JP5851256B2 - 電子線装置 - Google Patents
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- 試料に向けて電子線を放出する電子線源と、電子線源から放出された電子線を試料上で集束するための対物レンズと、該電子線を偏向するための偏向器と、電子線の照射に応じて試料から発生する特性X線の検出を行うX線検出器とを備えた電子線装置において、対物レンズの電子線通過領域内には電子線が通過するインナーチューブが配置されており、該インナーチューブの試料側の端部に試料と対向するX線集光素子が設置され、対物レンズを間に挟んで試料が位置する側の反対側の位置にX線検出器が配置されていることを特徴とする電子線装置。
- インナーチューブは導電性を有し、該インナーチューブに電圧を印加するための電圧印加手段を備えることを特徴とする請求項1記載の電子線装置。
- 偏向器は、対物レンズの電子線通過領域内であって、X線集光素子を間に挟んで試料が位置する側の反対側の位置に配置されていることを特徴とする請求項1又は2記載の電子線装置。
- 対物レンズと試料との間において、電子線照射時に試料から発生する電子を遮蔽するための遮蔽部材が挿脱可能に設けられていることを特徴とする請求項1乃至3何れか記載の電子線装置。
- X線検出器と対物レンズとの間において、電子線照射時に試料から発生する電子を遮蔽するための遮蔽部材が挿脱可能に設けられていることを特徴とする請求項1乃至3何れか記載の電子線装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012011911A JP5851256B2 (ja) | 2012-01-24 | 2012-01-24 | 電子線装置 |
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JP2013152798A JP2013152798A (ja) | 2013-08-08 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP5851256B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5240190A (en) * | 1975-09-25 | 1977-03-28 | Hitachi Ltd | X-ray analysis device |
JP3003708B2 (ja) * | 1990-12-25 | 2000-01-31 | 株式会社島津製作所 | 表面分析装置 |
JPH0883588A (ja) * | 1994-09-13 | 1996-03-26 | Hitachi Ltd | X線分析装置 |
JP2003294659A (ja) * | 2002-04-01 | 2003-10-15 | Jeol Ltd | X線分析装置 |
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Publication number | Publication date |
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JP2013152798A (ja) | 2013-08-08 |
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