上に配置される脆性材料基板の上面を検出するための基板上面検出方法及びスクライブ装置に関するものである。 The present invention relates to a substrate upper surface detection method and a scribe device for detecting the upper surface of a brittle material substrate disposed on a table, which is used in a scribe device.
従来スクライブ装置では特許文献1などに示されているように、テーブル上に脆性材料基板(以下、単に基板ともいう)が配置され、この基板に対してスクライブヘッドを上下動すると共に、基板の面に平行に移動させることによって基板をスクライブしている。このとき基板に所定の荷重をかけてスクライブするためにスクライブヘッドの刃先の位置を認識しておく必要がある。図1は従来のスクライブ装置の主要部を示している。スクライブ装置はテーブル101上に配置された脆性材料基板102に対して上下動自在のスクライブヘッド103を有しており、スクライブヘッド103の上部には基準位置を設定するためのセンサドグ104が設けられている。センサドグ104では投光器から受光器に向けてレーザ光が投光されている。そしてスクライブヘッド103に取付けられた遮蔽板105がレーザ光を遮光する位置を零点とし、この点より下方にスクライブヘッド103が移動したときに正方向とする。遮蔽板105がセンサドグ104のレーザ光を遮ると、スクライブヘッド103は上昇を停止するため、センサドグ104の位置より上には上昇しない。即ちスクライブヘッド103の上下方向(z軸方向)の移動距離は常に零又は正の値となるように制御される。
In the conventional scribing apparatus, as shown in
さて従来のスクライブ装置等では、テーブル101上に配置された脆性材料基板102の基板上面までの距離を認識するために、図2に示すようにスクライブヘッド103を徐々に低下させる。そして脆性材料基板102に接触して抵抗が増加した時点を脆性材料基板102の上面の位置として設定する。このときにはスクライブヘッドの刃先が脆性材料基板102の製品部分102aを傷つけないようにするため、脆性材料基板102の製品が形成されていない周辺の部分102bにスクライブヘッド103を当接させて距離を測定していた。
In the conventional scribing apparatus or the like, the
このように従来の基板の上面検出時では、基板の上面を検出するためにスクライブヘッドを基板に対し下降させているが、急激に下降させると基板に過大な力が加わってしまう。従ってスクライブヘッドを徐々に下降させる必要があり、基板の上面検出に時間がかかるという問題点があった。又基板毎にスクライブヘッドの零点位置からの距離を確認する必要があるため、基板の上面検出はスクライブ装置毎に行う必要があった。又センサドグの位置がスクライブ装置毎にばらつきがあるため、基板上面までの距離やスクライブするパターンをデータとして保持するレシピテーブルについても、スクライブ装置毎に異ならせる必要があるという問題点があった。更に基板の周辺部分にスクライブヘッドを接触させるため、基板の中央部分までの距離は必ずしも正確でないという問題点もあった。 As described above, when detecting the upper surface of the conventional substrate, the scribe head is lowered with respect to the substrate in order to detect the upper surface of the substrate. However, if the scribe head is rapidly lowered, an excessive force is applied to the substrate. Therefore, it is necessary to gradually lower the scribe head, and there is a problem that it takes time to detect the upper surface of the substrate. Further, since it is necessary to confirm the distance from the zero point position of the scribe head for each substrate, it is necessary to detect the upper surface of the substrate for each scribe device. Further, since the position of the sensor dog varies from scribing apparatus to scribing apparatus, there is a problem that the recipe table that holds the distance to the upper surface of the substrate and the pattern to be scribed as data must be different for each scribing apparatus. Further, since the scribe head is brought into contact with the peripheral portion of the substrate, there is a problem that the distance to the central portion of the substrate is not always accurate.
本発明はこのような従来の基板の上面検出方法の問題点に鑑みてなされたものであって、迅速且つ正確に検出すると共に、スクライブ装置の種類にかかわらずスクライブする際に共通したレシピテーブルを用いることができるようにすることを技術的課題とする。 The present invention has been made in view of the problems of the conventional method for detecting the upper surface of a substrate, and it is possible to quickly and accurately detect a recipe table that is common when scribing regardless of the type of scribing apparatus. It is a technical problem to enable use.
この課題を解決するために、本発明の基板上面検出方法は、テーブル及び基準ブロックを上面に保持するサブテーブルと、下端にスクライビングホイールを有し、前記サブテーブルに対して上下動自在のスクライブヘッドと、前記サブテーブルの上面側上方の位置に保持され下方の反射面までの距離を測定する非接触変位計とを有するスクライブ装置における基板上面検出方法であって、前記サブテーブル上の前記テーブルの上面までの距離d1を前記非接触変位計によって検出し、前記サブテーブル上に配置された基準ブロックの上面までの距離d2を前記非接触変位計によって検出し、前記テーブルと基準ブロックとのz軸方向の差(Δd=d2−d1)を登録し、基準位置からスクライブヘッドを下降させ前記基準ブロックの上面に当接するまでの距離d3を登録し、スクライブヘッドから見た前記テーブルの上面d3−Δdを零点として設定し、前記テーブル上に加工対象となる脆性材料基板を配置し、前記非接触変位計によって脆性材料基板の少なくとも一点までの距離d4を検出し、前記脆性材料基板の高さD4を(D4=d1−d4)とし、(d3−Δd)−D4をスクライビングヘッドから前記脆性材料基板までの距離とするものである。 In order to solve this problem, a substrate upper surface detection method of the present invention includes a sub-table that holds a table and a reference block on the upper surface, a scribing wheel at a lower end, and a scribing head that is movable up and down relative to the sub-table. And a non-contact displacement meter for measuring a distance to a lower reflecting surface that is held at a position above the upper surface side of the sub-table, and for detecting the upper surface of the substrate on the sub-table. The distance d1 to the upper surface is detected by the non-contact displacement meter, the distance d2 to the upper surface of the reference block arranged on the sub-table is detected by the non-contact displacement meter, and the z axis between the table and the reference block The direction difference (Δd = d2−d1) is registered, and the scribe head is lowered from the reference position so as to contact the upper surface of the reference block. The distance d3 until registration is registered, the upper surface d3-Δd of the table viewed from the scribe head is set as a zero point, a brittle material substrate to be processed is placed on the table, and the brittle material is measured by the non-contact displacement meter The distance d4 to at least one point of the substrate is detected, the height D4 of the brittle material substrate is (D4 = d1−d4), and (d3−Δd) −D4 is the distance from the scribing head to the brittle material substrate. Is.
ここで前記脆性材料基板の高さを前記脆性材料基板の機能領域を含む複数部分について測定し、その平均値を算出して求めるようにしてもよい。 Here, the height of the brittle material substrate may be measured for a plurality of portions including the functional region of the brittle material substrate, and an average value thereof may be calculated.
この課題を解決するために、本発明のスクライブ装置は、テーブル及び基準ブロックを上面に保持するサブテーブルと、下端にスクライブヘッドを有し、前記サブテーブルに対して上下動自在のスクライブヘッドと、前記サブテーブルの上面側上方(例えば、CCDカメラ27奥側)の位置に保持され、下方の反射面までの距離を測定する非接触変位計と、前記スクライブヘッドと前記テーブル上の脆性材料基板をその基板のスクライブされる面に平行な方向で相対的に移動させる移動手段と、前記サブテーブルの上面を零の位置として前記テーブル上に加工対象となる脆材料基板を配置し、前記移動手段及びスクライブヘッドを移動させてスクライブする制御部と、を具備するものである。 In order to solve this problem, the scribing device of the present invention has a sub-table that holds the table and the reference block on the upper surface, a scribe head at the lower end, and a scribing head that is movable up and down with respect to the sub-table, A non-contact displacement meter that is held at a position on the upper surface side of the sub-table (for example, the back side of the CCD camera 27) and measures the distance to the lower reflecting surface, the scribe head, and a brittle material substrate on the table. A moving means for relatively moving in a direction parallel to a surface to be scribed of the substrate, a brittle material substrate to be processed on the table with the upper surface of the sub-table as a zero position, and the moving means and And a controller for scribing by moving the scribe head.
ここで前記制御部は、前記サブテーブル上のテーブルの上面までの距離d1及び基準ブロックの上面までの距離d2を夫々前記非接触変位計によって検出し、基準位置からスクライブヘッドを下降させ前記基準ブロックの上面に当接するまでの距離d3を検出し、d2−d1をΔdとするとスクライブヘッドから見た前記テーブルの上面d3−Δdを零点として設定し、前記非接触変位計によって脆性材料基板の少なくとも一点までの距離d4を検出し、前記脆性材料基板の高さD4を(D4=d1−d4)とし、(d3−Δd)−D4をスクライビングヘッドから前記脆性材料基板までの距離としてもよい。 Here, the control unit detects the distance d1 to the upper surface of the table on the sub-table and the distance d2 to the upper surface of the reference block by the non-contact displacement meter, and lowers the scribe head from the reference position to thereby lower the reference block. The distance d3 until contact with the upper surface of the substrate is detected, and when d2-d1 is Δd, the upper surface d3-Δd of the table viewed from the scribe head is set as a zero point, and at least one point of the brittle material substrate by the non-contact displacement meter The distance d4 may be detected, the height D4 of the brittle material substrate may be (D4 = d1-d4), and (d3-Δd) -D4 may be the distance from the scribing head to the brittle material substrate.
ここで前記制御部は、前記脆性材料基板の高さを前記脆性材料基板の機能領域を含む複数部分について測定し、その平均値を算出して求めるようにしてもよい。 Here, the control unit may measure the height of the brittle material substrate for a plurality of portions including the functional region of the brittle material substrate and calculate an average value thereof.
このような特徴を有する本発明によれば、テーブルの上面を零点として設定しており、テーブル上に配置される脆性材料基板の上面までの距離がレシピテーブルに設定されるため、スクライブ装置の種類にかかわらず同一種類の基板については共通したレシピテーブルを用いることができる。又脆性材料基板の周辺部分ではなく製品が構成されている部分に光を照射して非接触でその高さを検出するため、迅速に基板の上面の高さを設定できるという効果が得られる。更に請求項2及び5の発明では、脆性材料基板の製品が構成されている複数部分に光を照射して距離を測定し、平均値を用いるため、より正確に基板の高さを設定できるという効果が得られる。
According to the present invention having such a feature, the upper surface of the table is set as a zero point, and the distance to the upper surface of the brittle material substrate disposed on the table is set in the recipe table. Regardless, a common recipe table can be used for the same type of substrates. In addition, since the height is detected in a non-contact manner by irradiating light not on the peripheral portion of the brittle material substrate but on the portion where the product is formed, the effect of being able to quickly set the height of the upper surface of the substrate is obtained. Furthermore, in the inventions of
図3Aは、本発明の実施の形態による基板上面検出装置を適用したスクライブ装置の一例を示す概略斜視図である。このスクライブ装置10は、移動台11が一対の案内レール12a、12bに沿って、y軸方向に移動自在に保持されている。ボ−ルネジ13は移動台11と螺合している。ボールネジ13はモータ14の駆動により回転し、移動台11を案内レール12a,12bに沿ってy軸方向に移動させる。移動台11の上面にはモータ15が設けられている。モータ15はサブテーブル16をxy平面で回転させて所定角度に位置決めするものである。
FIG. 3A is a schematic perspective view showing an example of a scribing apparatus to which the substrate upper surface detection apparatus according to the embodiment of the present invention is applied. In the
スクライブ装置10には、移動台11とその上部のサブテーブル16をまたぐようにブリッジ20がx軸方向に沿って支柱21a,21bにより架設されている。ブリッジ20はサーボモータ23によってスクライブヘッド22及びCCDカメラ27を移動自在に保持している。スクライブヘッド22の先端部には、ホルダ24を介してスクライビングホイール25が取付けられている。CCDカメラ27はサブテーブル16上の状態をモニタするためのカメラである。サーボモータ23はボールねじ26を回転させることによりスクライブヘッド22及びCCDカメラ27を案内レール28a,28bによりx軸方向に沿って直線駆動するものである。スクライブヘッド22は、スクライビングホイール25を脆性材料基板の表面上に適切な荷重にて圧接しながら転動させていき、スクライブラインを形成するものである。
In the
次にサブテーブル16上に配置されるテーブルとワークについて図4を用いて説明する。本実施の形態ではサブテーブル16上に4つのテーブル31,32,33,34が設けられており、更にその側方には基準ブロック35が設けられる。基準ブロック35の高さは4つのテーブル31〜34とほぼ同一であり、例えば1.5mmの高さを有するものとする。テーブル31〜34の上面には夫々脆性材料基板36〜39が固定される。脆性材料基板36〜39は例えば低温焼成セラミックス基板であり、図示しない真空吸引手段などによりテーブル31〜34上に保持される。
Next, tables and workpieces arranged on the sub-table 16 will be described with reference to FIG. In the present embodiment, four tables 31, 32, 33, and 34 are provided on the sub-table 16, and a
又図3Bに示すようにブリッジ20にはCCDカメラ27奥側の位置にサブテーブルとの間の距離を測定するためのレーザ変位計41が固定されている。レーザ変位計41は後述するように、サブテーブル16の上部に配置される基板及び基準ブロックまでの高さを検出する非接触変位計である。
As shown in FIG. 3B, a
更にスクライブヘッド22にはその上端位置にセンサドグ42が配置されている。センサドグ42は一対の投受光器から成る光電センサによって構成されており、その光電センサの光を遮蔽できるような遮蔽板43がスクライブヘッド22に設けられる。センサドグ42の光電センサの光を遮蔽板43が遮蔽する位置がスクライブヘッド22の最上端位置となり、常にこれより下方に位置するように制御されている。
Further, a
又サーボモータ44はスクライブヘッド22をz軸方向に移動させるモータであり、その軸にはサーボエンコーダ45が設けられる。又サーボモータ44の出力軸にはプーリ46aが取付けられ、プーリ46a,46bとその間に張り渡されている伝達ベルト47を介してボールネジ48に回転力が伝えられる。スクライブヘッド22はボールネジ48の回転によって上下動するように構成されている。
The
ここで移動台11、案内レール12a,12bやサブテーブル16及びこれらを駆動するモータ14,15及びスクライブヘッド22を移動させるサーボモータ23は、スクライブヘッドと脆性材料基板をその基板のスクライブされる面に平行な方向で相対的に移動させる移動手段を構成している。
Here, the moving table 11, the
次に本実施の形態によるスクライブ装置10のコントローラの構成について、ブロック図を用いて説明する。図5はスクライブ装置10のコントローラ50のブロック図である。本図においてCCDカメラ27からの出力はコントローラ50の画像処理部51を介して制御部52に与えられる。入力部53はレシピテーブル作成時に必要なデータを入力するものである。制御部52にはXモータ駆動部54が接続され、更にYモータ駆動部55,回転用モータ駆動部56及びスクライブヘッド駆動部57が接続される。Xモータ駆動部54はサーボモータ23を駆動するものである。Yモータ駆動部55はモータ14を駆動するものである。回転用モータ駆動部56はモータ15を駆動するものである。スクライブヘッド駆動部57はモータ44を駆動するものである。制御部52はスクライブラインのデータに基づいて、サブテーブル16のy軸方向の位置を制御し、サブテーブル16を回転制御する。又制御部52はスクライブヘッド駆動部57を介してスクライブヘッドをz軸方向に駆動すると共に、スクライビングホイール25の転動時にスクライビングホイール25が脆性材料基板の表面上を適切な荷重にて圧接するように駆動するものである。更に制御部52にはモニタ58及びデータ保持部59が接続される。データ保持部59は後述する撮像ポイントの位置データやスクライブのためのスクライブデータを保持するものである。又制御部52にはスクライブヘッドをz方向に駆動するモータに連結されたサーボエンコーダ45及びレーザ変位計41の出力が入力されている。制御部52はこれらの入力に基づいて後述するようにテーブルの上面と基板の上面位置を検出し、スクライブを実行できるようにするものである。
Next, the configuration of the controller of the
次にこの実施の形態によるテーブルの零点位置検出及びその後のレシピテーブル作成について説明する。図6A〜図6Dはスクライブ装置のサブテーブル16上の1つのテーブル31とレーザ変位計41,スクライブヘッド22等を示す概略図であり、図7はフローチャートである。
Next, detection of the zero position of the table and subsequent recipe table creation according to this embodiment will be described. 6A to 6D are schematic views showing one table 31 on the sub-table 16 of the scribing apparatus, the
まず図6Aに示すように、スクライブヘッド22が最も上部位置であり、遮蔽板43がセンサドグ42の光電センサの光を遮蔽する位置とする。そして図7に示すステップS1において、テーブル31を交換した際にサブテーブル16上に設けられるテーブル31の上面位置をレーザ変位計41によって測定する。このときのテーブル31までの距離をd1とすると、一旦データ保持部59に保持する。
First, as shown in FIG. 6A, the
ステップS2において、図6Bに示すようにレーザ変位計41の下方に基準ブロック35が位置するようにサブテーブル16を移動させる。そして基準ブロック35上にレーザ光を照射してレーザ変位計41によって基準ブロック35の上面の位置を検出する。このとき基準ブロック35の上面までの距離d2とする。
In step S2, the sub-table 16 is moved so that the
次いでステップS3において測定されたd1とd2との差(d2−d1)をパラメータΔdとして登録する。Δdは基準ブロック35とテーブル31とのz軸方向の差である。
Next, the difference (d2−d1) between d1 and d2 measured in step S3 is registered as a parameter Δd. Δd is a difference in the z-axis direction between the
更にステップS4において図6Cに示すようにサブテーブル16を移動させ、スクライブヘッド22の真下に基準ブロック35が位置するようにする。そして基準位置からスクライブヘッド22を下降させ、その刃先が基準ブロック35の上面に当接するまで下降させる。このときサーボエンコーダ45で検出される距離をd3とし、メモリパラメータとして登録する。このようにしてステップS1〜S4によってスクライブヘッドの刃先の先端とテーブルの上面との距離を認識することができる。即ちテーブル36はスクライブヘッドから見てd3−Δdの位置が上面となる。この距離を零点として登録する(ステップS5)。
Further, in step S4, the sub-table 16 is moved as shown in FIG. 6C so that the
その後図6Dに示すように、ステップS6においてテーブル31上にスクライブの加工対象となる脆性材料基板36を配置する。脆性材料基板36はその内側に多数の機能領域が格子状に形成された低温焼成セラミック基板とする。そしてこの基板の上面までの距離をレーザ変位計41を用いて測定する。このとき基板36の複数点の距離を測定することが好ましく、例えば図8に示すように基板36の中心61とその周囲の点62〜65、計5点についてレーザ変位計によって距離を検出する。そして計測した5点の距離の平均値をd4とすると、この値をレーザ変位計41から基板36の上面までの距離として認識する。但しテーブル31の上面を零点としているため、図6A,図6Bより明らかなように基板36の高さD4は(d1−d4)である。ステップS7ではスクライブヘッド22から基板36の上面までの距離を図6Dに示すように(d3−Δd)−D4として算出する。この距離計測はレーザ変位計41による非接触の検出であるため、脆性材料基板を何ら損傷することなく、極めて短時間に計測を終えることができる。又基板が低温焼成セラミック基板等の厚さのばらつきが大きい基板であっても、複数箇所について基板の厚さを測定することができるため、より正確に基板の高さのデータを得ることができる。
Thereafter, as shown in FIG. 6D, a
こうして基板の厚さを検出した後、レシピテーブルに基板の高さに基づいてスクライブヘッドを下降させる距離をレシピテーブルに書き込み、レシピテーブルを完成させる(ステップS8)。 After detecting the thickness of the substrate in this way, a distance for lowering the scribe head based on the height of the substrate is written in the recipe table to complete the recipe table (step S8).
こうして完成したレシピテーブルに基づいて脆性材料基板をスクライブする。又別の脆性材料基板を別のスクライブ装置で同様にスクライブする場合であっても、このレシピテーブルを読み出して基板に加える荷重を算出しスクライブを行う。このようにレシピテーブルについては基板の種類が決まればスクライブ装置の種類を変更してもそのまま適用することができる。 The brittle material substrate is scribed based on the recipe table thus completed. Even when another brittle material substrate is similarly scribed by another scribe device, the recipe table is read to calculate the load to be applied to the substrate and scribe. As described above, if the type of substrate is determined, the recipe table can be applied as it is even if the type of the scribing device is changed.
尚前述した実施の形態では非接触変位計の例としてレーザ変位計を用いているが、非接触で基板やテーブルの上面までの距離を正確に検出できるものであれば他の変位計であってもよい。 In the above-described embodiment, a laser displacement meter is used as an example of a non-contact displacement meter. Also good.
本発明はスクライブ装置のテーブルの基準位置を検出するためのものであり、スクライブ装置に好適に利用することができる。 The present invention is for detecting a reference position of a table of a scribe device, and can be suitably used for a scribe device.
10 スクライブ装置
16 サブテーブル
22 スクライブヘッド
23 サーボモータ
24 ホルダ
25 スクライビングホイール
27 CCDカメラ
31〜34 テーブル
36〜39 脆性材料基板
41 レーザ変位計
42 センサドグ
43 遮蔽板
44 サーボモータ
45 サーボエンコーダ
50 コントローラ
52 制御部
53 入力部
59 データ保持部
DESCRIPTION OF
Claims (2)
前記サブテーブル上の前記テーブルの上面までの距離d1を前記非接触変位計によって検出し、
前記サブテーブル上に配置された基準ブロックの上面までの距離d2を前記非接触変位計によって検出し、
前記テーブルと基準ブロックとのz軸方向の差(Δd=d2−d1)を登録し、
基準位置からスクライブヘッドを下降させ前記基準ブロックの上面に当接するまでの距離d3を登録し、
スクライブヘッドから見た前記テーブルの上面d3−Δdを零点として設定し、
前記テーブル上に加工対象となる脆性材料基板を配置し、前記非接触変位計によって脆性材料基板の少なくとも一点までの距離d4を検出し、前記脆性材料基板の高さD4を(D4=d1−d4)とし、(d3−Δd)−D4をスクライビングヘッドから前記脆性材料基板までの距離とする基板上面検出方法。 A sub-table that holds the table and reference block on the upper surface, a scribing wheel at the lower end, a scribing head that can move up and down relative to the sub-table, and a lower reflection that is held at a position above the upper surface of the sub-table. A substrate upper surface detection method in a scribe device having a non-contact displacement meter for measuring a distance to a surface,
A distance d1 to the upper surface of the table on the sub-table is detected by the non-contact displacement meter;
A distance d2 to the upper surface of a reference block arranged on the sub-table is detected by the non-contact displacement meter;
Register the difference in the z-axis direction between the table and the reference block (Δd = d2−d1),
Register the distance d3 from when the scribe head is lowered from the reference position to contact the upper surface of the reference block,
The upper surface d3-Δd of the table viewed from the scribe head is set as a zero point,
A brittle material substrate to be processed is placed on the table, the distance d4 to at least one point of the brittle material substrate is detected by the non-contact displacement meter, and the height D4 of the brittle material substrate is (D4 = d1-d4). ), And (d3−Δd) −D4 is a distance from the scribing head to the brittle material substrate.
下端にスクライブヘッドを有し、前記サブテーブルに対して上下動自在のスクライブヘッドと、
前記サブテーブルの上面側上方の位置に保持され、下方の反射面までの距離を測定する非接触変位計と、
前記スクライブヘッドと前記テーブル上の脆性材料基板をその基板のスクライブされる面に平行な方向で相対的に移動させる移動手段と、
前記サブテーブルの上面を零点の位置として前記テーブル上に加工対象となる脆性材料基板を配置し、前記移動手段及びスクライブヘッドを移動させてスクライブする制御部と、を具備するスクライブ装置であって、
前記制御部は、
前記サブテーブル上のテーブルの上面までの距離d1及び基準ブロックの上面までの距離d2を夫々前記非接触変位計によって検出し、基準位置からスクライブヘッドを下降させ前記基準ブロックの上面に当接するまでの距離d3を検出し、d2−d1をΔdとするとスクライブヘッドから見た前記テーブルの上面d3−Δdを零点として設定し、前記非接触変位計によって脆性材料基板の少なくとも一点までの距離d4を検出し、前記脆性材料基板の高さD4を(D4=d1−d4)とし、(d3−Δd)−D4をスクライビングヘッドから前記脆性材料基板までの距離とするスクライブ装置。 A sub-table for holding the table and the reference block on the upper surface;
A scribe head having a scribe head at the lower end, and movable up and down with respect to the sub-table;
A non-contact displacement meter which is held at a position above the upper surface side of the sub-table and measures the distance to the lower reflecting surface;
Moving means for relatively moving the scribe head and the brittle material substrate on the table in a direction parallel to the scribe surface of the substrate;
A scribing device comprising: a control unit that places a brittle material substrate to be processed on the table with the upper surface of the sub-table as a zero point position, and moves and scribing the moving means and the scribe head;
The controller is
The distance d1 to the upper surface of the table on the sub-table and the distance d2 to the upper surface of the reference block are detected by the non-contact displacement meter, and the scribe head is lowered from the reference position until it contacts the upper surface of the reference block. When the distance d3 is detected and d2-d1 is Δd, the upper surface d3-Δd of the table viewed from the scribe head is set as a zero point, and the distance d4 to at least one point of the brittle material substrate is detected by the non-contact displacement meter. the brittle material substrate height D4 and (D4 = d1-d4), (d3-Δd) distance and be absent Clive apparatus -D4 from scribing head to the brittle material substrate.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011226517A JP5912395B2 (en) | 2011-10-14 | 2011-10-14 | Substrate upper surface detection method and scribing apparatus |
KR1020120070614A KR101373001B1 (en) | 2011-10-14 | 2012-06-29 | Method for detecting top surface of substrate and scribing apparatus |
TW101128503A TWI495622B (en) | 2011-10-14 | 2012-08-07 | On - board surface detection method and scribing device |
CN201210310920.4A CN103047935B (en) | 2011-10-14 | 2012-08-28 | Upper surface of base plate detection method and chalker |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011226517A JP5912395B2 (en) | 2011-10-14 | 2011-10-14 | Substrate upper surface detection method and scribing apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013086288A JP2013086288A (en) | 2013-05-13 |
JP5912395B2 true JP5912395B2 (en) | 2016-04-27 |
Family
ID=48060669
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011226517A Active JP5912395B2 (en) | 2011-10-14 | 2011-10-14 | Substrate upper surface detection method and scribing apparatus |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5912395B2 (en) |
KR (1) | KR101373001B1 (en) |
CN (1) | CN103047935B (en) |
TW (1) | TWI495622B (en) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014004776A (en) * | 2012-06-26 | 2014-01-16 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd | Processing device of substrate |
CN104723313B (en) * | 2015-03-10 | 2016-06-29 | 鞍钢重型机械有限责任公司 | The line measuring method of a kind of large scale special-shaped workpiece and device |
CN106671302A (en) * | 2015-11-06 | 2017-05-17 | 北京中电科电子装备有限公司 | Dicing saw parameter measurement method and device |
CN106152989B (en) * | 2016-08-15 | 2019-01-29 | 天津大学 | A kind of measurement method of plate automatic Synthesis detection device |
CN107139212A (en) * | 2017-06-01 | 2017-09-08 | 东舟技术(深圳)有限公司 | Anthropomorphic robot pose calibrating device |
JP6555370B2 (en) * | 2018-02-28 | 2019-08-07 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Break device |
CN109186418B (en) * | 2018-08-20 | 2021-11-05 | 彩虹集团(邵阳)特种玻璃有限公司 | Device and method for measuring cutting quality of overflow formed glass |
KR102073767B1 (en) * | 2018-10-30 | 2020-02-05 | 한국미쯔보시다이아몬드공업(주) | Method for inspecting thickness of rib mark |
CN109579717A (en) * | 2018-12-14 | 2019-04-05 | 惠州锂威新能源科技有限公司 | A kind of CCD calibration block, calibrating installation and method for electric core winding technique |
CN111333314A (en) * | 2018-12-18 | 2020-06-26 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | Scribing system and method for protecting scribing device |
CN112212782B (en) * | 2019-06-25 | 2023-01-17 | 合肥欣奕华智能机器股份有限公司 | Glass substrate detection method, device and system |
CN112264982B (en) * | 2020-09-24 | 2023-04-07 | 彩虹集团有限公司 | Automatic length measuring and scribing device and method for plate blank |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US531306A (en) * | 1894-12-25 | Island | ||
JP2856609B2 (en) * | 1992-09-22 | 1999-02-10 | 鹿児島日本電気株式会社 | Scribe device |
JP2001345290A (en) * | 2000-05-31 | 2001-12-14 | Sharp Corp | Apparatus for scribing wafer and method for manufacturing semiconductor wafer |
CN2925755Y (en) * | 2006-07-20 | 2007-07-25 | 深圳市比克电池有限公司 | Battery blind-flange positioning clamp |
JP4795886B2 (en) * | 2006-07-27 | 2011-10-19 | 株式会社キーエンス | Laser processing device, laser processing condition setting device, laser processing condition setting method, laser processing condition setting program |
US8996172B2 (en) * | 2006-09-01 | 2015-03-31 | Neato Robotics, Inc. | Distance sensor system and method |
JP2008103648A (en) * | 2006-10-23 | 2008-05-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Apparatus for manufacturing semiconductor device, and method for manufacturing the semiconductor device |
JPWO2008126502A1 (en) * | 2007-03-30 | 2010-07-22 | Thk株式会社 | Scribing apparatus and scribing method |
KR20090025959A (en) * | 2007-09-07 | 2009-03-11 | 삼성전자주식회사 | Distance measuring method and apparatus |
JP5179206B2 (en) * | 2008-01-25 | 2013-04-10 | 株式会社ディスコ | Cutting method of plate |
JP5139852B2 (en) * | 2008-03-17 | 2013-02-06 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Scribing apparatus and scribing method |
JP2009274434A (en) * | 2008-04-16 | 2009-11-26 | Thk Co Ltd | Scribing apparatus and multi-shaft scribing apparatus |
JP2009302440A (en) * | 2008-06-17 | 2009-12-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | Cutting apparatus |
JP2010064203A (en) * | 2008-09-11 | 2010-03-25 | Sony Corp | Processing device and method of correcting distance between processing tool and workpiece |
JP5327070B2 (en) * | 2010-01-19 | 2013-10-30 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Scribing apparatus and scribing method |
-
2011
- 2011-10-14 JP JP2011226517A patent/JP5912395B2/en active Active
-
2012
- 2012-06-29 KR KR1020120070614A patent/KR101373001B1/en active IP Right Grant
- 2012-08-07 TW TW101128503A patent/TWI495622B/en active
- 2012-08-28 CN CN201210310920.4A patent/CN103047935B/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20130040694A (en) | 2013-04-24 |
CN103047935A (en) | 2013-04-17 |
TWI495622B (en) | 2015-08-11 |
TW201315696A (en) | 2013-04-16 |
CN103047935B (en) | 2016-02-24 |
JP2013086288A (en) | 2013-05-13 |
KR101373001B1 (en) | 2014-03-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5912395B2 (en) | Substrate upper surface detection method and scribing apparatus | |
KR102226222B1 (en) | Laser machining apparatus | |
CN107768242B (en) | Cutting method for workpiece | |
JP6289980B2 (en) | Processing method | |
CN107665847B (en) | Bonding alignment equipment and method | |
KR20190016445A (en) | Laser machining method | |
JP2010510519A (en) | Gauge for measuring strain of glass sheet | |
KR20210006840A (en) | Laser machining apparatus | |
CN101660901B (en) | Non-contact scroll saw guide wheel slot type detector | |
JP6128977B2 (en) | Plate material peripheral edge processing apparatus and processing accuracy measurement and correction method | |
JP7145643B2 (en) | Inspection jig and inspection method | |
JP2017116401A (en) | Substrate position adjustment device and substrate position adjustment method | |
JP6302658B2 (en) | Processing method | |
JP6224462B2 (en) | Method for detecting operating characteristics of machining feed mechanism in laser machining apparatus and laser machining apparatus | |
TWI521730B (en) | Substrate processing equipment | |
JP4986880B2 (en) | Tool length compensation method for micromachines and micromilling machines | |
JP2013063490A (en) | Cutting apparatus and cutting method | |
JP2010042473A (en) | Chamfering device for hard brittle sheet | |
JP5072743B2 (en) | Micromachine and micromilling machine | |
JP6046535B2 (en) | Semiconductor wafer mapping method and semiconductor wafer laser processing method | |
JP2010201546A (en) | Method and apparatus for correcting defect | |
JP6057853B2 (en) | Cutting equipment | |
JP2001159515A (en) | Flatness measuring method and flatness measuring device | |
KR102543760B1 (en) | Laser Machining System And Its Method Using Cooperative Control Method Or Fixed Map-Based Control Method | |
CN114593697B (en) | Device for detecting gap and flatness of product |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140502 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150721 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160107 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160229 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20160309 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160329 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160401 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5912395 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |