JP5788153B2 - X線回折方法及びそれを用いた可搬型x線回折装置 - Google Patents
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Description
のX線を試料に斜め方向から照射するX線照射手段と、このX線照射手段により連続波長
のX線が照射された試料で回折したX線のうち平行な成分の回折X線を集光して検出する
回折X線検出手段と、回折X線を検出した回折X線検出手段から出力される信号を処理す
る信号処理手段とを備えて構成し、X線照射手段と回折X線検出手段とは試料に対して同じ側に固定した角度で1対1に対向して配置されており、前記回折X線検出手段は、
X線照射手段により連続波長のX線が照射された試料で回折したX線を入射させて平行な成分を集光する受光光学素子と、受光光学素子で集光された回折X線を検出する検出光学素子と、受光光学素子と検出光学素子とを内装するX線検出部筐体とを備え、受光光学素子はポリキャピラリで構成され、ポリキャピラリの試料からの回折X線が入射する側は平行に形成され、回折X線を出射する側はその断面が入射する側の断面よりも小さく形成されており、連続波長のX線が照射された試料で回折して入射側の断面よりも出射側の断面が小さいポリキャピラリで集光された回折X線を検出光学素子であるエネルギー分散型のX線検出器で検出することを特徴とする
系で試料に斜め方向から照射し、試料に対してX線照射光学系と同じ側でX線照射光学系
に対向して固定した角度で1対1に配置された回折X線検出光学系でX線が照射された試料で回折した回折X線を入射側が平行に形成されて出射側が入射側の断面よりも小さい断面で形成されているポリキャピラリに入射させ、このポリキャピラリに入射させた回折X線のうち平行な成分の回折X線をポリキャピラリの回折X線が入射する側よりも断面が小さい出射側から出射させることにより回折X線から平行な成分を選択してこの選択した回折X線の平行な成分を集光し、回折X線検出光学系で集光した連続波長のX線が照射された試料で回折して入射側の断面よりも出射側の断面が小さいポリキャピラリで集光された回折X線をエネルギー分散型の検出素子で検出し、この検出素子で検出して得た信号を処理するX線回折方法とした。
し、この撮像された試料のX線を照射する箇所の画像を表示し、X線管で連続波長のX線
を発生し、X線管で発生させた連続波長のX線をX線照射光学系で平行化して画像が表示された試料のX線を照射する箇所に斜め方向から照射し、試料に対してX線照射光学系と同じ側でX線照射光学系に対向して固定した角度で1対1に配置された回折X線検出光学系で連続波長のX線が照射された試料で回折したX線を入射側が平行に形成されて出射側が入射側の断面よりも小さい断面で形成されているポリキャピラリに入射させ、このポリキャピラリに入射させた回折X線のうち平行な成分の回折X線をポリキャピラリの回折X線が入射する側よりも断面が小さい出射側から出射させることにより試料で回折したX線から平行な成分を選択して集光させ、この選択して集光させた連続波長のX線が照射された試料で回折して入射側の断面よりも出射側の断面が小さいポリキャピラリで集光された回折X線をエネルギー分散型の検出素子で検出し、検出素子で検出した信号を処理するX線回折方法とした。
14によりX線シャッタ2の開閉を行うことによって試料への照射のOn/Offを行う。シャ
ッタ開閉スイッチ14によりシャッタ2が開の状態でX線発生用X線管1で発生したX線
は試料照射用X線光学素子3を透過して試料200に照射される。
試料照射用X線光学素子3は、X線発生用X線管1で発生したX線を平行化して試料2
00に照射する役割をもち、本実施例ではX線発生用X線管1のX線焦点16と同様なサ
イズの開口をもつスリットを用いた。この試料照射用X線光学素子3には平行管タイプの
モノキャピラリであっても良いし、平行管タイプのモノキャピラリを複数束ねて形成した
ポリキャピラリ型の素子としてもよい。
理可能なデジタル化され、データ処理及び表示制御部10で処理され、その結果が折り畳
み式データ表示部15に表示する。また、本実施例による可搬型X線回折計測装置100
のX線回折計測のX線の光軸中心を図中の1点鎖線a及びbで示す。
D0=L×sin(θ1+θ2)/sin((θ1+θ2)/2) ・・・・・ (数1)
ここで、θ1は試料照射用X線光学素子3の試料への入射角度、θ2は試料で回折したX線の出射角度である。θ1とθ2とは、何れも10°〜60°の範囲に設定される。入射X線のビーム径をdとすると、試料位置がLだけずれても回折X線が安定して計測することができるようにするためには、X線検出器5’の受光面が下式(数2)で示されるような数値D1よりも大きくなければならない。
=d+L×sin(θ1+θ2)/sin((θ1+θ2)/2) ・・・ (数2)
次に図1に示した回折X線受光光学素子4に回折X線ビームを取り込むためのX線検出部30の原理の一部について図3を用いて説明する。本実施例では、回折X線受光光学素子4として平行管タイプのモノキャピラリを束ねて形成した平行部分をもつポリキャピラリを用いた。ポリキャピラリは平滑なガラス細管内面でのX線の全反射を利用してX線ビームの形状を変換することが可能である。石英ガラスでの全反射臨界角はX線の波長(エネルギー)によって異なるが、X線波長0.083nm、エネルギー15keVに対しおよそ0.125度(2.2mrad)である。
ここで示した計算値は全反射臨界角度を用いたものであるが、本発明の実施例では長さ50mmで入射端401側の開口径10mmを出射端402の側で5mmに縮小する滑らかな回転楕円面形状をもつポリキャピラリとした。このポリキャピラリは、入射したX線を集光してX線検出器5の側に出射させれば良いので、形状については焦点に結ぶ必要がなく、滑らかな2次元曲面形状とすることが可能である。
ここでは小型軽量化のためピエゾトランス72を用いたが、多少の重量の増加で済む高周波コイルトランスを用いることも可能である。
)に示すように、X線発生用X線管1のX線焦点16で発生したX線は試料照射用X線光
学素子3を通過するとともに、図7(b)に示す防X線シールド部40の試料面側に設け
られた試料照射X線透過窓22を通して、試料200に照射される。このとき試料200
との接触部41はタングステン(W)、タンタル(Ta)や鉛(Pb)等の重金属で構成
されており、試料と密着させることにより、X線の漏洩が無いようにできている。更に、
使用時の安全性を高めるため、試料の形状に合わせて図に記載の無い重金属入りプラスチ
ック片がその外側に設置され、X線漏洩を防止している。更に、図に記載の無い近接スイ
ッチと試料観察用開口42を通して光学的な計測を行う試料観察部6によるデータから防
X線シールド部40の接触部41が試料に接触しているかを確認した上で、シャッタ開閉
スイッチ14のOn/OffによりX線の照射が制御される安全機構となっている。
2dsinθ=λ ・・・(数3)
と表される。ここで、θはX線の入射角である。
λ=12.4/E ・・・(数4)
という関係が有るので、数1に数2を代入してX線の入射角度θを30°としたとき、
d=12.4/E ・・・(数5)
と表される。
12・・・電源ケーブル 14・・・シャッタ開閉スイッチ 15・・・折り畳み式データ表示部 20・・・X線照射部 21・・・筐筒 22…試料照射X線透過窓 30・・・X線検出部 31・・・筐筒 32・・・回折X線検出透過窓
40・・・防X線シールド試料接触部 42・・・試料観察用開口 50・・・筐体部 77・・・高圧電源安全シールド。
Claims (9)
- 平行な連続波長のX線を試料に斜め方向から照射するX線照射手段と、
該X線照射手段により連続波長のX線が照射された試料で回折したX線のうち平行な成
分の回折X線を集光して検出する回折X線検出手段と、
前記回折X線を検出した前記回折X線検出手段から出力される信号を処理する信号処理
手段と
を備え、前記X線照射手段と前記回折X線検出手段とは前記試料に対して同じ側に固定し
た角度で1対1に対向して配置されており、前記回折X線検出手段は、前記X線照射手段により前記連続波長のX線が照射された前記試料で回折したX線を入射させて平行な成分を集光する受光光学素子と、該受光光学素子で集光された回折X線を検出する検出光学素子と、前記受光光学素子と前記検出光学素子とを内装するX線検出部筐体とを備え、前記受光光学素子はポリキャピラリで構成され、該ポリキャピラリの前記試料からの回折X線が入射する側は平行に形成され、前記回折X線を出射する側はその断面が前記入射する側の断面よりも小さく形成されており、前記連続波長のX線が照射された試料で回折して前記入射側の断面よりも出射側の断面が小さいポリキャピラリで集光された回折X線を前記検出光学素子であるエネルギー分散型のX線検出器で検出することを特徴とする可搬型X線回折装置。 - 前記試料の前記連続波長のX線を照射する箇所を撮像する撮像手段と
該撮像して得た画像を表示する表示手段と
を更に備えたことを特徴とする請求項1記載の可搬型X線回折装置。 - 前記X線照射手段は、
前記連続波長のX線を発生するX線管と、
該X線管で発生させた前記連続波長のX線の光路を開閉するシャッタ手段と、
前記X線管で発生させた前記連続波長のX線を平行化して試料に斜め方向から照射する
照射光学手段と、
前記X線管と前記シャッタ手段と前記照射光学手段とを内装するX線照射部筐筒と
を備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載の可搬型X線回折装置。 - 前記照射光学手段は、スリットまたはポリキャピラリで形成されていることを特徴とす
る請求項3記載の可搬型X線回折装置。 - 前記エネルギー分散型の検出器は、シリコンドリフト型半導体検出器(SDD)である
ことを特徴とする請求項1記載の可搬型X線回折装置。 - 平行な連続波長のX線をX線照射光学系で試料に斜め方向から照射し、
前記試料に対して前記X線照射光学系と同じ側で前記X線照射光学系に対向して固定し
た角度で1対1に配置された回折X線検出光学系で前記X線が照射された前記試料で回折
した回折X線を入射側が平行に形成されて出射側が入射側の断面よりも小さい断面で形成されているポリキャピラリに入射させ、該ポリキャピラリに入射させた回折X線のうち平行な成分の回折X線を前記ポリキャピラリの前記回折X線が入射する側よりも断面が小さい出射側から出射させることにより前記回折X線から平行な成分を選択して該選択した回折X線の平行な成分を集光し、
前記回折X線検出光学系で集光した前記連続波長のX線が照射された前記試料で回折して前記入射側の断面よりも出射側の断面が小さいポリキャピラリで集光された回折X線をエネルギー分散型の検出素子で検出し、
該検出素子で検出して得た信号を処理する
ことを特徴とするX線回折方法。 - 前記平行な連続波長のX線を、スリットまたはポリキャピラリを用いて形成することを
特徴とする請求項6記載のX線回折方法。 - 試料のX線を照射する箇所を撮像し、
該撮像された試料のX線を照射する箇所の画像を表示し、
X線管で連続波長のX線を発生し、
該X線管で発生させた連続波長のX線をX線照射光学系で平行化して前記画像が表示さ
れた試料のX線を照射する箇所に斜め方向から照射し、
前記試料に対してX線照射光学系と同じ側で前記X線照射光学系に対向して固定した角
度で1対1に配置された回折X線検出光学系で前記連続波長のX線が照射された試料で回
折したX線を入射側が平行に形成されて出射側が入射側の断面よりも小さい断面で形成されているポリキャピラリに入射させ、該ポリキャピラリに入射させた回折X線のうち平行な成分の回折X線を前記ポリキャピラリの前記回折X線が入射する側よりも断面が小さい出射側から出射させることにより前記試料で回折したX線から平行な成分を選択して集光させ、
該選択して集光させた前記連続波長のX線が照射された試料で回折して前記入射側の断面よりも出射側の断面が小さいポリキャピラリで集光された回折X線をエネルギー分散型の検出素子で検出し、
該検出素子で検出した信号を処理する、
ことを特徴とするX線回折方法。 - 前記X線管で発生させたX線を平行化することを、スリットまたはポリキャピラリを用い
て行うことを特徴とする請求項8記載のX線回折方法。
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KR20140145682A (ko) * | 2013-06-13 | 2014-12-24 | 삼성전자주식회사 | 엑스선 영상 장치 및 그 제어방법 |
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