JP5814547B2 - 高周波スイッチ - Google Patents

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Description

本発明は、高周波スイッチに関し、特に無線通信機器のフロントエンド部に用いられる高周波スイッチに関する。
携帯電話等のフロントエンド部に用いられる高周波スイッチは、例えばGSM(Global System for Mobile Communications)端末に使用される場合において、35dBmという大電力を出力するため、その大電力に耐え得ることが必要となる。
これに関連する従来技術として、高周波スイッチを構成する各スイッチ部を複数のFET(Field Effect Transistor)を直列に接続することで構成し、各スイッチ印加される電圧を構成要素である複数のFETに均等分配することで高周波スイッチの耐圧を向上させるというものがある(引用文献1)。
特表2005−515657号公報
しかし、シリコン基板に形成されるMOSFET(Metal Oxide Semiconducter Field Effect Transistor)はソース/ドレイン各端子とボディ端子との間に寄生ダイオードを有する。そして、信号送信時にオンポート側のスイッチ部から共通ポートを介してアンテナに入力される電力が大きくなると、オフポート側のスイッチ部を構成するMOSFETのうち共通ポートに近いものの前記寄生ダイードが導通し、信号波形を歪ませるという現象がある。この現象は高周波スイッチの歪特性(高調波特性)を劣化させるが、上記従来技術は、この問題に対応することができない。
本発明はこのような問題を解決するためになされたものであり、各スイッチ部を構成するMOSFETのうち共通ポートに接続されたもののボディ端子と共通ポートに接続された端子(ドレイン端子)との間にキャパシタを接続する。これにより、オフポート側のスイッチに共通ポート側から印加される大電力の送信信号をボディ端子にフィードフォワードさせ、前記寄生ダイオードが導通するのを防止することで高周波スイッチの歪特性の劣化を抑止することを目的とする。
前記課題を解決するために、本発明に係る高周波スイッチは、アンテナへ送信信号が出力される共通ポートと、前記送信信号が入力される送信ポートと、複数の前記送信ポートと前記共通ポートとの間にそれぞれ接続され、各送信ポートから前記共通ポートへの前記送信信号を導通または遮断する複数のスイッチ部と、を有し、前記スイッチ部はシリコン基板に形成された一以上のMOSFETを有し、前記MOSFETのうち前記共通ポートに接続されたもののボディ端子と前記共通ポートに接続された端子との間にキャパシタが接続されたことを特徴とする。
すなわち、本発明に係る高周波スイッチは、前記キャパシタにより、オフポート側のスイッチに共通ポート側から入力される大電力の送信信号をボディ端子にフィードフォワードさせ、寄生ダイオードが導通するのを防止する。
本発明に係る高周波スイッチによれば、高周波スイッチの歪特性の劣化を抑止することができる。
本発明の実施形態に係る高周波スイッチと、フィードフォワードキャパシタが接続されたMOSFETの等価回路とを示す図である。 従来の高周波スイッチにおいて、オフポートのスイッチ部が歪特性を劣化させる現象を示す説明図である。 本発明の実施形態に係る高周波スイッチにおいて、送信信号の歪特性の劣化を防止するフィードフォワードキャパシタの機能を示す説明図である。
以下、本発明の実施形態に係る高周波スイッチについて詳細に説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る高周波スイッチ(A)と、フィードフォワードキャパシタが接続されたMOSFETの等価回路(B)とを示す図である。
高周波スイッチは、一般的に、無線通信機器のフロントエンド部に用いられ、送受信の切り換え、受信方式の切り換え、および送信方式の切り換えの少なくともいずれか一つに伴うポートの切り換えを行なう機能を有する。本実施形態に係る高周波スイッチは、送信方式の切り換えに伴いポートの切り換えを行なうSPDT(Single Pole Double Throw)スイッチによる高周波スイッチであり得る。
図1のAは、本実施形態に係るSPDTスイッチによる高周波スイッチを示す図である。本実施形態に係る高周波スイッチは、送信方式の切り換えに伴うポートの切り換えを行なう。すなわち、例えば、GSM端末における周波数帯の切り換え(例えば、狭帯域である850MHzと広帯域である1900MHzの切り換え)を行なう。
図1のAに示すように、高周波スイッチ1は、共通ポートCXを介してアンテナ110に共通に(並列に)接続された第1スイッチ部100Aと第2スイッチ部100Bとを有する。第1スイッチ部100Aは第1送信ポートTX1と共通ポートCXとの間に接続され、第2スイッチ部100Bは第2送信ポートTX2と共通ポートCXとの間に接続される。
第1スイッチ部100Aは、第1共通ゲート端子GATE_TX1に入力される制御信号に従い、第1送信ポートTX1からの第1送信信号を導通または遮断する。導通時は、第1スイッチ部100Aは、第1送信ポートTX1に入力された第1送信信号(例えば、850MHzの送信信号)を共通ポートCXに出力する。そして、共通ポートCXからアンテナ110に第1送信信号が出力される。
第2スイッチ部100Bは、第2共通ゲート端子GATE_TX2に入力される制御信号に従い、第2送信ポートTX2からの第2送信信号を導通または遮断する。導通時は、第2スイッチ部100Bは、第2送信ポートTX2に入力された第2送信信号(例えば、1900MHzの送信信号)を共通ポートCXに出力する。そして、共通ポートCXからアンテナ110に第2送信信号が出力される。
すなわち、高周波スイッチ1は、第1スイッチ部100Aまたは第2スイッチ部100Bのいずれか一方が送信信号を導通し、他方が送信信号を遮断することで、送信ポートの切り換えを行うことができる。以下、導通状態のスイッチ部をオンポート(ON Port)のスイッチ部、遮断状態のスイッチ部をオフポート(OFF Port)のスイッチ部と称する。
第1スイッチ部100Aは、直列に接続された複数のMOSFETTSWを有する。ここで、MOSFETTSWはソース端子とドレイン端子とを有するが、これらの端子はMOSFETの構造上区別されない。そこで、本明細書においては、説明の便宜上、アンテナ110に接続された第1スイッチ部100Aの各MOSFETTSWにおいて、アンテナ110に近い側の端子がドレイン端子であるとして説明する。また、MOSFETTSWが「直列に接続」とは、一のMOSFETTSWのソース端子またはドレイン端子のいずれかと他のMOSFETTSWのソース端子またはドレイン端子のいずれかとが接続された状態を指す。また、各MOSFETTSWはn型のMOSFETとして説明する。
MOSFETTSWは、SOI(Silicon On Insulator)基板に形成され得る。SOI基板に形成されたMOSFETTSWは、酸化シリコン(SiO)からなる絶縁層上のシリコン層に形成されたFET素子が素子単体で該絶縁層により囲まれた構造を有し、各FETは絶縁体である酸化シリコンにより互いに電気的に分離される。
第1スイッチ部100Aは、各MOSFETTSWのゲート端子と第1共通ゲート端子GATE_TX1との間に設けられたゲート抵抗Rgateと、各MOSFETTSWのボディ(バックゲート、ウェル)端子と第1共通ボディ端子BODY_TX1間に設けられたボディ抵抗Rbodyとをさらに有する。ボディ抵抗Rbodyを設けるのは、ボディ領域からの漏洩電力による損失を小さくするためである。
また、直列に接続された複数のMOSFETTSWのうち共通ポートCXに接続されたMOSFETTSW(図1のAの第1スイッチ部100Aにおいて点線の丸で囲まれたMOSFETTSWであり、以下、「第1先頭MOSFET」と称する)のドレイン端子とボディ端子との間に第1フィードフォワードキャパシタ(キャパシタ)CFF1を有する。第1フィードフォワードキャパシタCFF1は、第1先頭MOSFETのドレイン端子に印加される信号を、第1先頭MOSFETTSWのボディ端子に伝達する機能を有する。
第2スイッチ部100Bも第1スイッチ部100Aと同様な構造を有する。このため、第1スイッチ部100Aにおいて説明した内容は省略または簡略する。
第2スイッチ部100Bは、直列に接続された複数のMOSFETTSWと、各MOSFETTSWのゲート端子と第2共通ゲート端子GATE_TX2との間に設けられたゲート抵抗Rgateと、各MOSFETTSWのボディ端子と第2共通ボディ端子BODY_TX2との間に設けられたボディ抵抗Rbodyとを有する。また、直列に接続された複数のMOSFETTSWのうち共通ポートCXに接続されたMOSFETTSW(図1のAの第2スイッチ部100Bにおいて点線の丸で囲まれたMOSFETTSWであり、以下、「第2先頭MOSFET」と称する)のドレイン端子とボディ端子との間に第2フィードフォワードキャパシタ(キャパシタ)CFF2を有する。第2フィードフォワードキャパシタCFF2は、第2先頭MOSFETのドレイン端子に印加される信号を、第2先頭MOSFETのボディ端子に伝達する機能を有する。
本実施形態に係る高周波スイッチ1の動作について説明する。
第1スイッチ部100Aがオンポートで第2スイッチ部100Bがオフポートの場合について説明する。なお、第1スイッチ部100Aがオフポートで第2スイッチ部100Bがオンポートの場合も同様に考えることができる(この場合の説明は省略する)。
第1共通ゲート端子GATE_TX1にハイレベルの制御信号が入力されると、第1スイッチ部100Aの全てのMOSFETTSWが導通する。これにより、第1スイッチ部100Aはオンポートとなり、第1送信ポートTX1に入力される第1送信信号が共通ポートCXを介してアンテナ110に伝達される。
このとき、第2共通ゲート端子GATE_TX2にはローレベルの制御信号が入力されるため、第2スイッチ部100Bの全てのMOSFETTSWが遮断状態となる。これにより、第2スイッチ部100Bはオフポートとなり、仮に第2送信ポートに信号が入力されてもその信号は共通ポートCXを介してアンテナ110に伝達されない。
第1スイッチ部100Aから共通ポートCXに出力される第1送信信号は、第1スイッチ部100Aと並列に共通ポートCXに接続された第2スイッチ部100Bにも印加される。特に、第2スイッチ部100Bを構成する直列に接続された複数のMOSFETTSWのうちアンテナ110に接続された第2先頭MOSFETTSWのドレイン端子には第1送信信号が直接的に印加される。
図1のBに示されたMOSFETの等価回路は、第2フィードフォワードキャパシタCFF2が接続されているため第2先頭MOSFETTSWの等価回路と考えることができる。
図1のBにおいて、ゲート・ソース間容量CGSはゲート端子とソース端子との間の容量、ゲート・ドレイン間容量CGDはゲート端子とドレイン端子との間の容量、ソース・ボディ間容量CSBはソース端子とボディ端子との間の容量、ドレイン・ボディ間容量CDBはドレイン端子とボディ端子との間の容量をそれぞれ示す。ボディ・ソース間ダイオードDSBはボディ領域とソース領域との間のPN接合による寄生ダイオード、ボディ・ドレイン間ダイオードDBDはボディ領域とドレイン領域との間のPN接合による寄生ダイオード(以下、「寄生ダイオードDBD」と称する)をそれぞれ示す。
ドレイン端子・ソース端子間抵抗RDSは、オフポートの第2スイッチ部100Bの各MOSFETは遮断状態にあるので、遮断状態のMOSFETTSWのチャネルの抵抗の値、すなわち、MOSFETTSWのオフ抵抗の値となる。
第2先頭MOSFETTSWのボディ端子とソース端子との間には第2フィードフォワードキャパシタCFF2が設けられている。
図2は、従来の高周波スイッチにおいて、オフポートのスイッチ部が歪特性を劣化させる現象を示す説明図である。図2の上図は、従来のSPDTスイッチによる高周波スイッチを示し、下図は、高周波スイッチのオフポート側のスイッチ部をなすMOSFETのうち共通ポートCXに接続されたMOSFETの等価回路を示す図である。
なお、図2に示す従来の高周波スイッチは、フィードフォワードキャパシタを有していない点以外は本実施形態と同様の構成であるため、本実施形態で用いた記号および用語をそのまま用いて以下説明する。
寄生ダイオードDBDは、通常、ボディ端子の方がドレイン端子より低電位に電圧印加(逆方向バイアス)されるため、非導通状態となっている。しかし、例えば、GSM端末においては第1送信ポートTX1から共通ポートを介してアンテナ110に35dBm程度の高電力の第1送信信号VTX1が印加されることがある。その結果、第1送信信号VTX1が出力された共通ポートCXに接続された第2先頭MOSFETTSWのドレイン電極に第1送信信号VTX1が印加され、ドレイン端子がボディ端子に対して低電位(順方向バイアス)となり得る。そして、寄生ダイオードDBDにその閾値電圧を超える電圧が印加されると、寄生ダイオードDBDは導通し、ボディ端子からドレイン端子の方向に電流Iを流すとともに共通ポートCXに出力された第1送信信号VTX1を電圧クランプする。この現象は、第1送信信号VTX1を歪ませるため、高周波スイッチの歪特性を劣化させる。
図3は、本実施形態に係る高周波スイッチにおいて、送信信号の歪特性の劣化を防止するフィードフォワードキャパシタの機能を示す説明図である。図3の上図は、本実施形態に係る高周波スイッチを示す図であり、下図は、第2先頭MOSFETの等価回路を示す図である。
図3に示すように、オンポートである第1スイッチ部100Aから共通ポートCXに出力された第1送信信号VTX1がオフポートである第2スイッチ部100Bの第2先頭MOSFETTSWのドレイン端子に印加される。しかし、本実施形態においては、第2先頭MOSFETTSWのボディ端子とドレイン端子との間に第2フィードフォワードキャパシタCFF2が設けられる。このため、第2先頭MOSFETTSWのドレイン端子に印加された第1送信信号VTX1は第2フィードフォワードキャパシタCFF2によりボディ端子にフィードフォワードされる。その結果、第2先頭MOSFETTSWのボディ端子は、第2共通ボディ端子によりもともと印加されている直流電圧成分に、ドレイン端子と同位相かつ同振幅(実際には、近い位相かつ近い振幅)の交流電圧成分が重畳される。このとき、第2先頭MOSFETTSWの寄生ダイオードDBDには、カソードとアノードに同位相かつ同振幅の交流電圧成分が印加されることになる。
したがって、寄生ダイオードDBDには、通常印加されている逆方向バイアスが維持され、第1送信信号VTX1が印加されることによる影響は、カソードとアノードとが同じ交流成分を有することでほぼ相殺されることができる。その結果、寄生ダイオードDBDが導通することを防止し、高周波スイッチの歪特性の劣化を防止することができる。
なお、本実施形態においては、第2先頭MOSFETTSWはSOI基板に形成されているため、他のMOSFETTSWとはボディ領域が分離されている。したがって、第2先頭MOSFETTSWに第2フィードフォワードキャパシタCFF2を設けることでより効果的に自己のボディ端子にドレイン端子に印加された第1送信信号VTX1をフィードフォワードさせることができる。すなわち、より効果的に高周波スイッチ1の歪特性の劣化を防止することができる。
また、第2スイッチ部100Bをなす各MOSFETTSWのボディ端子にはそれぞれボディ抵抗Rbodyが設けられているため、第2先頭MOSFETTSWと他のMOSFETTSWとのボディ領域の分離性が向上される。したがって、さらに効果的に高周波スイッチ1の歪特性の劣化を防止することができる。
また、各スイッチ部100A、100Bを構成する複数のMOSFETTSWには、寄生容量成分と寄生抵抗成分が存在することから、各MOSFETTSWに印加される電圧は等分配とはならない。すなわち、各スイッチ部100A、100Bにおいて、直列に接続されたMOSFETTSWのうち共通ポートCXに接続されたMOSFETTSW(すなわち、第1先頭MOSFETTSWおよび第2先頭MOSFETTSW)に印加される電圧が比較的大きくなる。そこで、各スイッチ部100A、100Bにおいて、直列に接続されたMOSFETTSWのうち共通ポートCXに接続されたMOSFETTSW(すなわち、第1先頭MOSFETTSWおよび第2先頭MOSFETTSW)のみにフィードフォワードキャパシタCFF1、CFF2を設けるだけで高周波スイッチ1の歪特性の劣化を効果的に防止することができるため、フィードフォワードキャパシタをさらに他のMOSFETTSWに設けることによるチップサイズの増加を抑えることができる。
本実施形態に係る高周波スイッチは次の効果を奏する。すなわち、共通ポートに共通に接続された各スイッチ部を構成するMOSFETのうち共通ポートに接続されたもののボディ端子とドレイン端子との間にキャパシタを接続する。これにより、オフポートのスイッチに共通ポート側から印加される送信信号をボディ端子にフィードフォワードさせ、前記寄生ダイオードが導通するのを防止することで高周波スイッチの歪特性の劣化を抑止することができる。
以上、本発明の実施形態に係る高周波スイッチについて説明したが、本発明の実施形態は供述した実施形態に限定されるものではない。すなわち、本発明の実施形態に係る高周波スイッチは、送受信方式の切り換えに伴いポートの切り換えを行なう送受信系のSP4T(Single Pole 4 Throw)スイッチによる高周波スイッチであってもよい。また、SPMP(Single Pole Multi Throw)スイッチおよびMPMT(Multi Pole Multi Throw)スイッチであってもよい。
また、各スイッチ部を構成するMOSFETはn型のMOSFETに限定されずp型のMOSFETであってもよい。
また、MOSFETはSOI基板に形成されるものに限定されず、SOI以外のシリコン基板(例えば、バルク基板)に形成されるものであってもよい。
また、各スイッチ部を構成するMOSFETの数は複数に限定されず、1つであってもよい。
また、各スイッチ部を構成するMOSFETのうちフィードフォワードキャパシタが接続されるものは1つに限定されず2以上であってもよい。
1 高周波スイッチ、
100A、100B スイッチ部、
110 アンテナ。

Claims (5)

  1. アンテナへ送信信号が出力される共通ポートと、
    前記送信信号が入力される送信ポートと、
    複数の前記送信ポートと前記共通ポートとの間にそれぞれ接続され、各送信ポートから前記共通ポートへの前記送信信号を導通または遮断する複数のスイッチ部と、を有し、
    前記スイッチ部はシリコン基板に形成された一以上のMOSFETを有し、前記MOSFETのうち前記共通ポートに接続された先頭MOSFETのボディ端子と前記共通ポートに接続された端子との間にキャパシタが接続され、
    前記キャパシタは、前記先頭MOSFETの前記共通ポートに接続されたドレイン端子と、前記先頭MOSFETのボディ端子との間のPN接合による寄生ダイオードが、前記先頭MOSFETの非導通時に、前記ドレイン端子に印加された電圧により導通しないように、前記ドレイン端子に印加された電圧を前記ボディ端子にフィードフォワードさせることを特徴とする高周波スイッチ。
  2. 前記スイッチ部はそれぞれ複数の前記MOSFETが直列に接続されてなり、前記MOSFETのうち前記アンテナに接続された前記MOSFETにのみ前記キャパシタが接続されたことを特徴とする請求項1に記載の高周波スイッチ。
  3. 前記MOSFETの前記ボディ端子にはそれぞれ抵抗器を介して基板電位が供給されることを特徴とする請求項1または2に記載の高周波スイッチ。
  4. 前記シリコン基板はSOI基板であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の高周波スイッチ。
  5. 前記シリコン基板はバルク基板であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の高周波スイッチ。
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