JP5829641B2 - 近赤外線吸収性液状組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 - Google Patents

近赤外線吸収性液状組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5829641B2
JP5829641B2 JP2013037239A JP2013037239A JP5829641B2 JP 5829641 B2 JP5829641 B2 JP 5829641B2 JP 2013037239 A JP2013037239 A JP 2013037239A JP 2013037239 A JP2013037239 A JP 2013037239A JP 5829641 B2 JP5829641 B2 JP 5829641B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
liquid composition
infrared
substituent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2013037239A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2013253224A (ja
Inventor
漢那 慎一
慎一 漢那
星戊 朴
星戊 朴
誠一 人見
誠一 人見
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2013037239A priority Critical patent/JP5829641B2/ja
Priority to TW102116112A priority patent/TW201345987A/zh
Priority to PCT/JP2013/063613 priority patent/WO2013168824A1/en
Priority to CN201380024372.1A priority patent/CN104272146A/zh
Priority to KR20147032280A priority patent/KR20150003830A/ko
Publication of JP2013253224A publication Critical patent/JP2013253224A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5829641B2 publication Critical patent/JP5829641B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/44Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/208Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B11/00Filters or other obturators specially adapted for photographic purposes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
JP2013037239A 2012-05-08 2013-02-27 近赤外線吸収性液状組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 Expired - Fee Related JP5829641B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013037239A JP5829641B2 (ja) 2012-05-08 2013-02-27 近赤外線吸収性液状組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法
TW102116112A TW201345987A (zh) 2012-05-08 2013-05-06 近紅外光吸收液組成物、使用其的近紅外光截止濾波器以及照相模組及其製造方法
PCT/JP2013/063613 WO2013168824A1 (en) 2012-05-08 2013-05-07 Near infrared absorptive liquid composition, near infrared cut filter using the same, method of manufacturing the same, and camera module and method of manufacturing the same
CN201380024372.1A CN104272146A (zh) 2012-05-08 2013-05-07 近红外吸收液体组合物、使用其的近红外截止滤光片、其制造方法以及相机模块及其制造方法
KR20147032280A KR20150003830A (ko) 2012-05-08 2013-05-07 근적외선 흡수성 액상 조성물, 이를 이용한 근적외선 커트 필터, 그 제조 방법, 및 카메라 모듈 및 그 제조 방법

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012106450 2012-05-08
JP2012106450 2012-05-08
JP2013037239A JP5829641B2 (ja) 2012-05-08 2013-02-27 近赤外線吸収性液状組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013253224A JP2013253224A (ja) 2013-12-19
JP5829641B2 true JP5829641B2 (ja) 2015-12-09

Family

ID=49550851

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013037239A Expired - Fee Related JP5829641B2 (ja) 2012-05-08 2013-02-27 近赤外線吸収性液状組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5829641B2 (zh)
KR (1) KR20150003830A (zh)
CN (1) CN104272146A (zh)
TW (1) TW201345987A (zh)
WO (1) WO2013168824A1 (zh)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015017244A (ja) 2013-06-12 2015-01-29 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化膜、近赤外線カットフィルタ、カメラモジュールおよびカメラモジュールの製造方法
JP6066977B2 (ja) * 2014-01-21 2017-01-25 富士フイルム株式会社 近赤外線吸収性組成物、近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、ならびに、カメラモジュールおよびその製造方法
JP6242782B2 (ja) * 2014-01-21 2017-12-06 富士フイルム株式会社 近赤外線吸収性組成物、近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、ならびに、カメラモジュールおよびその製造方法
JP6277056B2 (ja) * 2014-01-21 2018-02-07 富士フイルム株式会社 近赤外線吸収性物質の分光調整方法、近赤外線吸収性組成物およびその製造方法、近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、カメラモジュール、ならびに、銅化合物の分光調整剤
TW201600574A (zh) 2014-06-30 2016-01-01 Fujifilm Corp 近紅外線吸收性組成物、近紅外線截止濾波器、近紅外線截止濾波器的製造方法、固體攝像元件、照相機模組
TWI667243B (zh) * 2014-06-30 2019-08-01 日商富士軟片股份有限公司 Near-infrared absorbing composition, near-infrared cut filter, near-infrared cut filter manufacturing method, solid-state imaging device, and camera module
US9966402B2 (en) 2014-12-04 2018-05-08 Jsr Corporation Solid-state imaging device
TWI675907B (zh) 2015-01-21 2019-11-01 日商Jsr股份有限公司 固體攝像裝置
US10745541B2 (en) 2015-09-24 2020-08-18 Nippon Sheet Glass Company, Limited Composition for infrared-absorbing layers, infrared-cut filter, and imaging apparatus
JP6220107B1 (ja) * 2016-04-21 2017-10-25 日本板硝子株式会社 赤外線吸収性組成物、赤外線カットフィルタ、及び撮像光学系
JP6267823B1 (ja) * 2017-07-27 2018-01-24 日本板硝子株式会社 光学フィルタ、カメラモジュール、及び情報端末
JP7041159B2 (ja) * 2017-08-24 2022-03-23 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
KR102483100B1 (ko) 2017-09-15 2022-12-30 후지필름 가부시키가이샤 조성물, 막, 적층체, 적외선 투과 필터, 고체 촬상 소자 및 적외선 센서
JP7119578B2 (ja) * 2018-05-25 2022-08-17 昭和電工マテリアルズ株式会社 樹脂組成物、硬化物、半導体装置及びその製造方法
CN112601763B (zh) 2018-09-20 2024-03-19 富士胶片株式会社 固化性组合物、固化膜、红外线透射滤波器、层叠体、固体摄像元件、传感器及图案形成方法
JPWO2022131191A1 (zh) 2020-12-16 2022-06-23
WO2022130773A1 (ja) 2020-12-17 2022-06-23 富士フイルム株式会社 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
TW202244147A (zh) 2021-03-19 2022-11-16 日商富士軟片股份有限公司 膜及光感測器
CN113087966B (zh) * 2021-03-30 2022-04-26 浙江华帅特新材料科技有限公司 红外线吸收剂分散液、透明隔热有机玻璃及其制造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999026952A1 (fr) * 1997-11-21 1999-06-03 Kureha Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Composes de phosphate, composes de phosphate et de cuivre et leurs procedes de preparation, substance et composition absorbant les infrarouges proches et leur produit de mise en application
WO1999026951A1 (fr) * 1997-11-21 1999-06-03 Kureha Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Compose de phosphate et de cuivre, composition contenant ce compose et produit de mise en application
JP5354863B2 (ja) * 2006-02-24 2013-11-27 富士フイルム株式会社 オキシム誘導体、光重合性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法
CN101024624B (zh) * 2006-02-24 2013-09-11 富士胶片株式会社 肟衍生物、可光聚合的组合物、滤色片及其制造方法
JP2008268267A (ja) * 2007-04-16 2008-11-06 Nippon Shokubai Co Ltd ハードコート用樹脂組成物
WO2011071052A1 (ja) * 2009-12-07 2011-06-16 旭硝子株式会社 光学部材、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、撮像装置用レンズ、およびそれらを用いた撮像・表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013253224A (ja) 2013-12-19
CN104272146A (zh) 2015-01-07
KR20150003830A (ko) 2015-01-09
TW201345987A (zh) 2013-11-16
WO2013168824A1 (en) 2013-11-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5829641B2 (ja) 近赤外線吸収性液状組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法
JP5946389B2 (ja) 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法
KR101723118B1 (ko) 근적외선 흡수성 조성물, 이것을 사용한 근적외선 차단필터 및 그 제조방법, 그리고 카메라 모듈 및 그 제조방법
WO2014017295A1 (ja) 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法
JP5941424B2 (ja) 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法
JP6110325B2 (ja) 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、並びに、カメラモジュールおよびその製造方法
WO2014126192A1 (ja) 赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット、これを用いた赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法
JP5890805B2 (ja) 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法
KR102292981B1 (ko) 착색 조성물, 경화막, 패턴 형성 방법, 컬러 필터, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치
JP6016518B2 (ja) 近赤外線吸収剤、近赤外線吸収性組成物、これらを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、カメラモジュール及びその製造方法、ならびに、近赤外線吸収剤の製造方法
WO2014017247A1 (ja) 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法
JP2014139617A (ja) 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、並びに、カメラモジュールおよびその製造方法
KR102339147B1 (ko) 착색 조성물, 막, 컬러 필터, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치
WO2014030443A1 (ja) 近赤外線吸収剤、近赤外線吸収性組成物、これらを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、カメラモジュール及びその製造方法、ならびに、近赤外線吸収剤の製造方法
JP2014139616A (ja) リン酸ジエステル銅錯体、近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、並びに、カメラモジュールおよびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20141112

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150526

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150721

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150811

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150930

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20151020

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20151022

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5829641

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees