JP5898582B2 - 有機ｅｌ表示装置 - Google Patents
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Description
本発明の実施形態は、有機ＥＬ表示装置に関する。
近年、平面表示装置が盛んに開発されている。例えば、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置において、ガラス基板上に表面プラズモン共鳴を利用したカラーフィルタを配置し、このカラーフィル上に有機発光素子を配置した構成が提案されている（特許文献１）。
表面プラズモン共鳴については、例えば、非特許文献１によれば、厚さ３００ｎｍの銀の薄膜に周期３００ｎｍ、４５０ｎｍ、５５０ｎｍでそれぞれ直径１５５ｎｍ、１８０ｎｍ、２２５ｎｍの３種類のパターンの開口を設けて光を照射すると、波長４３６ｎｍ、５３８ｎｍ、６２７ｎｍの光を選択的に透過すること、などの記述がある。
また、非特許文献２によれば、金属微粒子に光を照射するとプラズモン吸収と呼ばれる共鳴吸収現象が生じること、この吸収現象は金属の種類と形状によって吸収波長が異なり、例えば、球状の金微粒子が水に分散した金コロイドは５３０ｎｍ付近に吸収域を持つこと、また、微粒子の形状を短軸１０ｎｍ程度のロッド状にすると、ロッドの短軸に起因する５３０ｎｍ付近の吸収の他に、ロッドの長軸に起因する長波長側の吸収を有すること、などの記述がある。
Ｗ．Ｌ．Ｂａｒｎｅｓ ｅｔ．ａｌ． Ｎａｔｕｒｅ ４２４，８２４−８３０（２００３）
Ｓ−Ｓ．Ｃｈａｎｇ ｅｔａｌ，Ｌａｎｇｍｕｉｒ，１９９９，１５，Ｐ７０１−７０９
本実施形態の目的は、表示品位の良好な有機ＥＬ表示装置を提供することにある。
本実施形態によれば、
透明な樹脂基板と、前記樹脂基板の内面側に位置するスイッチング素子と、前記スイッチング素子と電気的に接続された透明電極、前記透明電極上に位置する有機発光層、及び、前記有機発光層上に位置する反射電極を備えた有機ＥＬ素子と、前記樹脂基板の外面側に位置するとともに前記有機ＥＬ素子と対向し、表面プラズモン共鳴を利用したカラーフィルタと、を備えた有機ＥＬ表示装置が提供される。
透明な樹脂基板と、前記樹脂基板の内面側に位置するスイッチング素子と、前記スイッチング素子と電気的に接続された透明電極、前記透明電極上に位置する有機発光層、及び、前記有機発光層上に位置する反射電極を備えた有機ＥＬ素子と、前記樹脂基板の外面側に位置するとともに前記有機ＥＬ素子と対向し、表面プラズモン共鳴を利用したカラーフィルタと、を備えた有機ＥＬ表示装置が提供される。
以下、本実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
図１は、本実施形態の有機ＥＬ表示装置の断面構造を概略的に示す図である。
図示した有機ＥＬ表示装置１は、アクティブマトリクス駆動方式を採用したものである。すなわち、有機ＥＬ表示装置１は、透明な樹脂基板１０と、この樹脂基板１０の内面１０Ａ側に位置するスイッチング素子ＳＷ１乃至ＳＷ３及び有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３と、樹脂基板１０の外面１０Ｂ側に位置するカラーフィルタ３０と、を備えている。
樹脂基板１０は、光透過性を有する絶縁基板であり、例えば、ポリイミド（ＰＩ）によって形成されている。この樹脂基板１０は、例えば、５乃至２０μｍの厚さを有している。この樹脂基板１０の内面１０Ａは、第１絶縁膜１１によって覆われている。この第１絶縁膜１１は、樹脂基板１０からのイオン性の不純物の浸入や、樹脂基板１０を介した水分などの浸入を抑制する内面バリア膜として機能する。このような第１絶縁膜１１は、シリコン窒化物（ＳｉＮ）やシリコン酸化物（ＳｉＯ）やシリコン酸窒化物（ＳｉＯＮ）などの無機系材料によって形成され、単層もしくは積層体によって構成されている。なお、第１絶縁膜１１は、バリア性能を満たし尚且つ透明性が確保できる他の材料で形成されていても良い。また、樹脂基板１０の内面１０Ａ側に位置する他の絶縁膜が内面バリア膜として機能する場合には、この第１絶縁膜１１を省略しても良い。
スイッチング素子ＳＷ１乃至ＳＷ３は、第１絶縁膜１１の上に形成されている。これらのスイッチング素子ＳＷ１乃至ＳＷ３は、例えば、それぞれ半導体層ＳＣを備えた薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）である。スイッチング素子ＳＷ１乃至ＳＷ３は、いずれも同一構造であるが、ここでは、スイッチング素子ＳＷ１に着目してその構造をより具体的に説明する。
図示した例では、スイッチング素子ＳＷ１は、トップゲート型であるが、ボトムゲート型であっても良い。半導体層ＳＣは、例えば、アモルファスシリコンやポリシリコンであっても良いが、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）、亜鉛（Ｚｎ）の少なくとも１つを含む酸化物によって形成された酸化物半導体であっても良い。酸化物半導体は、アモルファスシリコンやポリシリコンよりも低温プロセスでの形成が可能である。特に、ＩＧＺＯなどの酸化物半導体は、アモルファスシリコン半導体層を具備する薄膜トランジスタを製造してきた製造装置をそのまま使用することも可能となるため、製造設備の投資コストを押える点でも好ましい。
半導体層ＳＣは、第１絶縁膜１１の上に形成され、第２絶縁膜１２によって覆われている。第２絶縁膜１２は、第１絶縁膜１１の上にも配置されている。第２絶縁膜１２の上には、スイッチング素子ＳＷ１のゲート電極ＷＧが形成されている。ゲート電極ＷＧは、第３絶縁膜１３によって覆われている。第３絶縁膜１３は、第２絶縁膜１２の上にも配置されている。
第３絶縁膜１３の上には、スイッチング素子ＳＷ１のソース電極ＷＳ及びドレイン電極ＷＤが形成されている。ソース電極ＷＳ及びドレイン電極ＷＤは、それぞれ半導体層ＳＣにコンタクトしている。これらのソース電極ＷＳ及びドレイン電極ＷＤは、第４絶縁膜１４によって覆われている。第４絶縁膜１４は、第３絶縁膜１３の上にも配置されている。この第４絶縁膜１４には、ドレイン電極ＷＤまで貫通するコンタクトホールＣＨが形成されている。
有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３は、第４絶縁膜１４の上に形成されている。図示した例では、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１はスイッチング素子ＳＷ１と電気的に接続され、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ２はスイッチング素子ＳＷ２と電気的に接続され、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ３はスイッチング素子ＳＷ３と電気的に接続されている。
これらの有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３の発光色はいずれも白色である。また、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３は、いずれも樹脂基板１０の側に向かって発光した光を放射するボトムエミッションタイプとして構成されている。このような有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３は、いずれも同一構造である。
有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１は、第４絶縁膜１４の上に形成された透明電極ＰＥ１を備えている。この透明電極ＰＥ１は、コンタクトホールＣＨを介してドレイン電極ＷＤとコンタクトし、スイッチング素子ＳＷ１と電気的に接続されている。同様に、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ２はスイッチング素子ＳＷ２と電気的に接続された透明電極ＰＥ２を備え、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ３はスイッチング素子ＳＷ３と電気的に接続された透明電極ＰＥ３を備えている。これらの透明電極ＰＥ１乃至ＰＥ３は、陽極として機能する。また、これらの透明電極ＰＥ１乃至ＰＥ３は、例えば、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）、インジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）などの光透過性を有する導電材料によって形成されている。
有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３は、さらに、有機発光層ＯＲＧ及び反射電極ＣＥを備えている。有機発光層ＯＲＧは、透明電極ＰＥ１乃至ＰＥ３の上にそれぞれ位置している。また、有機発光層ＯＲＧは、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３に亘って途切れることなく連続的に形成されている。反射電極ＣＥは、例えば、陰極として機能し、有機発光層ＯＲＧの上に位置している。また、反射電極ＣＥは、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３に亘って途切れることなく連続的に形成されている。このような反射電極ＣＥは、例えば、銀（Ａｇ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、あるいはこれらの合金などの光反射性を有する材料によって形成されている。
つまり、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１は、透明電極ＰＥ１、有機発光層ＯＲＧ、及び、反射電極ＣＥによって構成されている。同様に、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ２は、透明電極ＰＥ２、有機発光層ＯＲＧ、及び、反射電極ＣＥによって構成され、また、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ３は、透明電極ＰＥ３、有機発光層ＯＲＧ、及び、反射電極ＣＥによって構成されている。
なお、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３において、透明電極ＰＥ１乃至ＰＥ３の各々と有機発光層ＯＲＧとの間には、さらに、ホール注入層やホール輸送層が介在していても良いし、また、有機発光層ＯＲＧと反射電極ＣＥとの間には、さらに、電子注入層や電子輸送層が介在していても良い。
有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３は、それぞれリブ１５によって区画されている。リブ１５は、第４絶縁膜１４の上に形成され、透明電極ＰＥ１乃至ＰＥ３のそれぞれのエッジをカバーしている。なお、このリブ１５については、図示していないが、例えば、第４絶縁膜１４の上において格子状またはストライプ状に形成されている。このようなリブ１５は、有機発光層ＯＲＧによって覆われている。つまり、有機発光層ＯＲＧは、透明電極ＰＥ１乃至ＰＥ３の上のみならず、リブ１５の上にも延在している。
このような有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３は、封止膜２０によって覆われている。封止膜２０は、反射電極ＣＥの上に形成されている。この封止膜２０は、水分、酸素、水素などの汚染物質から有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３を保護するバリア膜として機能する。
本実施形態では、カラーフィルタ３０は、表面プラズモン共鳴を利用した構成である。このカラーフィルタ３０の具体的な構成については後述する。このカラーフィルタ３０は、樹脂基板１０の外面１０Ｂに吸湿性接着剤４０を介して接着されている。このカラーフィルタ３０は、第１カラーフィルタ３１、第２カラーフィルタ３２、及び、第３カラーフィルタ３３を有している。第１カラーフィルタ３１は、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１と対向し、白色のうちの青色波長の光を透過する。第２カラーフィルタ３２は、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ２と対向し、白色のうちの緑色波長の光を透過する。第３カラーフィルタ３３は、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ３と対向し、白色のうちの赤色波長の光を透過する。第１カラーフィルタ３１と第２カラーフィルタ３２との境界、第２カラーフィルタ３２と第３カラーフィルタ３３との境界、及び、第１カラーフィルタ３１と第３カラーフィルタ３３との境界は、リブ１５の直下に位置している。
このようなカラーフィルタ３０の樹脂基板１０とは反対側の面は、保護フィルム５０によって保護されている。この保護フィルム５０は、光透過性を有する絶縁フィルムであり、例えば、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）によって形成されたフィルムである。なお、図示した例では、カラーフィルタ３０と保護フィルム５０との間には、バリア膜６０が介在している。このバリア膜６０は、保護フィルム５０の内面５０Ａを覆っており、保護フィルム５０からのイオン性の不純物の浸入や保護フィルム５０を介した水分などの浸入を抑制する機能を有している。
寸法の一例として、樹脂基板１０の内面１０Ａから保護フィルム５０の外面５０Ｂまでの厚さＴは、１００μｍ以下である。
次に、本実施形態における有機ＥＬ表示装置１の製造方法の一例について簡単に説明する。
まず、無アルカリガラスからなる支持基板上に、透明なポリイミド膜をスリットコーター等の成膜装置を用いて５〜２０μｍの厚さで形成する。このポリイミド膜は、上記の樹脂基板１０に相当する。成膜したポリイミド膜の上には、内面バリア膜として機能する第１絶縁膜１１を５０〜１００ｎｍの厚さで形成する。
そして、第１絶縁膜１１の上に、スイッチング素子ＳＷ１乃至ＳＷ３、第２絶縁膜１２、第３絶縁膜１３、第４絶縁膜１４などを形成する。同時に、各種配線も形成する。配線は、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｔａ）、銅（Ｃｕ）、チタン（Ｔｉ）などの一般的な配線材料を用いて形成される。
そして、第４絶縁膜１４の上に、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３を形成する。すなわち、第４絶縁膜１４の上に、透明電極ＰＥ１乃至ＰＥ３を形成した後に、リブ１５を形成する。そして、有機発光層ＯＲＧ、及び、反射電極ＣＥを順次形成する。
そして、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３の上に封止膜２０を形成する。
その後、支持基板の側からポリイミド膜に向けてレーザー光を照射し、支持基板からポリイミド膜を剥離する。これにより、樹脂基板１０の内面１０Ａの側に有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３を備えたシート状の表示素子が形成される。
一方で、表面プラズモン共鳴を用いたカラーフィルタ３０を形成する。このカラーフィルタ３０は、先に形成した表示素子の樹脂基板１０の外面１０Ｂの側に直接形成しても良いが、本実施形態では、表示素子とは別途用意した保護フィルム５０の上に形成する場合について説明する。
まず、保護フィルム５０を用意する。ここでは、保護フィルム５０として、ＰＥＮフィルムを用意した。この保護フィルム５０には、その内面５０Ａにバリア膜６０を予め成膜しておいた。
そして、保護フィルム５０の内面側に位置するバリア膜６０の上に、アルミニウム（Ａｌ）薄膜を真空蒸着法によって形成する。そして、アルミニウム薄膜のうち、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３とそれぞれ対向する位置に、所望の形状且つ所望のサイズの貫通孔（ナノホール）が格子状に形成されるようにパターンニングを行う。これにより、保護フィルム５０の上に、第１カラーフィルタ３１、第２カラーフィルタ３２、及び、第３カラーフィルタ３３を含む表面プラズモン共鳴型カラーフィルタ３０を備えたカラーフィルタシートが形成される。
そして、シート状の表示素子と、カラーフィルタシートとを吸湿性接着剤４０によって貼り合わせる。このとき、カラーフィルタシートは、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１と第１カラーフィルタ３１とが対向し、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ２と第２カラーフィルタ３２とが対向し、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ３と第３カラーフィルタ３３とが対向するように位置合わせされた後に、樹脂基板１０の外面１０Ｂに接着される。
これにより、本実施形態の有機ＥＬ表示装置１が製造される。
図２は、本実施形態で適用可能なカラーフィルタ３０の構成例を概略的に示す平面図である。
ここに示した例のカラーフィルタ３０は、周期的に配列された貫通孔を有する金属薄膜Ｍによって構成されている。すなわち、金属薄膜（上記した例ではアルミニウムの薄膜）Ｍには、第１カラーフィルタ３１に対応する領域、第２カラーフィルタ３２に対応する領域、及び、第３カラーフィルタ３３に対応する領域が間隔をおいて形成されている。
第１カラーフィルタ３１に対応する領域には、第１径を有する円形の貫通孔Ｈ１が周期的に配列されている。第２カラーフィルタ３２に対応する領域には、第１径よりも大きな第２径を有する円形の貫通孔Ｈ２が周期的に配列されている。第３カラーフィルタ３３に対応する領域には、第２径よりも大きな第３径を有する円形の貫通孔Ｈ３が周期的に配列されている。
このようなカラーフィルタ３０は、ナノインプリント技術などを用いて形成することが可能である。一例として、金属薄膜Ｍの膜厚は３００ｎｍである。また、第１カラーフィルタ３１において、貫通孔Ｈ１の第１径は１５５ｎｍであり、隣接する貫通孔Ｈ１との間隔は３００ｎｍとした。また、第２カラーフィルタ３２において、貫通孔Ｈ２の第２径は１８０ｎｍであり、隣接する貫通孔Ｈ２との間隔は４５０ｎｍとした。また、第３カラーフィルタ３３において、貫通孔Ｈ３の第３径は２２５ｎｍであり、隣接する貫通孔Ｈ３との間隔は５５０ｎｍとした。
このようなカラーフィルタ３０を適用した有機ＥＬ表示装置１によれば、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３のそれぞれが発光した際、それぞれの放射光（白色光）は、樹脂基板１０及びカラーフィルタ３０を介して外部に出射される。このとき、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１から放射された白色光のうち、青色波長の光が第１カラーフィルタＣＦ１を透過する。また、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ２から放射された白色光のうち、緑色波長の光が第２カラーフィルタＣＦ２を透過する。また、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ３から放射された白色光のうち、赤色波長の光が第３カラーフィルタＣＦ３を透過する。これにより、カラー表示が実現される。
図３は、本実施形態で適用可能なカラーフィルタ３０の他の構成例を概略的に示す平面図である。
ここに示した例のカラーフィルタ３０は、周期的に配列された金属微粒子によって構成されている。すなわち、第１カラーフィルタ３１に対応する領域には、第１径を有する円形の金属微粒子Ｐ１が周期的に配列されている。第２カラーフィルタ３２に対応する領域には、第１径よりも大きな第２径を有する円形の金属微粒子Ｐ２が周期的に配列されている。第３カラーフィルタ３３に対応する領域には、第２径よりも大きな第３径を有する円形の金属微粒子Ｐ３が周期的に配列されている。
このような構成のカラーフィルタ３０を適用した場合であっても、上記の例と同様に、カラー表示が実現される。
なお、カラーフィルタ３０は、図示した金属微粒子の代わりに、周期的に配列された金属ナノロッドを適用しても良い。
このようなカラーフィルタ３０においては、上記の金属薄膜、金属微粒子、または、金属ナノロッドは、アルミニウム（Ａｌ）に限らず、可視光で共鳴波長を持つ材料、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、マグネシウム（Ｍｇ）、ロジウム（Ｒｈ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、クロム（Ｃｒ）を含む材料によって形成されていても良い。
本実施形態によれば、樹脂基板１０は、耐熱性に優れたポリイミドによって形成されているため、樹脂基板１０上に形成するＴＦＴアレイ（各種絶縁膜やスイッチング素子、配線などを含む）や有機ＥＬ素子の寸法精度を保つことが可能となる。特に、５〜２０μｍの厚さの樹脂基板１０を用いた構成では、ＴＦＴアレイを製造するに際して、アクティブマトリクス型の液晶表示パネルの生産ラインで使用されている装置類を殆ど改造することなく利用することができるため、生産コストの低下が可能となるとともに、液晶表示パネルの量産技術の踏襲など生産性の確保が容易となる。
また、薄い膜厚の樹脂基板１０の外面１０Ｂの側に表面プラズモン共鳴型のカラーフィルタ３０を配置するため、樹脂基板１０の内面１０Ａの側に位置する有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３とカラーフィルタ３０との間の距離を近づけることが可能となる。このため、近隣の有機ＥＬ素子からの放射光の回り込みに起因した画質低下を回避することが可能となる。また、有機発光層ＯＲＧで発光した白色光を効率よくカラーフィルタ３０に伝播することが可能となり、良好な表示品位を得ることが可能となる。
また、本実施形態によれば、樹脂基板１０の外面１０Ｂの側に位置するカラーフィルタ３０は、基板の内面側にカラーフィルタ３０を形成する構造（比較例）に比べて、製造プロセスや歩留まりの点で優れている。
特に、比較例では、カラーフィルタ３０の歩留まりがそのままＴＦＴアレイの歩留まりに影響するのに対し、樹脂基板１０の外面１０Ｂにカラーフィルタ３０を配置する構造では、樹脂基板１０の上にＴＦＴアレイ及び有機ＥＬ素子が完成した後に、有機ＥＬ素子の各々の発光部のパターンに合わせて後からカラーフィルタ３０を形成することが可能となる。また、カラーフィルタ３０を形成するのに必要な感光性レジスト材料や有機溶媒による現像、パターニングといった工程は、有機ＥＬ素子を製造する工程とは全く別の工程であるため、有機ＥＬ素子の有機発光層に直接ダメージを加えることがない。このため、プロセスの簡略化といった点でも寄与する。
また、比較例では、カラーフィルタ３０による段差を平坦化するために有機ＥＬ素子ＯＬＥＤとの間に介在する一部の絶縁膜（例えば、第４絶縁膜）の膜厚を増加する必要がある。これに対して、樹脂基板１０の外面１０Ｂにカラーフィルタ３０を配置する構造では、カラーフィルタ３０に起因した段差が発生せず、一部の絶縁膜の膜厚を増加する必要もない。また、一部の絶縁膜、例えば、第４絶縁膜の膜厚を増加することが無いため、透明電極ＰＥとスイッチング素子ＳＷとを接続するためのコンタクトホールＣＨが深くなることもなく、歩留まりの向上が可能となる。
また、比較例では、第１乃至第３カラーフィルタの色味を変更するなどのカラーフィルタ３０の仕様変更に際して、カラーフィルタ及びＴＦＴアレイの製造プロセスを含む大幅なプロセスの見直しが必要となり、歩留まりの低下を招く。これに対して、樹脂基板１０の外面１０Ｂにカラーフィルタ３０を配置する構造では、カラーフィルタ３０の仕様変更に際して、樹脂基板１０にＴＦＴアレイ及び有機ＥＬ素子を製造するプロセスに変更の必要はなく、別途に用意するカラーフィルタを所望の仕様に変更するのみで対応できるため、歩留まりの低下を抑制することが可能となる。
また、樹脂基板１０を適用した構成であるため、ガラス基板を適用した表示装置と比較して、薄型化及び軽量化が可能であるとともに、柔軟性が高く、形状の自由度が高い。また、樹脂基板１０は、比較的高い吸湿性を有しているが、樹脂基板１０の内面１０Ａは内面バリア膜である第１絶縁膜１１によって覆われ、また、樹脂基板１０の外面１０Ｂの側は吸湿性接着剤４０、カラーフィルタ３０、バリア膜６０、及び、保護フィルム５０がこの順に積層されている。このため、樹脂基板１０を介した水分の侵入を抑制することが可能となる。これにより、有機発光層ＯＲＧの水分による劣化を抑制することができ、ダークスポットの発生による表示品位の低下を抑制することが可能となる。
以上説明したように、本実施形態によれば、表示品位の良好な有機ＥＬ表示装置を提供することができる。
なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
例えば、上記した実施形態では、樹脂基板１０の内面１０Ａの側に有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３を形成し、樹脂基板１０の外面１０Ｂの側に表面プラズモン共鳴を利用したカラーフィルタ３０を接着した構成について説明したが、樹脂基板１０の内面１０Ａの側に有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３を形成し、樹脂基板１０の外面１０Ｂの側に着色樹脂などからなる光吸収型のカラーフィルタを接着しても良い。
１…有機ＥＬ表示装置
ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３…有機ＥＬ素子
ＳＷ１乃至ＳＷ３…スイッチング素子
ＰＥ１乃至ＰＥ３…透明電極 ＯＲＧ…有機発光層 ＣＥ…反射電極
３０…カラーフィルタ
３１…第１カラーフィルタ ３２…第２カラーフィルタ ３３…第３カラーフィルタ
４０…吸湿性接着剤
５０…保護フィルム
６０…バリア膜
ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３…有機ＥＬ素子
ＳＷ１乃至ＳＷ３…スイッチング素子
ＰＥ１乃至ＰＥ３…透明電極 ＯＲＧ…有機発光層 ＣＥ…反射電極
３０…カラーフィルタ
３１…第１カラーフィルタ ３２…第２カラーフィルタ ３３…第３カラーフィルタ
４０…吸湿性接着剤
５０…保護フィルム
６０…バリア膜
Claims (7)
- 透明な樹脂基板と、
前記樹脂基板の内面側に位置するスイッチング素子と、
前記スイッチング素子と電気的に接続された透明電極、前記透明電極上に位置する有機発光層、及び、前記有機発光層上に位置する反射電極を備えた有機ＥＬ素子と、
前記樹脂基板の外面側に位置するとともに前記有機ＥＬ素子と対向し、表面プラズモン共鳴を利用したカラーフィルタと、
を備えた有機ＥＬ表示装置。 - 前記樹脂基板は、５μｍ乃至２０μｍの厚さを有する、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
- 前記樹脂基板の内面は、シリコン窒化物、シリコン酸化物、及び、シリコン酸窒化物の少なくとも１つからなる内面バリア膜によって覆われた、請求項１又は２に記載の有機ＥＬ表示装置。
- 前記カラーフィルタは、前記樹脂基板の外面に吸湿性接着剤を介して接着された、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
- さらに、前記カラーフィルタを保護する保護フィルムと、前記保護フィルムと前記カラーフィルタとの間に介在するバリア膜と、を備えた、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
- 前記カラーフィルタは、周期的に配列された貫通孔を有する金属膜、または、周期的に配列された金属微粒子又は金属ナノロッドによって構成された、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
- 前記金属膜、前記金属微粒子、または、前記金属ナノロッドは、可視光で共鳴波長を持つＡｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｒを含む材料によって形成された、請求項６に記載の有機ＥＬ表示装置。
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