JP5811296B1 - 偏光素子の製造方法、その方法を用いて得られる偏光素子及びその偏光素子を備えた表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基板上に複数の偏光層をパターニングする簡易な方法を提供することである。また、前記方法で得られた偏光層が、寸法精度に優れ、塗布欠陥のない均一な膜となる方法を提供することである。【解決手段】以下の工程を有する、基板、偏光層及び保護層を含む偏光素子の製造方法により解決する。以下の工程を有する、基板、偏光層及び保護層を含む偏光素子の製造方法。(I)基板に偏光層形成用組成物を連続塗布して偏光層を形成し、次いで前記偏光層を塩交換により不溶化処理する工程。(II)前記不溶化処理された偏光層上に、感光性樹脂組成物を塗布して保護層を形成する工程。(III)保護層上にマスクを設け露光し、アルカリ溶液による現像を行うことにより、前記保護層及び不溶化処理された偏光層をパターニングする工程。【選択図】図２

Description

本発明は、液晶表示装置等に用いる偏光素子に関し、詳しくは基板上に形成する偏光層及びその保護層を含む偏光素子の製造方法に存する。

ＬＣＤ（液晶表示ディスプレイ）では、表示における旋光性や複屈折性を制御するために直線偏光板や円偏光板が用いられている。ＯＬＥＤ（有機ＥＬ素子）においても、外光の反射防止のために円偏光板が使用されている。従来、これらの偏光板（偏光素子）には、ヨウ素や二色性を有する有機色素をポリビニルアルコール等の高分子材料に溶解又は吸着させ、その膜を一方向にフィルム状に延伸してヨウ素や二色性を有する有機色素を配向させることにより得られる偏光層が広く使用されてきた。しかしながら、このようにして製造される従来の偏光層では、用いる色素や高分子材料によっては耐熱性や耐光性が十分でない、液晶装置製造時における偏光層の貼り合せの歩留まりが悪い等の問題があった。

これらの問題を解決するために、ガラスや透明フィルム等の基材上に二色性色素を含む溶液を、剪断力を加えつつ塗布することにより、二色性色素を配向させて偏光層を製造する方法が検討されている（特許文献１及び２）。

一方、１枚の基板母材から複数個の液晶セル用の基板を切り出すことが行われている。この場合、偏光層は所定のパターンに形状化(パターニング)したものを基板上に複数形成し、これを各々分割して基板として用いる。特許文献３には、基板上に塗布で設けた二色性色素を含む膜に、不溶化液をインクジェット法等で部分的に付与し洗浄することにより二色性色素を含む膜を所定のパターンに形状化したものを基板上に複数形成する方法が開示されている。

特表平８−５１１１０９号公報 特開２００８−６９３００号公報 特開２００４−３４８０４３号公報

１枚の基板母材から複数個の液晶セル用の基板を切り出す方法として、例えば間欠塗布方法を用いて所定のパターンのみを選択して、偏光層形成用組成物を塗布することも考えられる。しかし、１枚の基板母材から効率良く液晶セル用の基板を切り出すために間欠塗布の間隔が短くなると、偏光層形成用組成物の吐出制御が難しく塗布欠陥が生じ、光学的に均質な偏光層、ひいては光学的に均質な偏光素子が得られないという問題がある。

特許文献１及び２等に記載の方法を用いて基板母材全体に二色性色素を含む溶液を塗布する場合、所定のパターン形状以外の部分、つまり塗布不要の部分にまで塗布することになる。そのため、塗布後不要部分を削除する作業が必要であるが、この削除する作業について、パターン形状の精度や生産性の点で十分に検討はなされていない。

特許文献３のように不溶化液をインクジェット法等で部分的に付与し洗浄することにより所定のパターンに形状化したものを基板上に複数形成する方法は開示されているが、処理速度が遅く、大型の基板を用い多数のパターンを形成させるには不向きである。また、不溶化処理速度が遅いことから、不溶化液付与後の偏光層の洗浄までに時間を要し、偏光層上の不溶化液が乾燥することによる偏光層のひびや割れ等が発生しやすい傾向になる。また、不溶化液付与後の偏光層に保護層等を設ける場合、保護層を設ける工程及び保護層をパターン形成する工程等が必要となり、製造プロセスが複雑となる問題がある。

本発明は、前記のような技術的課題を解決するためになされたものであって、その目的
とするところは、基板上に複数の偏光層をパターニングする簡易な方法を提供すること
である。また、前記方法で得られた偏光層が、寸法精度に優れ、塗布欠陥のない均一な膜となる方法を提供することである。

本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、基板上に偏光層形成用組成物を連続塗布して成膜した偏光層を塩交換により不溶化処理をし、その上に感光性樹脂組成物で保護層を設け部分的に露光した後、アルカリ溶液による現像を行うことにより、未露光部分の感光性樹脂及び不溶化済の偏光層を、同時に洗浄及び剥離し、所望のパターン形状にパターニングできることを見出した。

即ち、本発明の要旨は以下の通りである。
[１]以下の工程を有する、基板、偏光層及び保護層を含む偏光素子の製造方法。
(I)基板に偏光層形成用組成物を連続塗布して偏光層を形成し、次いで前記偏光層を塩交換により不溶化処理する工程。
(II)前記不溶化処理された偏光層上に、感光性樹脂組成物を塗布して保護層を形成する工程。
(III)保護層上にマスクを設け露光し、アルカリ溶液による現像を行うことにより、前記保護層及び不溶化処理された偏光層をパターニングする工程。
[２]前記(III)工程で用いられるアルカリ溶液が、水酸化カリウム及び/又は水酸化テトラメチルアンモニウムを含むものである、 [１]に記載の偏光素子の製造方法。
[３]前記 (III)工程の後、下記(IV)工程を有するものである、[１] 又は[２]に記載の偏光素子の製造方法。
(IV)パターニングされた保護層を加熱によりメルトフローさせる工程。

本発明の偏光素子の製造方法によれば、簡易に基板上に複数の偏光層をパターニングすることができる。さらに、前記方法で得られた偏光層が、寸法精度に優れ、塗布欠陥のない均一な膜となることから、偏光性能に優れた偏光素子を得ることができる。

実施例１において得られた偏光素子１の写真である。 実施例１において得られた偏光素子１の端部の顕微鏡写真である。 偏光層のパターニングにおいて、偏光層を浸食させた状態を表す概略図である。 保護層をメルトフローさせた状態を表す概略図である。

以下に本発明を実施するための代表的な態様を具体的に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の態様に限定されるものではない。
本発明において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸とメタクリル酸の双方を含み、「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリロイル」等も同様の意味を表す。また、モノマー名の前に「（ポリ）」をつけたものは、該モノマー及び該ポリマーを意味する。

本発明は、基板、偏光層及び保護層を含む偏光素子の製造方法である。該製造方法は、少なくとも以下の工程を有する（以下、下記(I)の工程を「(I)工程」と表すことがある。また、(I)工程と同様に、「(II)工程」、「(III)工程」と表すことがある）。
(I)基板に偏光層形成用組成物を連続塗布して偏光層を形成し、次いで前記偏光層を塩交換により不溶化処理する工程。
(II)前記不溶化処理された偏光層上に、感光性樹脂組成物を塗布して保護層を形成する工程。
(III)保護層上にマスクを設け露光し、アルカリ溶液による現像を行うことにより、前記保護層及び不溶化処理された偏光層をパターニングする工程。

本発明の製造方法は、(I)〜(III)工程を有しており、(I)工程→(II)工程→(III)工程の順で実施されれば特に限定されず、それぞれの工程の間に、その他の工程を有していてもよい。例えば、(I)工程と(II)工程の間に他の工程を有していてもよい。

（偏光素子）
本発明の偏光素子は、基板面に連続塗布により得られた偏光層及び偏光層上に設けられた保護層を含むものである。また、偏光素子は偏光層及び保護層だけに限られず、偏光性能を向上させる、機械的強度を向上させる等の目的で他の層を有していてもよい。
また、本発明におけるパターンとは、基板上に面付けされた偏光層の形状パターンを表し、パターニングとはパターンを形成させることを表す。又、輪郭部とは、偏光層のパターンの外周部を指す。なお、本発明におけるパターニングは、１枚の基板母材から複数個の液晶セル用の基板を切り出すにあたっての偏光層の区画を意図したものであるが、これに限定されるものではない。

本発明の基板としては、特に限定されるものではないが、良好な表面性状、接触角特性及び吸水特性を有する基板であることが好ましい。そのような基板を形成する 基材としては、例えば、ガラス等の無機材料と高分子材料が挙げられる。高分子材料としては、トリアセテート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、トリアセチルセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂、環状ポレオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ウレタン系樹脂等が挙げられる。これらは１種を単独で、又は２種以上を併用してもよい。特に、高分子材料を含有する基材を含むことが好ましい。
基板の吸水率としては、通常５％以下、好ましくは３％以下、より好ましくは１％以下である。吸水率が過度に大きくないことで、湿式成膜法にて異方性偏光材料の膜を形成する際の基板が吸湿を抑制するため、基板の反りによる塗布欠陥が発生し難い傾向にある。また、塗布法にて偏光層が形成された後の基板の膨潤も抑制することができるため、光学欠陥が発生し難い傾向がある。なお、本実施の形態における「吸水率」とは、ＡＳＴＭ Ｄ５７０の試験方法を用い、２３℃の水に４時間浸漬させたときの重量変化率を測定した値である。

基板の偏光層が形成される面には、偏光層に含まれる色素等の異方性偏光材料をよりよく一定方向に配向させる観点から、予め配向膜等を設けることができる。配向膜の形成方法については「液晶便覧」（丸善株式会社、平成１２年１０月３０日発行）２２６頁〜２３９頁等に記載の公知の方法によることができる。また、基板の形状としては、一定寸法のフィルム状（枚葉状）であってもよいし、連続フィルム状（帯状）であってもよい。また、基板の膜厚としては、通常、０．０１ｍｍ〜３ｍｍ、好ましくは０．０２ｍｍ〜２ｍｍである。

基板の全光線透過率としては、通常８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは９０％以上である。 なお、本実施の形態における「全光線透過率」とは、積分球色測定装置を使用して測定されるもので、拡散透過光と平行光線透過光とをあわせた値である。

＜(I)工程＞
本発明の製造方法は、(I)工程として、基板に偏光層形成用組成物を連続塗布して偏光層を形成し、次いで前記偏光層を塩交換により不溶化処理する工程を有する。
（偏光層）
偏光層とは、膜の厚み方向及び任意の直交する面内２方向の立体座標系における合計３方向から選ばれる任意の２方向における電磁気学的性質に、異方性を有する光学膜である。電磁気学的性質としては、吸収、屈折等の光学的性質が挙げられる。

（偏光材料及び偏光層形成用組成物）
本発明の偏光層に用いられる偏光材料は、前記異方性を発現する材料であれば特に限定されない。また、基板上に湿式塗布で偏光層を作製することから、偏光材料及び溶剤を含む組成物（以下、偏光層形成用組成物と表す事がある。）であることが好ましい。
偏光層形成用組成物の態様としては、溶液状であってもよいし、ゲル状であってもよく、偏光材料が溶剤中に分散している状態であってもよい。また、これら以外にも必要に応じ、バインダー樹脂、モノマー、硬化剤、添加剤等を含んでいてもよい。

ここで、偏光層形成用組成物は、組成物として液晶相の状態であることが、溶剤が蒸発した後に形成される偏光層を高配向度に形成する観点から好ましい。なお、本実施の形態において、液晶相の状態であるとは、『液晶の基礎と応用』（松本正一・角田市良著、１９９１）の１〜１６ページに記載されている状態のことをいう。特に３ページに記載されているネマティック相が好ましい。 ここで、偏光材料としては、異方性を有する偏光層
を形成できるものであればよく、色素等が挙げられる。

（色素）
本発明の色素としては、二色性色素が用いられる。また、色素は、配向制御のため液晶相を有する色素であることが好ましい。ここで、液晶相を有する色素とは、溶剤中でリオトロピック液晶性を示す色素を意味する。本発明で用いられるリオトロピック液晶性を示す色素としては、塗布により偏光層を形成するために、水や有機溶媒に可溶であることが好ましく、特に水溶性であることが好ましい。さらに好ましいものは、「有機概念図−基礎と応用」（甲田善生著、三共出版、１９８４年）で定義される無機性値が有機性値よりも小さな化合物である。なお、水溶性とは、室温で色素が水に、通常０．１重量％以上、好ましくは１重量％以上溶解することをいう。
本発明の色素は、塩型をとらない遊離の状態で、その分子量が２００以上であるのが好ましく、３００以上であるのが特に好ましい。また、１５００以下であるのが好ましく、１２００以下であるのが特に好ましい。
また、本発明のリオトロピック液晶性を示す色素は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

色素として、具体的には、アゾ系色素、スチルベン系色素、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、縮合多環系色素（ペリレン系、オキサジン系）等が挙げられる。これら色素の中でも、偏光層中で高い分子配列を取り得るアゾ系色素が好ましい。アゾ系色素とは、アゾ基を少なくとも１個以上持つ色素をいう。その一分子中のアゾ基の数は、色調及び製造面の観点から、２以上が好ましく、６以下が好ましく、４以下がさらに好ましい。本発明に用いられる色素は特に限定されず、公知の色素を用いることができる。

色素としては、例えば、特開２００６−０７９０３０号公報、特開２０１０−１６８５７０号公報、特開２００７−３０２８０７号公報、特開２００８−０８１７００号公報、特開平０９−２３０１４２号公報、特開２００７−２７２２１１号公報、特開２００７−１８６４２８号公報、特開２００８−６９３００号公報、特開２００９−１６９３４１号公報、特開２００９−１６１７２２号公報、特開２００９−１７３８４９号公報、特開２０１０−０３９１５４号公報、特開２０１０−１８０３１４号公報、特開２０１０−２６６７６９号公報、特開２０１０−０３１２６８号公報、特開２０１１−０１２１５２号公報、特開２０１１―０１６９２２号公報、特開２０１０−１０００５９号公報、特開２０１１−１４１３３１号公報、特開２０１１−１９０３１３号公報、特表平０８−５１１１０９号公報、特表２００１−５０４２３８号公報、特開２００６−４８０７８号公報、特開２００６−９８９２７号公報、特開２００６−１９３７２２号公報、特開２００６−２０６８７８号公報、特開２００５−２５５８４６号公報、特開２００７−１４５９９５号公報、特開２００７−１２６６２８号公報、特開２００８−１０２４１７号、特開２０１２−１９４３５７号公報、特開２０１２−１９４２９７号公報、特開２０１１−０３４０６１号公報、特開２００９−１１０９０２号公報、特開２０１１−１０００５９号公報、特開２０１２−１９４３６５号公報、特開２０１１−０１６９２０号公報等に記載の色素が挙げられる。

本発明に用いられる色素は、遊離酸の形のまま使用してもよく、酸基の一部が塩型を取っているものであってもよい。また、塩型の色素と遊離酸型の色素が混在していてもよい。
製造時に色素が塩型で得られた場合はそのまま使用してもよいし、所望の塩型に変換してもよい。塩型の交換方法としては、公知の方法を任意に用いることができ、例えば以下の方法が挙げられる。

１）塩型で得られた色素の水溶液に塩酸等の強酸を添加し、色素を遊離酸の形で酸析せしめた後、所望の対イオンを有するアルカリ溶液（例えば水酸化リチウム水溶液）で色素酸性基を中和し塩交換する方法。
２）塩型で得られた色素の水溶液に、所望の対イオンを有する大過剰の中性塩（例えば、塩化リチウム）を添加し、塩析ケーキの形で塩交換を行う方法。
３）塩型で得られた色素の水溶液を、強酸性陽イオン交換樹脂で処理し、色素を遊離酸の形で酸析せしめた後、所望の対イオンを有するアルカリ溶液（例えば水酸化リチウム水溶液）で色素酸性基を中和し塩交換する方法。
４）予め所望の対イオンを有するアルカリ溶液（例えば水酸化リチウム水溶液）で処理した強酸性陽イオン交換樹脂に、塩型で得られた色素の水溶液を作用させ、塩交換を行う方法。

また、本発明に用いられる色素が有する酸性基が、遊離酸型となるか塩型となるかは、色素のｐＫａと色素水溶液のｐＨに依存する。前記の塩型の例としては、Ｎａ、Ｌｉ、Ｋ等のアルカリ金属の塩、アルキル基又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウムの塩、有機アミンの塩等が挙げられる。
有機アミンの例として、炭素数１〜６の低級アルキルアミン、ヒドロキシ置換された炭素数１〜６の低級アルキルアミン、カルボキシ置換された炭素数１〜６の低級アルキルアミン等が挙げられる。
これらの塩型の場合、その種類は１種類に限らず複数種混在していてもよい。また、本発明において、色素は単独で使用することができるが、これらの２種以上を併用してもよく、また、配向を低下させない程度に前記例示色素以外の色素を配合して用いることもできる。これにより各種の色相を有する偏光層を製造することができる。

他の色素を配合する場合の配合用色素の例としては、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｙｅｌｌｏｗ １２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｙｅｌｌｏｗ ３４、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＹｅｌｌｏｗ ８６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｙｅｌｌｏｗ １４２、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＹｅｌｌｏｗ １３２、Ｃ．Ｉ．Ａｃｉｄ Ｙｅｌｌｏｗ ２５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｏｒａｎｇｅ ３９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｏｒａｎｇｅ ７２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｏｒａｎｇｅ ７９、Ｃ．Ｉ．Ａｃｉｄ Ｏｒａｎｇｅ ２８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ３９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ７９、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＲｅｄ ８１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ８３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ８９、Ｃ．Ｉ．Ａｃｉｄ Ｒｅｄ ３７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｖｉｏｌｅｔ ９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｖｉｏｌｅｔ ３５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｖｉｏｌｅｔ ４８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｖｉｏｌｅｔ ５７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ １、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ ６７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ ８３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ ９０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｇｒｅｅｎ ４２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｇｒｅｅｎ ５１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｇｒｅｅｎ ５９等が挙げられる。

（偏光層形成用組成物の溶剤）
溶剤としては、水、水混和性のある有機溶剤又はこれらの混合物が適している。有機溶剤の具体例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、グリセリン等のアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール等のグリコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類等が挙げられる。これらは、単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。

（偏光層形成用組成物中の偏光材料の濃度）
偏光層形成用組成物中の偏光材料の濃度としては、偏光層の成膜条件にもよるが、好ましくは０．０１重量％以上、更に好ましくは０．１重量％以上であり、好ましくは５０重量％以下、更に好ましくは３０重量％以下である。偏光材料濃度が前記範囲であることで、均一な薄膜塗布ができる偏光層形成用組成物の粘度が得られ、且つ偏光材料が析出しない傾向にある。また、偏光層において十分な二色比等の異方性を得られる傾向にある。

（偏光層形成用組成物の添加剤）
偏光層形成用組成物には、さらに必要に応じて、界面活性剤、レベリング剤、カップリング剤、ｐＨ調整剤等の添加剤を配合することができる。添加剤により、濡れ性、塗布性等を向上させ得る場合がある。
界面活性剤としては、アニオン性、カチオン性及びノニオン性のいずれも使用可能である。その添加濃度は、特に限定されるものではないが、偏光層形成用組成物中の濃度として、通常０．０５重量％以上、０．５重量％以下が好ましい。この範囲であることで、界面活性剤の添加効果が得られ、且つ、色素分子の配向を阻害しない傾向にある。
偏光層形成用組成物中での偏光材料の造塩や凝集等の不安定性を抑制する等の目的のために、公知の酸／アルカリ等のｐＨ調整剤等を、偏光層形成用組成物の構成成分の混合の前後或いは混合中のいずれかで添加してもよい。なお、前記以外の添加剤として“Ａｄｄｉｔｉｖｅ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇ”， Ｅｄｉｔｅｄ ｂｙ Ｊ．Ｂｉｅｌｅｍａｎ，Ｗｉｌｌｅｙ−ＶＣＨ（２０００）に記載の公知の添加剤を用いることもできる。

（偏光層の塗布方法）
本発明の偏光層の塗布方法は連続塗布であれば特に限定されない。本発明において連続塗布とは、パターンごとの間欠塗布ではなく、複数のパターン（区画）になるべき領域を連続で塗布することを指す。基板上に複数のパターンを設ける場合でも、１回で連続塗布でき、複数のパターンごとに分けて塗布する必要はない。
偏光層形成用組成物を連続塗布し、偏光層を形成する方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、原崎勇次著「コーティング工学」（株式会社朝倉書店、１９７１年３月２０日発行）２５３頁〜２７７頁に記載の方法、市村國宏監修「分子協調材料の創製と応用」（株式会社シーエムシー出版、１９９８年３月３日発行）１１８頁〜１４９頁に記載の方法、スロットダイコート法、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ロールコート法、ブレードコート法、カーテンコート法、ファウンテン法、ディップ法等で塗布する方法が挙げられる。中でも、スロットダイコート法が、均一性の高い異方性偏光層が得られる傾向にあるため好ましい。

偏光層形成用組成物を塗布する際の、偏光層形成用組成物の供給方法、供給間隔は特に限定されない。塗布液の供給操作が繁雑になったり、塗布液の開始時と停止時に塗布膜厚の変動を生じてしまったりする場合があるため、偏光層の膜厚が薄い時には、特に連続的に偏光層形成用組成物を供給しながら塗布することが望ましい。

偏光層形成用組成物を塗布する速度としては、通常１ｍｍ／秒以上であり、好ましくは５ｍｍ／秒以上である。また、通常１０００ｍｍ／秒以下であり、好ましくは８００ｍｍ／秒以下である。塗布速度が前記範囲であることで、偏光層の異方性を得ながら、均一に塗布できる傾向にある。
なお、偏光層形成用組成物の塗布温度としては、通常０℃以上、８０℃以下であり、好ましくは４０℃以下である。また、偏光層形成用組成物の塗布時の湿度は、好ましくは１０％ＲＨ以上、さらに好ましくは３０％ＲＨ以上であり、一方、好ましくは８０ＲＨ％以下である。

（不溶化処理）
本発明において、基板上に偏光層を形成した後に、塩交換によって偏光層を不溶化処理する。本発明の不溶化とは、偏光層中の色素の溶解性を低下させることにより該偏光層からの色素の溶出を抑制し、偏光層の安定性を高める処理工程を意味する。 具体的には、例えば、少ない価数のイオンをそれより大きい価数のイオンに置き換える（例えば、１価のイオンを多価のイオンに置き換える）処理が挙げられる。
不溶化処理後において、偏光層の色素の水に対する溶解度が１質量％以下であることが好ましく、０．８質量％以下であることが、偏光層の安定性の点から好ましい。

（不溶化液）
本発明の不溶化に用いる不溶化液は、特に限定されない。例えば、特開２００７−２４１２６７号公報、特開２００９−１９９０７５号公報、特開２０１０−４４１３０号公報、特開２０１０−１９７７６０号公報、特開２０１１−２５７４８９号公報、特開２０１２−０５８４２７号公報等に記載の不溶化液等を用いることができる。

本発明に用いられる不溶化液のｐＨは特に限定されないが、陽イオン交換の原理からイオン交換に寄与するカチオン濃度がある一定濃度以上でなくてはならない。このため材料に依存する、ある特定のｐＨより酸性側である必要がある場合がある。また、不溶化液の色調も特に制限されるものではないが、基本的には偏光度に影響を与えない無色、淡色である方が好ましい。

本発明に用いられる不溶化液は特に限定されず、不溶化化合物と溶媒を含むことが好ましい。不溶化化合物及び溶媒は１種でもよく、複数用いてもよい。
不溶化化合物としては、スルホ基、カルボキシ基、ホスホン基及びホスフィン酸基と塩を形成する多価のイオンを有するものが好ましい。具体的にはＭｇ、Ｃａ等の無機塩、ポリアミン系化合物、カチオン性基を有するポリマー及び不溶化液中において金属イオンとなる化合物の混合物等が挙げられる。この中でもポリアミン系化合物が不溶化後の偏光層のクラック低減のため好ましい。

ポリアミン系化合物とは、その分子内に２以上のアミノ基を有する化合物をいう。またポリアミン系化合物一分子が有するアミノ基の数としては、通常２以上、また、その上限は、通常２０以下、好ましくは１０以下である。アミノ基の数が適当な範囲であることで、ポリアミン系化合物が偏光層内に拡散し、偏光層を不溶化できる傾向にある。
ポリアミン系化合物としては、脂肪族ポリアミン系化合物及び芳香族ポリアミン系化合物が挙げられる。中でも、脂肪族ポリアミン系化合物が好ましい。

脂肪族ポリアミン系化合物の具体例としては、ジアミノヘキサン、ジアミノデカン等のジアミノアルカン化合物；１，４−シクロヘキサンジアミン等のジアミノシクロヘキサン；４，４’−メチレンビスシクロヘキシルアミン等のジアミノシクロアルカン化合物；ジエチレントリアミン、ペンタエチレンヘキサミン、ビス（ヘキサメチレン）トリアミン等のポリエチレンポリアミン化合物；等が挙げられる。中でも、ポリエチレンポリアミン化合物が好ましく、ビス（ヘキサメチレン）トリアミンが特に好ましい。
芳香族ポリアミン系化合物の具体例としては、ジアミノベンゼン、キシリレンジアミン等が挙げられる。中でも、ジアミノベンゼンが好ましい。

カチオン性基を有するポリマーは、カチオン性基を主鎖又は側鎖に有するポリマーである。カチオン性基は、例えば、アミノ基；メチルアミノ基、エチルアミノ基等のモノアルキルアミノ基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミノ基；グアニジノ基；イミノ基；アンモニウム塩基；環の一部に窒素原子を有する基等が挙げられる。また、カチオン性ポリマーは、１種単独で、又は２種類以上を併用してもよい。
不溶化液に含まれる金属イオンは、１価の金属イオンでもよいが、好ましくは多価金属イオンである。多価金属イオンは、アルカリ土類金属イオン又は遷移金属イオンが挙げられる。これらの金属イオンは、該金属イオンを有する化合物を、適当な溶媒に溶解させることによって液中に生じる。上記金属イオンを有する化合物としては、塩化バリウム、塩化鉛、塩化鉄、塩化マグネシウム、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム等の多価金属塩な等が挙げられる。
上記のカチオン性基を有するポリマー及び金属イオンは、具体的には、特開２０１０−４４１３０号公報等に挙げられているものを用いることができる。

不溶化液の溶媒としては、イオンを溶解する極性溶媒であることが好ましい。具体的には水、イオン液体等が挙げられる。この中でも水が経済性及び安全性の観点で好ましい。
不溶化液中の不溶化化合物の量はイオン交換能を持つ限り特に制限されないが、不溶化化合物及び溶媒の種類、２５℃における不溶化液の粘度等に合わせ適宜調整することができる。好ましくは飽和濃度の１０％以上であり、更に好ましくは飽和濃度の２０％以上である。また、好ましくは飽和濃度（１００％）以下であり、更に好ましくは飽和濃度の９０％以下である。この範囲にすることで不必要な不溶化化合物の析出を抑制し、かつ不溶化反応を速やかに行うことができる傾向がある。

（不溶化液の添加剤）
本発明の不溶化液は、増粘剤、保湿剤、界面活性剤等の添加剤を含んでいてもよい。また、不溶化液中の添加剤の量は、添加剤、不溶化化合物、溶媒の種類等に合わせ適宜調整することができる。

本発明の不溶化液の調整方法は特に限定されない。例えば、前記不溶化化合物を前記濃度範囲となるように溶媒と混合し、必要に応じて撹拌等を行って溶媒に溶解させればよい。また、必要に応じて用いられる添加剤をそれぞれ前記濃度範囲となるように、溶媒に混合してもよい。なお、混合の時期、順番等も任意である。

（不溶化方法）
偏光層を不溶化する方法は特に限定されず、浸漬法；偏光層の上方から不溶化液を供給する方法；スプレー、カーテンコート、ロールコート、ディッピングコート、フローティングコート、吹き出しコート等により不溶化液を塗布する方法；等が挙げられる。本発明の偏光層は非常に薄く、物体との接触によりはがれ等が発生しやすい傾向にある。そのため、偏光層の偏光性能の低下、膜の剥離等の欠損を抑制できる方法を用いることが好ましい。

（不溶化後の洗浄）
不溶化後の偏光層は洗浄することが好ましい。洗浄する方法は特に限定されず、ディッピング、偏光層の上方から洗浄液を供給する流水洗浄、超音波洗浄等を用いることができる。また、洗浄中に特定周波数で搖動する等洗浄を促進する効果を加えてもよい。あるいは、これらの方法を複数組み合わせて洗浄することも可能である。
前記の中でも、ディッピングが偏光層の剥離や欠陥の原因となる不要な力を加えない点において好ましい。
洗浄液は特に限定されず、具体的には、純水、純水にメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコールを添加した液体等を使用してもよい。これらは洗浄性を高めるために洗浄助剤や界面活性剤等の洗浄性を制御する添加物を含んでいてもよい。

洗浄液の温度は特に限定されないが、偏光層のひび割れ抑制の観点から低い方が好ましく、好ましくは３０℃以下、さらに好ましくは２０℃以下が好ましい。
洗浄液のｐＨは洗浄性を考慮の上、硫酸、塩酸、硝酸等の無機酸及び酢酸、シュウ酸、クエン酸等の有機酸を用いて酸性に調整してもよく、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸塩、リン酸塩、その他のアルカリ性化合物等を用いてアルカリ性に調整してもよい。

洗浄後の偏光層の乾燥方法は特に限定されず、風乾、エアーブロー乾燥、真空乾燥、加熱乾燥等が挙げられる。これらの中でも偏光層のひび割れ抑制の観点から、風乾及びエアーブロー乾燥を用いることが好ましい。また、これらの乾燥を組み合わせてもよい。

＜(II)工程)＞
本発明は、(II)工程として、(I)工程にて不溶化した偏光層上に、感光性樹脂組成物を連続塗布して保護層を形成する工程を有する。
（保護層）
本発明の保護層は、偏光層をその後のプロセスや素子作成後の刺激や衝撃等から保護する目的で形成されるものであるが、同時に偏光層の不要部分を除去してパターニングするためのレジストとしての役割も果たす。
本発明の保護層は、偏光層上に感光性樹脂組成物を連続塗布することで形成されたものであれば特に限定さないが、光学異方性を有さないものが、偏光層の性能を阻害しないため好ましい。本発明における光学異方性とは、保護層の厚み方向及び任意の直行する面内２方向の立体座標系における合計３方向から選ばれる任意の２方向における電磁気学的性質に異方性を有することである。
本発明の保護層は、偏光層の光学特性を損なわないことから、保護層の厚み５００nmにおける５５０nmの光線透過率が８０％以上であること好ましく、更に好ましくは８５％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。上限は特になく、高い方が好ましい。

（感光性樹脂組成物）
本発明の保護層を形成するために用いる感光性樹脂組成物は、感光性樹脂を含有する。感光性樹脂組成物は、光の照射によって現像液への溶解性が変化するものであれば特に限定されず、光の照射によって架橋反応や重合反応を起こして硬化するネガ型感光性樹脂組成物が好ましい。
この他、本発明の感光性樹脂組成物は、重合開始剤、増感色素等の増感剤、加速剤、各種硬化剤、熱硬化性樹脂、界面活性剤、密着性向上剤、レべリング剤、有機溶剤等を含んでいてもよい。

（感光性樹脂）
本発明の感光性樹脂組成物に用いられる感光性樹脂は特に限定されないが、例えばラジカル重合性不飽和基含有化合物、カチオン重合性基含有化合物等が挙げられる。

（ラジカル重合性不飽和基含有化合物）
本発明のラジカル重合性不飽和基含有化合物は、分子内にエチレン性不飽和基を少なくとも１個有する化合物である。エチレン性不飽和基は、反応性の点より、アリル基又は（メタ）アクリロイル基であることが好ましい。

ラジカル重合性不飽和基含有化合物として、例えば、不飽和カルボン酸とポリヒドロキシ化合物とのエステル類、ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物とのウレタン（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリル酸又はヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物とポリエポキシ化合物とのエポキシ（メタ）アクリレート類等が挙げられる。
具体的には、東亜合成社のアロニックスシリーズ、新中村化学社のＮＫシリーズ、日本油脂社のブレンマーシリーズ、共栄社化学社のライトアクリレートシリーズ、大阪有機社のビスコートシリーズ等が挙げられる。

（カチオン重合性基含有化合物）
本発明のカチオン重合性基含有化合物としては、エポキシ基含有化合物、オキセタニル基含有化合物、ビニル基含有化合物等が挙げられる。
中でもエポキシ基含有化合物が好ましい。例えば、三菱化学社のＪＥＲシリーズや、ダイセル社のセロキサイドシリーズ、新日鉄住金化学社のエポトートシリーズ、日本化薬社のＮＣ−、ＸＤ−、ＥＰＰＮ−、ＥＯＣＮ−等のシリーズ、ＤＩＣ社のＥＰＩＣＬＯＮ等が挙げられる。また、この他にも、グリシジルメタクリレート等のエチレン性不飽和基含有化合物を共重合させた樹脂等も好適に用いることができる。
オキセタニル基含有化合物としては、東亜合成社のＯＸＴシリーズや、大阪有機社のＯＸＥ−１０や３０、それらを用いた共重合樹脂等が挙げられる。

（熱可塑性樹脂）
本発明の偏光素子の製造方法において、後述する（V）工程を有する場合には、感光性樹脂組成物は熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。熱可塑性樹脂としては、アクリル樹脂、ノボラック樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル、ナイロン、ポリイミド、ポリカーボネート、それらの誘導体等が挙げられる。なお、これら樹脂には、重合性基や架橋性基が付与されていてもよい。

本発明の熱可塑性樹脂は、（V）工程で実施する加熱時の温度で軟化する樹脂であれば特に制限されないが、他の成分との親和性や塗布溶剤への溶解性の点で、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ノボラック樹脂等が好ましい例として挙げられる。なお、これらの樹脂にはラジカル重合性不飽和基、カチオン重合性基、その他の架橋基等が導入されていてもよく、その場合、前記のラジカル重合性不飽和基含有化合物及び/又はカチオン重合性基含有化合物の役割も兼ね備えることが出来る。

ラジカル重合性不飽和基含有化合物と熱可塑性樹脂を兼ね備えた樹脂としては、例えば日本化薬社のＺＡＲ、ＺＣＲ、ＣＣＲ等のエポキシアクリレート樹脂、グリシジル（メタ）アクリレート等を共重合成分として重合させた樹脂を（メタ）アクリル酸等で開環させた樹脂等が挙げられる。
カチオン重合性基含有化合物と熱可塑性樹脂を兼ね備える樹脂としては、例えば日本化薬社のＮＣ、ＥＯＣＮ、ＸＤ、ＥＰＰＮ等のノボラックエポキシ樹脂、グリシジル（メタ）アクリレート及び（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル（メタ）アクリレート等を共重合成分として重合させた樹脂等が挙げられる。

（重合開始剤）
本発明の感光性樹脂組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、熱ラジカル重合開始剤、熱カチオン重合開始剤等が挙げられる。これらの中でも、光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤を用いること保護層の硬化容易性の点から好ましい。

（光ラジカル重合開始剤）
本発明の感光性樹脂組成物に好適に用いられる光ラジカル重合開始剤は、特に限定されない。例えば、特開昭５９−１５２３９６号公報、特開昭６１−１５１１９７号各公報等に記載のチタノセン化合物を含むメタロセン化合物；特開２０００−５６１１８号公報等に記載のヘキサアリールビイミダゾール誘導体；特開平１０−３９５０３号公報等に記載のハロメチル化オキサジアゾール誘導体；ハロメチル−ｓ−トリアジン誘導体；Ｎ−フェニルグリシン等のＮ−アリール−α−アミノ酸類；Ｎ−アリール−α−アミノ酸塩類；Ｎ−アリール−α−アミノ酸エステル類等のラジカル活性剤；α−アミノアルキルフェノン誘導体；特開２０００−８００６８号公報、特開２００６−３６７５０号公報等に記載のオキシムエステル誘導体；等が挙げられる。
これらの中でも、オキシムエステル誘導体類及び／又はα−アミノアルキルフェノン誘導体類が比較的薄い膜でも感度を確保し易いため好ましい。

オキシムエステル誘導体類としては例えば、特開２０００−８００６８号公報、特開２００６−３６７５０号公報等に記載されているオキシム及びケトオキシムエステル系化合物が挙げられる。
α−アミノアルキルフェノン誘導体類としては、例えば２−メチル−１〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、４−ジメチルアミノエチルベンゾエ−ト、４−ジメチルアミノイソアミルベンゾエ−ト、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、２−エチルヘキシル−１，４−ジメチルアミノベンゾエート、２，５−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、７−ジエチルアミノ−３−（４−ジエチルアミノベンゾイル）クマリン、４−（ジエチルアミノ）カルコン等が挙げられる。

（光カチオン重合開始剤）
本発明の感光性樹脂組成物に好適に用いられる光カチオン重合開始剤は、可視光線、紫外線等の照射によってカチオン種又はルイス酸を発生し、カチオン硬化性成分の重合反応を開始するものである。
光カチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、鉄−アレーン錯体等が挙げられる。これらの中でも、硬化性の点で芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩が好ましい。また、画像表示装置中で感光性樹脂層に隣接する液晶層の電気信頼性を確保するためには、芳香族ヨードニウム塩が特に好ましい。

芳香族ヨードニウム塩は、ジアリールヨードニウムカチオンを有する化合物であり、芳香族スルホニウム塩は、トリアリールスルホニウムカチオンを有する化合物である。これらカチオンは、アニオン（陰イオン）と対になって光カチオン重合開始剤を構成する。
光カチオン重合開始剤を構成するアニオンとしては、ヘキサフルオロホスフェートアニオンＰＦ6-、ヘキサフルオロアンチモネートアニオンＳｂＦ6-、ペンタフルオロヒドロキシアンチモネートアニオンＳｂＦ5(ＯＨ)-、ヘキサフルオロアーセネートアニオンＡｓＦ6-、テトラフルオロボレートアニオンＢＦ4-、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートアニオンＢ(Ｃ6Ｆ5)4-等が挙げられる。中でも、画像表示装置中で感光性樹脂層に隣接する液晶層の電気信頼性を確保するためには、感度はあまり高いとは言えないものの、ヘキサフルオロホスフェートアニオンＰＦ6-感度芳香族ヨードニウム塩が好ましい。

芳香族スルホニウム塩としては、例えばサンアプロ社のＣＰＩ−１００Ｐ、ＣＰＩ−１０１Ａ、ＣＰＩ−２００Ｋ、ＣＰＩ−２１０Ｓ、ＡＤＥＫＡ社のアデカオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７１等が具体例として挙げられる。

芳香族ヨードニウム塩としては、ソルベイジャパン社のＰＨＯＴＯＩＮＩＴＩＡＴＯＲ２０７４、ＢＡＳＦジャパン社のＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０、日本曹達社のＣＩ−５１０２、和光純薬社のＷＰＩ−１１３、ＷＰＩ−１１６等が具体例として挙げられる。

（感光性樹脂及び重合開始剤の組み合わせ）
本発明の感光性樹脂及び重合開始剤の組み合わせは特に限定されないが、光ラジカル重合開始剤及びラジカル重合性不飽和基含有化合物の組み合わせ、カチオン重合性基含有化合物及び光カチオン重合開始剤の組み合わせ、さらにこれら組合せを併用した系等が光硬化性の確保の点から好ましい。

（感光性樹脂組成物の溶剤）
本発明の感光性樹脂組成物に用いる溶剤は、偏光層に対して悪影響を与えないものであれば特に限定されないが、塗布後乾燥をする必要があるため、沸点（圧力１０１３．２５［ｈＰａ］条件下。以下、沸点に関しては全て同様。）が１００〜３００℃の範囲のものを選択するのが好ましい。より好ましくは１２０〜２８０℃の沸点をもつ有機溶剤である。

有機溶剤としては、グリコールモノアルキルエーテル類、グリコールジアルキルエーテル類、グリコールアルキルエーテルアセテート類、アルキルアセテート類、エーテル類、ケトン類、１価又は多価アルコール類、脂肪族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、脂環式炭化水素類、芳香族炭化水素類、鎖状又は環状エステル類、アルコキシカルボン酸類、ハロゲン化炭化水素類、エーテルケトン類、ニトリル類等が挙げられる。
これらの中でも、塗布性、表面張力等のバランスがよく、感光性樹脂組成物中の構成成分の溶解度が比較的高い点から、グリコールアルキルエーテルアセテート類が好ましい。また、有機溶剤は単独でも、２種以上を併用してもよい。

有機溶剤として、例えば以下が挙げられる。
（グリコールモノアルキルエーテル類）
グリコールモノアルキルエーテル類としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコール−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、メトキシメチルペンタノール、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル等が挙げられる。

（グリコールジアルキルエーテル類）
グリコールジアルキルエーテル類としては、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。

（グリコールアルキルエーテルアセテート類）
グリコールアルキルエーテルアセテート類としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート等が挙げられる。

（グリコールジアセテート類）
グリコールジアセテート類としては、エチレングリコールジアセテート、１，３−ブチレングリコールジアセテート、１，６−ヘキサノールジアセテート等が挙げられる。

（アルキルアセテート類）
アルキルアセテート類としては、シクロヘキサノールアセテート等が挙げられる。

（エーテル類）
エーテル類としては、アミルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジアミルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジヘキシルエーテル等が挙げられる。

（ケトン類）
ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソアミルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルアミルケトン、メチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルノニルケトン、メトキシメチルペンタノン等が挙げられる。

（１価又は多価アルコール類）
１価又は多価アルコール類としては、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、メトキシメチルペンタノール、グリセリン、ベンジルアルコール等が挙げられる。

（脂肪族炭化水素類）
脂肪族炭化水素類としては、ｎ−ペンタン、ｎ−オクタン、ジイソブチレン、ｎ−ヘキサン、ヘキセン、イソプレン、ジペンテン、ドデカン等が挙げられる。

（脂環式炭化水素類）
脂環式炭化水素類としては、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキセン、ビシクロヘキシル等が挙げられる。

（芳香族炭化水素類）
芳香族炭化水素類としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等が挙げられる。

（鎖状又は環状エステル類）
鎖状又は環状エステル類としては、アミルホルメート、エチルホルメート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸アミル、メチルイソブチレート、エチレングリコールアセテート、エチルプロピオネート、プロピルプロピオネート、酪酸ブチル、酪酸イソブチル、イソ酪酸メチル、エチルカプリレート、ブチルステアレート、エチルベンゾエート、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。

（アルコキシカルボン酸類）
アルコキシカルボン酸類としては、３−メトキシプロピオン酸、３−エトキシプロピオン酸等が挙げられる。

（ハロゲン化炭化水素類）
ハロゲン化炭化水素類としては、ブチルクロライド、アミルクロライド等が挙げられる。
（エーテルケトン類）
エーテルケトン類としては、メトキシメチルペンタノン等が挙げられる。
（ニトリル類）
ニトリル類としては、アセトニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられる。

前記に該当する市販の溶剤としては、ミネラルスピリット、バルソル＃２、アプコ＃１８ソルベント、アプコシンナー、ソーカルソルベントＮｏ．１、ソーカルソルベントＮｏ．２、ソルベッソ＃１５０、シェルＴＳ２８ ソルベント、カルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート、ジグライム（いずれも商品名）等が挙げられる。

本発明の感光性樹脂組成物に溶剤を用いる場合には、全固形分の含有率を３重量％以上とすることが好ましく、５重量％以上とすることがより好ましい。一方、３０重量％以下にすることが好ましく、２０重量％以下にすることがより好ましい。前記下限値以上とすることで保護層の膜厚の制御を容易にすることが出来る傾向にあり、前記上限値以下とすることで、感光性樹脂組成物のポットライフを維持し易くなる傾向にある。

（感光性樹脂組成物の調製）
本発明の感光性樹脂組成物の調製方法は特に限定されないが、例えば、前記の各成分を溶剤と共に混合し、撹拌や超音波印加により、溶解又は分散させることにより、調製することができる。なお、感光性樹脂組成物を調製する時に、ラジカル重合性不飽和基含有化合物やカチオン重合性基含有化合物が液体状である場合は、それらを溶剤の代わりとしてもよい。

本発明の感光性樹脂組成物は、前記の各成分を溶剤と共に混合した後に、フィルターを用いて濾過することにより、不溶物、樹脂等の合成時に生じる可能性のあるゲル成分、ゴミ、微量金属等を除去することが好ましい。フィルターとしては、例えば、インテグリスオプチマイザー、ＣＵＮＯナノシールド、ゼータプラスＥＣ等を使用することが出来る。なお、不溶物、ゲル成分、ゴミ、微量金属等は、保護層を成膜する際の感光性樹脂組成物のハジキの原因となり、保護層を貫通する異物やハジキ等の欠陥がある場合、後述する現像液がそこから下層の偏光層に侵入して偏光層を溶かしてしまう傾向にある。そのため、フィルターの目のサイズはなるべく小さいことが好ましく、少なくとも保護層の膜厚より小さいことが好ましい。

（保護層の塗布方法）
本発明の保護層は、偏光層の塗布方法に示した方法等を用いて、偏光層上に感光性樹脂組成物を連続塗布することで得ることができる。この後、感光性樹脂組成物が溶剤を含む場合は保護層を乾燥させてもよい。乾燥は、クリーンオーブン、ホットプレート、赤外線、ハロゲンヒーター、マイクロ波照射等の加熱機器を用いて加熱することにより行うことができる。中でも、膜全体を均等に加熱しやすいことから、クリーンオーブン及びホットプレートが好ましい。
乾燥条件は、溶剤の種類や偏光層の耐熱性等に応じて、適宜選択すればよい。十分に乾燥させた方が安定した硬化性を得やすい点では、高温で長時間乾燥させることが好ましい。また、乾燥に要する時間が短く生産性に優れる、及び偏光層や基板に加熱の影響を及ぼし難い点では、低温で短時間乾燥させることが好ましい。そこで、乾燥温度は、通常４０℃以上、好ましくは５０℃以上であり、また、一方、通常１２０℃以下、好ましくは１００℃以下である。
乾燥時間は、１５秒以上が好ましく、３０秒以上が更に好ましいが、また、５分以下が好ましく、３分以下が更に好ましい。乾燥は、減圧乾燥法により行ってもよく、加熱法と減圧乾燥法を併用してもよい。

＜(III）工程＞
本発明の製造方法は(III)工程として、保護層上にマスクを設け露光し、アルカリ溶液による現像を行うことにより、前記保護層及び不溶化処理された偏光層をパターニングする工程を有する。本工程は、(II)工程で形成した保護層上にマスクを設け露光し、保護層の一部分を重合反応させ、保護層の非露光部（非重合部）は、アルカリ溶液による現像を行うことで溶解させる。この保護層の溶解と同時に溶解した保護層の下層に存在する偏光層を、溶解又は剥離させてパターニングすることを特徴とする。本工程は、単一の現像液によって、保護層の非露光部と不溶化偏光層の両方を一工程でパターニングすることが可能となり、プロセスの簡略化及び製造コストを削減することが可能となる。

（露光）
露光に使用される光源は、保護層を重合できれば特に限定されない。具体的には、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、蛍光ランプ、ＬＥＤ等のランプ光源、アルゴンイオンレーザー、ＹＡＧレーザー、エキシマレーザー、窒素レーザー、ヘリウムカドミニウムレーザー、青紫色半導体レーザー、近赤外半導体レーザー等のレーザー光源が挙げられる。ここで、特定波長の光を使用する場合には、光学フィルターを用いてもよい。
露光量は、通常０．０１ｍＪ／ｃｍ²以上、好ましくは０．１ｍＪ／ｃｍ²以上、より好ましくは１ｍＪ／ｃｍ²以上であり、また、一方、通常１０００ｍＪ／ｃｍ²以下、好ましくは８００ｍＪ／ｃｍ²以下、より好ましくは５００ｍＪ／ｃｍ²以下である。

（保護層のマスク）
本発明のマスクは、遮光性を有するものであれば特に限定されないが、半導体パターニングプロセスで使用されるハードマスクやエマルジョンマスク、あるいは所望のパターンに加工した金属や、金属フィルム等の遮光物等を用いることができる。
ハードマスクは、ガラスや合成石英上にクロム膜を薄く着膜し、次に、感光性のレジストを塗布、露光・現像した後、クロム膜をエッチングにより除去する。その後、上層のレジスト膜も除去することで、露光用パターンを形成することで得ることができる。
エマルジョンマスクは、青板ガラスや樹脂フィルムの上に主にゼラチン材と感光体のハロゲン化銀で構成された膜をつけたものであり、写真のネガフィルムと同様に、露光、現像、定着することで得ることができる。

（現像液）
本発明の現像に用いられるアルカリ溶液は特に限定されないが、ｐＨ７．５以上であることが好ましく、ｐＨ８以上であることが更に好ましい。また、ｐＨ１４以下が好ましく、ｐＨ１２以下であることが更に好ましい。この範囲であることで、保護層及び偏光層の溶解又は剥離させ易い傾向にある。
具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化アンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等が挙げられる。これらの中でも水酸化カリウム及び/又は水酸化テトラメチルアンモニウムを用
いることが、材料入手性及び現像液のｐＨ制御容易性の観点で好ましい。
また、本発明の現像に用いられるアルカリ溶液は、水系、ノニオン系、その他の溶解可能な界面活性剤を含有していてもよい。

（現像方法）
現像方法及びその条件については、特に制限は無い。現像方法としては、浸漬現像、パドル式現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等が挙げられる。中でも、浸漬現像及びスプレー現像は、汚れが付き難く、均一に現像しやすいことから好ましい。又、パドル式現像は現像液の使用量が抑えられる点で好ましい。
現像温度については、通常１０℃以上、好ましくは１５℃以上であり、また、一方、通常５０℃以下、好ましくは４５℃以下で行う。現像後はそのまま、若しくは他の溶剤又は水で洗浄した上で、振り切り又は圧空等によって乾燥させることが好ましい。ここで他の溶剤とは、露光後の保護層や偏光層を溶かさずに、現像液とは混合する様な溶剤を選択することが好ましい。

＜その他の工程＞
本発明の偏光素子を得るために、前記の(I)〜(III)工程以外にも工程を有していてもよい。例えば、基板上に配向膜を設ける工程、板の濡れ性を付与する工程、保護層を加熱によりメルトフローさせる工程等が挙げられる。

（基板上に配向膜を設ける工程）
偏光層の配向性を向上させるため、前記(I)工程の前に、基板上に配向膜を設けてもよい。具体的には、「液晶便覧」 丸善株式会社、平成１２年１０月３０日発行、２２６頁から２３９頁等に記載の公知の方法を用いることができる。

（基板の濡れ性を付与する工程）
塗布による偏光層の形成に際して、偏光層形成用組成物のはじきを抑制するため、基板に濡れ性を付与してもよい。濡れ性を付与し親液部分を形成する処理としては、特に限定されるものではないが、物理的又は化学的改質処理手段であるコロナ処理、プラズマ処理、紫外線照射（ＵＶオゾン）処理等の表面処理を施す。この際、ガス組成や処理時間を調整するとこにより親液状態を調整してもよい。

（保護層を加熱によりメルトフローさせる工程（(IV)工程)）
本発明の製造方法は、(IV)工程として、(III)工程においてパターニングされた保護層を、加熱によりメルトフローさせる工程を有してもよい。図４に示すように、保護層をメルトフローさせることで、現像後露出した偏光層輪郭部の側面を封止することができる。
メルトフローの方法は、現像後の保護層が軟化して、偏光層の輪郭部側面を封止することが出来れば特に条件は限定されない。偏光層の耐熱性の点から、加熱温度が２００℃以下であることが好ましく、１８０℃以下が特に好ましい。又、保護層の硬化を加熱によってさらに促進する目的で、１００℃以上が好ましく、１２０℃以上が特に好ましい。
加熱時間は偏光層の劣化を回避する点でなるべく短い方が好ましいが、保護層の硬化をさらに促進する目的では長い方が好ましいため、通常１分以上、好ましくは１０分以上であり、通常１２０分以下、好ましくは６０分以下である。
加熱方法は、公地の方法を自由に選択することが出来るが、例えばホットプレート、ＩＲオーブン、コンベクションオーブン等が挙げられる。

本発明の製造方法として(IV)工程を有する場合には、(III)工程において、図３に示す様に、偏光層は、保護層の輪郭部より内側まで除去させることが好ましい。除去された偏光層の輪郭より外側の保護層部分が、(IV)工程におけるメルトフローの充分な糊代となることで、保護層が偏光層輪郭部の側面を封止することができる。
偏光層の輪郭部が保護層の輪郭部より内側まで入り込む距離としては、偏光層の膜厚以上が好ましく、５mm以下が好ましい。前記下限以上であることで、偏光層の輪郭部側面をその後工程から充分に保護出来る傾向にあり、一方、前記上限以下であることで、偏光層のパターニングに要する時間を抑制することができる傾向にある。

以下実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。 なお、以下の記載において、「部」は「質量部」を示す。

＜透過率、偏光度及びコントラストの測定方法＞
透過率、偏光度及びコントラストは、グラムトムソン偏光子を備える分光光度計（大塚電子（株）製、製品名「RETS-100」）を用い求めた。偏光層に直線偏光の測定光を入射し、測定により得られる４００ｎｍ〜８００ｎｍの透過率波長依存性（Ｔｙ（λ）、Ｔｚ（λ）、Ｔｍ（λ））から、以下に示される計算により、測定素子の単体透過率（Ｔｍ）[％]、偏光度（ＰＥ）[％]、コントラスト（ＣＲ）を算出した。
Ｔｍ[％] ＝ΣＶ（λ）Ｄ₆₅（λ）Ｔｍ（λ）／ΣＶ（λ）Ｄ₆₅（λ）ｘ１００
Ｔｙ[％] ＝ΣＶ（λ）Ｄ₆₅（λ）Ｔｙ（λ）／ΣＶ（λ）Ｄ₆₅（λ）ｘ１００
Ｔｚ[％] ＝ΣＶ（λ）Ｄ₆₅（λ）Ｔｚ（λ）／ΣＶ（λ）Ｄ₆₅（λ）ｘ１００
ＣＲ ＝Ｔｙ／Ｔｚ
ＰＥ ＝｛（Ｔｙ−Ｔｚ）／（Ｔｙ＋Ｔｚ）｝^1/2ｘ１００

Ｔｍ（λ）：各波長における偏光層の単体透過率
Ｔｚ（λ）：各波長における偏光層の吸収軸方向の偏光に対する透過率
Ｔｙ（λ）：各波長における偏光層の偏光軸方向の偏光に対する透過率
Ｄ₆₅（λ）：各波長における物体色の測定用光源強度（CIE、ISOの基準光強度）
Ｖ（λ）：国際照明委員会、国際度量衡総会により定められる比視感度波長依存性

［実施例１］
（偏光層形成用組成物１の作製）
水７９部に、下記式（１）で表される色素のリチウム塩２０部と、下記式（２）で表される色素１部とを撹拌溶解させることにより、偏光層形成用組成物１を作製した。

（不溶化液１の作製）
ビス（ヘキサメチレン）トリアミン（東京化成社製）２４．４部に、６規定の硫酸７５．６部を加えて撹拌溶解させ、不溶化液１を作製した。不溶化液１の粘度は５０ｃＰであった。

（感光性樹脂組成物１の作製）
表１に示す各成分を混合し、固形分濃度が１５重量％となるようプロピレングリコールメチルエーテルアセテートで調整し、感光性樹脂組成物１を作製した。
なお、表中の各成分は、以下に記載の通りである。
・光重合性モノマー（ラジカル重合性不飽和基含有化合物） ａ−１：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（新中村化学（株）製）
・樹脂（ラジカル重合性不飽和基含有化合物） ｂ−１：日本化薬(株)製 ＺＡＲ１０３５（エポキシ（メタ）アクリレート樹脂に該当。ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂にアクリル酸を付加し、更にコハク酸無水物を付加した樹脂。分子量１３，０００、酸価 約１００）
・光ラジカル重合開始剤（α−アミノアルキルフェノン誘導体類）ｃ−１：ＢＡＳＦ（株）製 ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７
・界面活性剤：ＤＩＣ(株)製 ＲＳ−７２−Ｋ（重合性基を有するフッ素系界面活性剤）

（(I)工程)
ガラス製基板（１０ｘ１０ｃｍ、厚さ０．７ｍｍ）上に配向膜（ポリイミド膜厚約６０ｎｍ）を形成し、端面に水平な方向にラビング処理を施したものを基板として用意した。この配向膜の上に、偏光形成層用組成物１をダイコーター（ウェット膜厚２μｍ、ヘッド速度１５ｍｍ/ｓ）で塗布し、自然乾燥させることにより、膜厚約０．４μｍの偏光層を形成した。なお、塗布時の環境条件は２３℃、５０ＲＨ％であった。

不溶化液１に偏光層を塗布した基板を３秒間含浸させた。基板を取り出した後に脱塩水を用いて、余分な不溶化液を洗い流すため、十分な洗浄を実施し、その後、基板の風乾を行なった。

（(II)工程)
(I)工程において不溶化処理された偏光層の上に、感光性樹脂組成物１を約１．０ｃｃ滴下し、膜厚が５００ｎｍとなるようにスピンコーターの回転数を調整し、４０秒間回転させて塗布した。その後、ホットプレート上で９０℃、９０秒間加熱乾燥して、保護層を形成させた。

（(III)工程)
(II)工程において保護層を形成した基板を、３ｋＷ高圧水銀灯を用いて、５００ｍＪ／ｃｍ²の露光量でネガパターン（１インチΦの円状）のあるマスクを介して露光させた。
次に露光後の基板を、０．０６％水酸化カリウム水溶液（現像液）に９０秒間、搖動浸漬し、現像した。現像後、２５℃脱塩水で十分に搖動含浸洗浄した後、圧空をブローして乾燥させ、偏光素子１を得た。偏光素子１は、膜の剥がれ等の欠陥は見られなかった。
偏光素子１の基板上面からの写真を図１に示す。中央の黒い丸部分が偏光素子１である。偏光素子１以外の不要部分（不溶化後の偏光層及び保護層）が、実施例１(III)工程の露光現像により一度に除去されていることがわかる。また、図１の偏光素子１の端部拡大写真を図２に示す。偏光素子１の端部形状が良好であり、寸法特性に優れた偏光素子が得られていることがわかる。またこの素子の偏光特性を大塚電子製 RETS-100を用いて測定したところ、単体透過率４１．０％、偏光度９９．４％と良好な値を示し、偏光素子として十分な特性を有することが分った。

（(IV)工程)
次に、この偏光素子１を１８０℃のオーブンで３０分加熱した。加熱後の偏光素子１の、偏光層の輪郭部に該当する部分の断面ＳＥＭを観察したところ、保護層が図４の最下段の図ようにメルトフローして偏光層の輪郭部側面を封止していることを顕微鏡観察で確認した。

[実施例２]
（重合体Ａの作製）
還流冷却器、攪拌機及び窒素吹込み管を備えたフラスコに、ジシクロペンタニルメタクリレート（日立化成（株）製「ＦＡ−５１３Ｍ」）１１質量部、グリシジルメタクリレート６１質量部、４−ヒドロキシフェニルメタクリレート１４質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４００質量部、ジメチル２，２′−アゾビス（２−メチルプロピオネート）８．０質量部を仕込み、窒素置換した後、攪拌しながら液温を８０℃に上昇させ、８０℃で６時間反応し、さらに１００℃で１時間ジメチル−２，２′−アゾビス（２−メチルプロピオネート）の分解処理をした後、８０℃の減圧下でプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを蒸留して、固形分濃度５０質量％程度まで濃縮し、重合体Ａを得た。この重合体Ａの重量平均分子量（Ｍｗ）は、約９，０００であった。
なお、重量平均分子量は、島津製作所製「ゲル浸透クロマトグラフシステムＬＳ Ｓｏｌｕｔｉｏｎ」で、島津製作所製「カラムＧＰＣ−８０４」を用いて測定した。

重合体Ａにおけるエポキシ基含有ビニル化合物（グリシジルメタクリレート）由来の繰り返し単位構造の含有割合は６７モル％であり、環状脂肪族基含有ビニル化合物（ジシクロペンタニルメタクリレート）由来の繰り返し単位構造の含有割合は１３モル％であり、芳香族性水酸基含有ビニル化合物（４−ヒドロキシフェニルメタクリレート）由来の繰り返し単位構造の含有割合は２０モル％であった。重合体Ａに含まれる繰り返し単位の構造は、次の通りである。

（感光性樹脂組成物２の作製）
表２の各成分をそれぞれ量り取り、マグネチックスターラーを用いて撹拌し完全に溶解させ、さらに１０分間撹拌を続けた。次にインテグリス社のオプチマイザーＶ４７ ０．０２μｍ ＦＤ５Ａ ＸＦＲを用いて濾過して、感光性樹脂組成物２を得た。

なお、表２に示す各成分は以下である。

（カチオン重合性基含有化合物 ＯＸＴ−１２１（東亜合成社製））

（光カチオン重合開始剤 ＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０（ＢＡＳＦ社製））

（増感剤 ＵＶＳ−１３３１（川崎化成社製））

（加速剤 ＥＴ−２２０１（川崎化成社製））

（レベリング剤 ＢＹＫ−３３０（ビックケミー社製））
ポリエーテル変性ポリメチルアルキルシロキサン

（(I)工程）
ガラス製基板（１０ｘ１０ｃｍ、厚さ０．７ｍｍ）上に配向膜（膜厚約６０ｎｍのポリイミド膜）を形成し、端面に水平な方向にラビング処理を施したものを基板として用意した。
この配向膜の上に、異方性色素膜用組成物１をダイコーター（ウェット膜厚２μｍ、ヘッド速度１５ｍｍ/ｓ）で塗布し、自然乾燥させることにより、膜厚約０．４μｍの偏光
層を形成した。なお、塗布時の環境条件は２３℃、５０ＲＨ％であった。

不溶化液１中に偏光層を形成した基板を５秒間含浸させた。基板を取り出した後に脱塩水を用いて洗浄し、その後、基板の風乾を行なった。

（(II)工程）
(I)工程において不溶化処理された偏光層の上に、感光性樹脂組成物を約０．５ｃｃ滴下し、後述の(III)工程の現像後の膜厚が１．５μｍとなるようにスピンコーターの回転数を調整し、５０秒間回転させて塗布した。その後、ホットプレート上で９０℃、９０秒間加熱乾燥して、保護層を形成させた。

（(III)工程）
(II)工程において保護層を形成した基板を、３ｋＷ高圧水銀灯を用いて、５０ｍＪ／ｃｍ²の露光量でネガパターンのあるマスクを介して露光させた。
次に、露光後の基板を、０．０４％の水酸化カリウム水溶液（現像液）で、３分間搖動しながら現像した後、流水で３０秒間水洗した後、圧空をブローして乾燥させ、偏光素子２を得た。偏光素子２は、パターニングされており、膜の剥がれ等の欠陥は見られなかった。

（(IV)工程）
次に、この偏光素子２を１８０℃のオーブンで３０分加熱した。保護層の下の偏光層は、ひび割れ、膜の脱落等のない均一で良好な膜であった。

（偏光特性の評価）
得られた偏光素子２について偏光特性の評価を行なった。偏光素子２を半分に分割し、直交ニコル又は平行ニコルになる様に重ね合せた時の様子を観察したところ、光を均質に遮光又は透過できていることが確認できた。

[実施例３]
（重合体Ｂの作製）
還流冷却器、攪拌機及び窒素吹込み管を備えたフラスコに、トリシクロデカン骨格を有するモノメタクリレート（日立化成（株）製「ＦＡ−５１３Ｍ」）１６質量部、グリシジルメタクリレート６１質量部、メタクリル酸１２質量部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル３００質量部、ジメチル２，２′−アゾビス（２−メチルプロピオネート）９質量部を仕込み、窒素置換した後、攪拌しながら液温を８０℃に上昇させ、８０℃で６時間反応して、重合体Ｂを得た。この重合体Ｂの重量平均分子量（Ｍｗ）は、約８，０００であった。 なお、重量平均分子量は、島津製作所製「ゲル浸透クロマトグラフシステムＬＳ Ｓｏｌｕｔｉｏｎ」で、島津製作所製「カラムＧＰＣ−８０４」を用いて測定した。

重合体Ｂに含まれる繰り返し単位の構造は以下のとおりである。
重合体Ｂにおけるエポキシ基含有ビニル化合物（グリシジルメタクリレート）由来の繰り返し単位構造の含有割合は６７モル％であり、環状脂肪族基含有ビニル化合物（ジシクロペンタニルメタクリレート）由来の繰り返し単位構造の含有割合は１１モル％であり、メタクリル酸由来の繰り返し単位の含有割合は２２モル％であった。

（感光性樹脂組成物３の作製）
表２の各成分を計り取り、実施例２の感光性樹脂組成物２と同様にして感光性樹脂組成物３を得た。

(III)工程の０．０４％の水酸化カリウム水溶液（現像液）で、搖動時間を１分間とした以外は実施例２と同様に、(I)工程〜(III)工程を行い、偏光素子３を得た。偏光素子３は、パターニングされており、膜の剥がれ等の欠陥は見られなかった。

（(IV)工程）
次に、この偏光素子３を、実施例２と同様にして加熱した。
次に、この偏光素子２を１８０℃のオーブンで３０分加熱した。保護層の下の偏光層は、ひび割れ、膜の脱落等のない均一で良好な膜であった。

（偏光特性の評価）
得られた偏光素子３について、実施例２と同様に偏光特性の評価を行なった。偏光素子３は、光を均質に遮光又は透過できていることが確認できた。

Claims (3)

1. 以下の工程を有する、基板、偏光層及び保護層を含む偏光素子の製造方法。
   (I)基板に偏光層形成用組成物を連続塗布して偏光層を形成し、次いで前記偏光層を塩交換により不溶化処理する工程。
   (II)前記不溶化処理された偏光層上に、感光性樹脂組成物を塗布して保護層を形成する工程。
   (III)保護層上にマスクを設け露光し、アルカリ溶液による現像を行うことにより、前記保護層及び不溶化処理された偏光層をパターニングする工程。
2. 前記(III)工程で用いられるアルカリ溶液が、水酸化カリウム及び/又は水酸化テトラメチルアンモニウムを含むものである、請求項１に記載の偏光素子の製造方法。
3. 前記 (III)工程の後、下記(IV)工程を有するものである、請求項１又は２に記載の偏光素子の製造方法。
   (IV)パターニングされた保護層を加熱によりメルトフローさせる工程。

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