JP5892932B2 - 高性能ガラスセラミック及び高性能ガラスセラミックを製造する方法 - Google Patents
高性能ガラスセラミック及び高性能ガラスセラミックを製造する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5892932B2 JP5892932B2 JP2012520928A JP2012520928A JP5892932B2 JP 5892932 B2 JP5892932 B2 JP 5892932B2 JP 2012520928 A JP2012520928 A JP 2012520928A JP 2012520928 A JP2012520928 A JP 2012520928A JP 5892932 B2 JP5892932 B2 JP 5892932B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- article
- glass ceramic
- microstructure
- glass
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 title claims description 162
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 23
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 94
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 58
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 50
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 50
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 50
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 43
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 33
- 229910021495 keatite Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 28
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 19
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 16
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000011029 spinel Substances 0.000 claims description 14
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 11
- 238000002468 ceramisation Methods 0.000 claims description 11
- 229910001425 magnesium ion Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 10
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 10
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 10
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 9
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000010411 cooking Methods 0.000 claims description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 5
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 claims description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims description 2
- 230000004297 night vision Effects 0.000 claims description 2
- 238000001004 secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 claims description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 claims 1
- 230000009545 invasion Effects 0.000 claims 1
- 238000007770 physical coating process Methods 0.000 claims 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 230000004044 response Effects 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- 238000002233 thin-film X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 2
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 2
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012369 In process control Methods 0.000 description 1
- -1 Na cation Chemical class 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N [Li].[Al] Chemical compound [Li].[Al] JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000010987 cubic zirconia Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010965 in-process control Methods 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000844 transformation Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0036—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and a divalent metal oxide as main constituents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0018—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents
- C03C10/0027—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3, Li2O as main constituents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0009—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing silica as main constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Cookers (AREA)
Description
最大温度勾配:400K〜800K
耐温度差性:>700℃
熱膨張係数:図4を参照
弾性率(E)ASTM C−1259に準拠:84×103MPa〜95×103MPa
ヌープ硬度(HK0.1/20)ISO 9385に準拠:570〜680
曲げ強度(σbB)DIN EN 1288、パート5(R45)に準拠:100MPa〜160MPa
一般的に、例えば、セラミック産業又は太陽光産業における、窯道具及び/又はサポートパネルとしての;
例えば酸化窒素を結合させるための機能面が付加的に設けられ得るファサードプレートとしての;
高温用途及び極低温用途のための、例えば化学産業における使用のためのセラミック物品としての;
如何なる粒子/塵埃も放出しないため、高純度用途に使用することができる、セラミック材料を超える利点を有する、炉の裏張りとしての;
それらの高純度、耐薬品性、及び物質の放出がないか又はほんのわずかしか放出しないという確証に起因して、医薬産業及び医療技術における製造プロセスに使用され得るキャリアプレートとしての;
耐薬品性の実験装置としての;
化学プラントのための、例えばコーティング産業におけるCVD装置及びPVD装置における、化学的及び熱的に高い耐性が必要とされる、平らで成形された裏張りとしての;
ウエハ基板としての;
高温環境を遮断するための遮熱材としての;
家電製品における、加熱素子のためのカバー、特に調理面若しくはフライ面(frying surface)としての;
焼却炉のための窓としての;
ラジエータのためのカバーとしての;
反射器、投光器、ビデオプロジェクタ、データプロジェクタ、コピー機のためのカバーとしての;
ナイトビジョンデバイス等の、熱機械応力を伴う用途のためのカバーとしての;
UV保護を伴う半透明物品としての;
ファサードカバーとしての
ものである。
60wt.%〜73.0wt.%のSiO2、
15wt.%〜25.0wt.%のAl2O3、
2.2wt.%〜5.0wt.%のLi2O、
0wt.%〜5.0wt.%のCaO+SrO+BaO、
0wt.%〜5.0wt.%のTiO2、
0wt.%〜5.0wt.%のZrO2、
0wt.%〜4.0wt.%のZnO、
0wt.%〜3.0wt.%のSb2O3、
0wt.%〜3.0wt.%のMgO、
0wt.%〜3.0wt.%のSnO2、
0wt.%〜9.0wt.%のP2O5、
0wt.%〜1.5wt.%のAs2O3、
0wt.%〜1.2wt.%のNa2O+K2O、なお、各々の濃度は以下の指定範囲内である:
0wt.%〜1.0wt.%のNa2O、
0wt.%〜0.5wt.%のK2O、及び
0wt.%〜1.0wt.%の着色酸化物。
60wt.%〜73.0wt.%のSiO2、
15wt.%〜25.0wt.%のAl2O3、
2.2wt.%〜5.0wt.%のLi2O、
0wt.%〜5.0wt.%のCaO+SrO+BaO、
0wt.%〜5.0wt.%のTiO2、
0wt.%〜5.0wt.%のZrO2、
0wt.%〜4.0wt.%のZnO、
0wt.%〜3.0wt.%のSb2O3、
0wt.%〜3.0wt.%のMgO、
0wt.%〜3.0wt.%のSnO2、
0wt.%〜9.0wt.%のP2O5、
0wt.%〜1.5wt.%のAs2O3、
0wt.%〜1.2wt.%のNa2O+K2O、なお、各々の濃度は以下の指定範囲内である:
0wt.%〜1.0wt.%のNa2O、及び
0wt.%〜0.5wt.%のK2O。
任意で1.0wt.%の着色酸化物を含み得る。
耐衝撃性hB:
x±s 56±13cm
5%フラクタイル 33cm
剛軟度sbB:
x±s 118±18MPa
TDR(耐温度差性)
x±s >787℃
熱膨張: 図4を参照
透過率:
400nm 0.0%
600nm 0.0%
700nm 0.2%
1600nm 72.0%
耐薬品性:
水(DIN/ISO 719) HGB 1
酸(DIN 12 116) 1
塩基(ISO 695) A1
Claims (17)
- 少なくとも1つの前駆物品を、ガラスセラミックを含む物品へと少なくとも部分的に変換する、ガラスセラミックを含む物品を製造する方法であって、
ガラスの第1の前駆物品を、前記ガラスセラミックを含む物品へとセラミック化するか、又は
前駆物品の少なくとも第1の結晶相を、前記ガラスセラミックを含む物品の第2の結晶相へとセラミック化し、
ここで、前記ガラスセラミックを含む物品が以下の範囲から選択される組成を有し:
60wt.%〜73.0wt.%のSiO2、
15wt.%〜25.0wt.%のAl2O3、
2.2wt.%〜5.0wt.%のLi2O、
0wt.%〜5.0wt.%のCaO+SrO+BaO、
0wt.%〜5.0wt.%のTiO2、
0wt.%〜5.0wt.%のZrO2、
0wt.%〜4.0wt.%のZnO、
0wt.%〜3.0wt.%のSb2O3、
0wt.%〜3.0wt.%のMgO、
0wt.%〜3.0wt.%のSnO2、
0wt.%〜2.0wt.%のP2O5、
0wt.%〜1.5wt.%のAs2O3、
0wt.%〜1.2wt.%のNa2O+K2O、なお、各々の含有量は以下の指定範囲内である:
0wt.%〜1.0wt.%のNa2O、
0wt.%〜0.5wt.%のK2O、及び
0wt.%〜1.0wt.%の着色酸化物、
前駆物品を、15K/分を超える昇温速度を伴って11分以内で室温から660℃に加熱し、その後、20分間の処理時間で、昇温速度をゼロまで徐々に減少させた結果、高温石英混合結晶相の体積結晶化が、セラミック化される物品の温度の均質化において起こり、その後、セラミック化する前駆物品を、10K/分を超える昇温速度を伴って、1080℃〜1300℃の最大温度まで加熱し、
なお、
前記前駆物品の上面と底面との間の温度分布が、少なくとも相転移の発熱期間中、前記変換する前駆物品における平均温度から±1K以下しかずれないように、前記前駆物品を最大温度に加熱し、かつ
前記最大温度を2分間以内維持し、前駆物品をその後、350K/分〜15K/分の平均冷却速度を伴って400℃に冷却させ、続いて室温まで冷却させる、
ガラスセラミックを含む物品を製造する方法。 - 前記最大温度を達成するように実行される昇温速度が、10K/分を超える、請求項1に記載の方法。
- 少なくとも1つの前駆物品を、ガラスセラミックを含む物品へとセラミック化する、請求項1又は2に記載の、ガラスセラミックを含む物品を製造する方法であって、
ガラスの前駆物品を、ガラスセラミックを含む物品へとセラミック化するか、又は
前駆物品の少なくとも第1の結晶相を、前記ガラスセラミックを含む物品の第2の結晶相へとセラミック化し、なお、
前記前駆物品を最大温度に加熱し、かつ
10K/分を超える、最大温度を達成する加熱速度を実行しながら、前記ガラスセラミックを含む物品の前記第1の結晶相又は第2の結晶相へのセラミック化中に前記前駆物品が受ける体積変化の少なくとも80%を、1分〜6分を含む時間内、に完了させる、
ガラスセラミックを含む物品を製造する方法。 - ガラスセラミックを含む物品であって、
該ガラスセラミックを含む物品が以下の範囲から選択される組成を有し:
60wt.%〜73.0wt.%のSiO2、
15wt.%〜25.0wt.%のAl2O3、
2.2wt.%〜5.0wt.%のLi2O、
0wt.%〜5.0wt.%のCaO+SrO+BaO、
0wt.%〜5.0wt.%のTiO2、
0wt.%〜5.0wt.%のZrO2、
0wt.%〜4.0wt.%のZnO、
0wt.%〜3.0wt.%のSb2O3、
0wt.%〜3.0wt.%のMgO、
0wt.%〜3.0wt.%のSnO2、
0wt.%〜2.0wt.%のP2O5、
0wt.%〜1.5wt.%のAs2O3、
0wt.%〜1.2wt.%のNa2O+K2O、なお、各々の含有量は以下の指定範囲内である:
0wt.%〜1.0wt.%のNa2O、
0wt.%〜0.5wt.%のK2O、及び
0wt.%〜1.0wt.%の着色酸化物、
さらに、該ガラスセラミックを含む物品が、少なくとも3つの異なるミクロ構造(1、2、3)を含み、
前記ミクロ構造(1、2、3)が、単位体積当たりに含まれる結晶子の数及び/若しくはサイズ、並びに/又は該結晶子の組成、並びに/又は残りのガラス相の組成において異なり、かつ
該異なるミクロ構造(1、2、3)が、転移領域に垂直な断面にわたる種々の相対的なイオン含有量プロファイルを特徴とし、
該相対的なイオン含有量プロファイルが、二次イオン質量分析法を用いて測定される強度から求められ、かつ
前記少なくとも3つの異なるミクロ構造(1、2、3)の各々が、主結晶相の成分である個々のイオンについての異なる強度プラトー(9)を有する、ガラスセラミックを含む物品。 - 前記ガラスセラミックを含む物品の、環境との境界面を含む、前記ガラスセラミックを含む物品の外側帯域が、この領域の結晶子含有量が10vol.%以下である主に非晶質の第1のミクロ構造(1)を示す、請求項4に記載のガラスセラミックを含む物品。
- 前記第1のミクロ構造に隣接する第2のミクロ構造(2)が、10vol.%〜80vol.%の結晶子含有量を有する、請求項4又は5に記載のガラスセラミックを含む物品。
- 前記第2のミクロ構造に隣接する第3のミクロ構造(3)が、80vol.%未満の結晶子含有量を有する、請求項4〜6のいずれか一項に記載のガラスセラミックを含む物品。
- 前記ガラスセラミックを含む物品が、落球試験において、15cmより大きい破壊高さの耐衝撃性を示し、所与の値が、ワイブル分布の5%フラクタイルに相当し、かつ535gの鋼球が落下する200mm×200mm×4mmの試料サイズに関連する、請求項4〜7のいずれか一項に記載のガラスセラミックを含む物品。
- DIN 12 116に準拠するクラス1又はクラス2の耐酸性を示す、請求項4〜8のいずれか一項に記載のガラスセラミックを含む物品。
- 370℃の温度における濃硫酸の30分間の侵襲後に、続いて実施した落球試験において、15cmより大きい破壊高さを示す、請求項4〜9のいずれか一項に記載のガラスセラミックを含む物品。
- 前記第1のガラス質のミクロ構造(1)が、前記第2のミクロ構造(2)及び第3のミクロ構造(3)と比較して、Liイオン(6)及びMgイオン(7)をわずかしか含まず、Naイオン(4)及びKイオン(5)に富む、請求項4〜10のいずれか一項に記載のガラスセラミックを含む物品。
- 前記第2のミクロ構造(2)が、前記第1のミクロ構造(1)と比較して、Liイオン(6)及びMgイオン(7)に富むのに対し、前記第1のミクロ構造(1)と比較して、Naイオン(4)及びKイオン(5)をわずかしか含まない、請求項10又は11に記載のガラスセラミックを含む物品。
- 前記第3のミクロ構造(3)が、他の2つのミクロ構造(1、2)と比較して、Liイオン(6)及びMgイオン(7)に富むのに対し、他の2つのミクロ構造(1、2)と比較して、Naイオン(4)及びKイオン(5)をわずかしか含まない、請求項10〜12のいずれか一項に記載のガラスセラミックを含む物品。
- 前記第1の主に非晶質のミクロ構造帯域の周縁領域が、亜鉛スピネル混合結晶に富み、かつ/又は前記第1の主に非晶質のミクロ構造帯域の非周縁領域が、亜鉛スピネル混合結晶をわずかしか含まない、請求項10〜13のいずれか一項に記載のガラスセラミックを含む物品。
- イオン含有量プロファイルによって規定される、前記第1のミクロ構造(1)及び前記第2のミクロ構造(2)が、10μm以下の厚みを有する、請求項10〜14のいずれか一項に記載のガラスセラミックを含む物品。
- 前記ガラスセラミックを含む物品の少なくとも前記第3のミクロ構造(3)が、ケアタイト混合結晶(14)の主結晶相と、高温石英混合結晶(13)の第2の結晶相とを含み、該高温石英混合結晶相(13)と該ケアタイト混合結晶相(14)との比率が、前記ガラスセラミックを含む物品の表面に向かって連続的に又は少しずつ増大する、請求項10〜15のいずれか一項に記載のガラスセラミックを含む物品。
- セラミック産業、太陽光産業若しくは医薬産業における、又はとりわけ高いクリーン条件下での製造プロセスにかかる医薬技術における、サポートプレート又はオーブンライナーとしての;化学的若しくは物理的なコーティングプロセスを実施する炉の裏張りとしての;又は、耐薬品性の実験装置としての;高温適用又は極低温適用におけるガラスセラミック物品としての;焼却炉のための炉の窓ガラスとしての;高温環境を遮断するための遮熱材としての;反射器、投光器、ビデオプロジェクタ、データプロジェクタ、コピー機のための、例えばナイトビジョンデバイスにおける、熱機械応力を伴う適用のためのカバーとしての;又は、家電製品における、加熱素子のためのカバー、特に調理面若しくはフライ面としての;ヒーターカバーとしての;ウエハ基板としての;UV保護を伴う半透明物品としての;又は、ファサードプレートとしての、請求項4〜16のいずれか一項に記載のガラスセラミックを含む物品の使用。
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102009034152.8 | 2009-07-20 | ||
DE102009034152 | 2009-07-20 | ||
DE102010006232.4A DE102010006232B4 (de) | 2009-07-20 | 2010-01-28 | Hochleistungsglaskeramik und Verfahren zur Herstellung einer Hochleistungskeramik sowie ihre Verwendung |
DE102010006232.4 | 2010-01-28 | ||
US31655710P | 2010-03-23 | 2010-03-23 | |
US61/316,557 | 2010-03-23 | ||
PCT/EP2010/004250 WO2011009544A1 (de) | 2009-07-20 | 2010-07-13 | Hochleistungsglaskeramik und verfahren zur herstellung einer hochleistungskeramik |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012533509A JP2012533509A (ja) | 2012-12-27 |
JP2012533509A5 JP2012533509A5 (ja) | 2013-08-15 |
JP5892932B2 true JP5892932B2 (ja) | 2016-03-23 |
Family
ID=43448396
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012520928A Active JP5892932B2 (ja) | 2009-07-20 | 2010-07-13 | 高性能ガラスセラミック及び高性能ガラスセラミックを製造する方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8993464B2 (ja) |
EP (1) | EP2456729B1 (ja) |
JP (1) | JP5892932B2 (ja) |
KR (1) | KR101712225B1 (ja) |
CN (1) | CN102498072B (ja) |
DE (1) | DE102010006232B4 (ja) |
WO (1) | WO2011009544A1 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9241879B2 (en) | 2008-04-11 | 2016-01-26 | James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Lithium silicate glass ceramic for fabrication of dental appliances |
US9701574B2 (en) * | 2013-10-09 | 2017-07-11 | Corning Incorporated | Crack-resistant glass-ceramic articles and methods for making the same |
DE102014013528B4 (de) * | 2014-09-12 | 2022-06-23 | Schott Ag | Beschichtetes Glas-oder Glaskeramiksubstrat mit beständigen multifunktionellen Oberflächeneigenschaften, Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Verwendung |
KR102534831B1 (ko) | 2014-10-08 | 2023-05-26 | 코닝 인코포레이티드 | 페탈라이트 및 리튬 실리케이트 구조를 갖는 고강도 유리-세라믹 |
DE102014226986B9 (de) | 2014-12-23 | 2017-01-12 | Schott Ag | Glaskeramisches Substrat aus einer transparenten, eingefärbten LAS-Glaskeramik und Verfahren zu dessen Herstellung |
DE102016216305B4 (de) | 2015-09-04 | 2023-04-20 | Schott Ag | Verwendung einer transparenten Glaskeramikscheibe als Kaminsichtscheibe in einem Kaminofen |
DE102016101036B4 (de) * | 2016-01-21 | 2018-05-30 | Schott Ag | Kochmulde mit einer Glaskeramik-Kochfläche |
DE102016101048B3 (de) * | 2016-01-21 | 2017-03-09 | Schott Ag | Glaskeramik-Kochmulde mit einem Infrarot-Sensor |
DE102016101066B3 (de) * | 2016-01-21 | 2017-02-23 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung eines vorzugsweise nicht eingefärbten glaskeramischen Materials mit geringem Streulichtanteil sowie verfahrensgemäß hergestelltes glaskeramisches Material und dessen Verwendung |
DE102016211065B4 (de) | 2016-06-21 | 2019-09-05 | Schott Ag | Transparenter, vorzugsweise eingefärbter Glaskeramikartikel mit geringem Streulichtanteil und hoher Festigkeit sowie Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
CN115403256A (zh) * | 2018-07-16 | 2022-11-29 | 康宁股份有限公司 | 利用成核和生长密度以及粘度变化对玻璃进行陶瓷化的方法 |
CN111153603B (zh) * | 2018-11-08 | 2021-10-26 | 华为机器有限公司 | 玻璃材料、玻璃材料的制造方法、电子设备 |
DE102018132945B4 (de) | 2018-12-19 | 2020-12-31 | Schott Ag | Plattenförmiger Gegenstand, Verfahren zu dessen Herstellung sowie dessen Verwendung |
JPWO2020137779A1 (ja) * | 2018-12-27 | 2021-11-18 | 日本電気硝子株式会社 | 医薬用ガラス容器 |
CN112939435A (zh) * | 2019-12-11 | 2021-06-11 | 四川旭虹光电科技有限公司 | 微晶玻璃及其生产方法和应用 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3637453A (en) * | 1966-06-17 | 1972-01-25 | Owens Illinois Inc | Glass-ceramic articles having an integral compressive stress surface layer |
GB1383201A (en) * | 1971-02-19 | 1975-02-05 | Pilkington Brothers Ltd | Glass ceramic material |
US3997352A (en) * | 1975-09-29 | 1976-12-14 | Corning Glass Works | Mica-spodumene glass-ceramic articles |
US4218512A (en) | 1979-01-04 | 1980-08-19 | Ppg Industries, Inc. | Strengthened translucent glass-ceramics and method of making |
US4211820A (en) | 1979-02-02 | 1980-07-08 | Corning Glass Works | Brown glass-ceramic articles |
CN1015255B (zh) * | 1986-05-19 | 1992-01-01 | 李承先 | 制造具备高抗热震性的陶瓷产品的方法 |
EP1170264B1 (de) * | 2000-07-04 | 2003-09-03 | Schott Glas | Transluzente Glaskeramik, Verfahren zur Herstellung einer transluzenten Glaskeramik sowie deren Verwendung |
DE102004024583A1 (de) * | 2004-05-12 | 2005-12-08 | Schott Ag | Transluzente oder opake Kochfläche bestehend aus einer einfärbbaren Glaskeramik sowie deren Verwendung |
JP4741282B2 (ja) | 2004-05-12 | 2011-08-03 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | ガラスセラミック品を作製する方法 |
DE102005019247B9 (de) | 2004-05-12 | 2009-06-25 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung von Glaskeramik |
DE102007025893B4 (de) | 2007-06-01 | 2014-08-21 | Schott Ag | Glaskeramisches Panzermaterial und Verfahren zur Herstellung einer Panzerung mit einer Glaskeramik-Komponente |
-
2010
- 2010-01-28 DE DE102010006232.4A patent/DE102010006232B4/de active Active
- 2010-07-13 WO PCT/EP2010/004250 patent/WO2011009544A1/de active Application Filing
- 2010-07-13 KR KR1020127004342A patent/KR101712225B1/ko active IP Right Grant
- 2010-07-13 EP EP10734044.0A patent/EP2456729B1/de active Active
- 2010-07-13 CN CN201080041650.0A patent/CN102498072B/zh active Active
- 2010-07-13 US US13/384,875 patent/US8993464B2/en active Active
- 2010-07-13 JP JP2012520928A patent/JP5892932B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102010006232B4 (de) | 2016-09-15 |
CN102498072B (zh) | 2015-09-30 |
US20120157290A1 (en) | 2012-06-21 |
EP2456729A1 (de) | 2012-05-30 |
JP2012533509A (ja) | 2012-12-27 |
US8993464B2 (en) | 2015-03-31 |
EP2456729B1 (de) | 2020-02-12 |
KR20120052332A (ko) | 2012-05-23 |
DE102010006232A1 (de) | 2011-02-17 |
KR101712225B1 (ko) | 2017-03-03 |
CN102498072A (zh) | 2012-06-13 |
WO2011009544A1 (de) | 2011-01-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5892932B2 (ja) | 高性能ガラスセラミック及び高性能ガラスセラミックを製造する方法 | |
JP4741282B2 (ja) | ガラスセラミック品を作製する方法 | |
JP6587903B2 (ja) | 結晶度が高いリチウムアルミニウムケイ酸塩のガラスセラミック、及びその使用 | |
JP5893019B2 (ja) | リチウムを含有する透明なガラスセラミック材料およびその製造方法ならびにその使用 | |
JP6230775B2 (ja) | フロート結晶化ガラスの強化セラミック化の方法 | |
JP6407725B2 (ja) | 透明な色の薄いリチウムアルミニウムシリケートガラスセラミックおよびその使用 | |
JP6835659B2 (ja) | 結晶化可能なリチウムアルミニウムケイ酸塩ガラス、並びにそれから製造された透明なガラスセラミック、並びにガラス及びガラスセラミックの製造方法、並びにガラスセラミックの使用 | |
CN1325412C (zh) | 纳米多晶相玻璃陶瓷及其生产方法 | |
JP2012533509A5 (ja) | ||
JP2006523600A (ja) | ランプリフレクタ基体、それを製造するためのガラス、ガラスセラミック材料および方法 | |
TWI828718B (zh) | 陶瓷化具有改善的翹曲的玻璃製品的方法 | |
JP2010503601A (ja) | 薄板形状でのガラスセラミック素材の製造方法、それらを含んだ薄板及びそれらの使用方法 | |
JP2006008488A (ja) | 熱処理用セッター及びその製造方法、並びにガラス基板の熱処理方法 | |
US20210292220A1 (en) | Setter plates and methods of ceramming glass articles using the same | |
RU2703019C2 (ru) | Беспористый керамический элемент | |
US20210130228A1 (en) | Glass substrates including uniform parting agent coatings and methods of ceramming the same | |
US20210009459A1 (en) | Methods for forming glass ceramic articles | |
JP2022523029A (ja) | ガラスセラミック物品、組成物、及びその製造方法 | |
JPH0692684A (ja) | セラミックス複合シリカガラス | |
JP2001348242A (ja) | 低膨張結晶化ガラスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130628 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130628 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140123 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140130 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20140430 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20140509 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140716 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150129 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150428 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150520 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150915 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151118 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160126 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160223 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5892932 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |