JP5774599B2 - ジチエノベンゾ−チエノ[3,2−b]チオフェン−コポリマーとその溶液加工可能な高機能性半導電性ポリマーとしての利用 - Google Patents
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Description
piは、必要に応じて1〜4個のRa基で置換された単環基または多環基であり、
式中
Raは、それぞれ独立して、水素、a)ハロゲン、b)−CN、c)−NO2、d)オキソ、e)−OH、f)=C(Rb)2、g)C1-20アルキル基、h)C2-20アルケニル基、i)C2-20アルキニル基、j)C1-20アルコキシ基、k)C1-20アルキルチオ基、l)C1-20ハロアルキル基、m)−Y−C3-10シクロアルキル基、n)−Y−C6-14アリール基、o)−Y−3−12員環シクロヘテロアルキル基、またはp)−Y−5−14員環ヘテロアリール基であり(上記のC1-20アルキル基とC2-20アルケニル基、C2-20アルキニル基、C3-10シクロアルキル基、C6-14アリールまたはハロアリール基、3−12員環シクロヘテロアルキル基、5−14員環ヘテロアリール基は、必要に応じて1〜4個のRb基で置換されていてもよい);
Rbは、それぞれ独立して、a)ハロゲン、b)−CN、c)−NO2、d)オキソ、e)−OH、f)−NH2、g)−NH(C1-20アルキル)、h)−N(C1-20アルキル)2、i)−N(C1-20アルキル)−C6-14アリール、j)−N(C6-14アリール)2、k)−S(O)mH、l)−S(O)m-C1-20アルキル、m)−S(O)2OH、n)−S(O)m-OC1-20アルキル、o)−S(O)m-OC6-14アリール、p)−CHO、q)−C(O)−C1-20アルキル、r)−C(O)−C6-14アリール、s)−C(O)OH、t)−C(O)−OC1-20アルキル、u)−C(O)−OC6-14アリール、v)−C(O)NH2、w)−C(O)NH−C1-20アルキル、x)−C(O)N(C1-20アルキル)2、y)−C(O)NH−C6-14アリール、z)−C(O)N(C1-20アルキル)−C6-14アリール、aa)−C(O)N(C6-14アリール)2、ab)−C(S)NH2、ac)−C(S)NH−C1-20アルキル、ad)−C(S)N(C1-20アルキル)2、ae)−C(S)N(C6-14アリール)2、af)−C(S)N(C1-20アルキル)−C6-14アリール、ag)−C(S)NH−C6-14アリール、ah)−S(O)mNH2、ai)−S(O)mNH(C1-20アルキル)、aj)−S(O)mN(C1-20アルキル)2、ak)−S(O)mNH(C6-14アリール)、al)−S(O)mN(C1-20アルキル)−C6-14アリール、am)−S(O)mN(C6-14アリール)2、an)SiH3、ao)SiH(C1-20アルキル)2、ap)SiH2(C1-20アルキル)、ar)−Si(C1-20アルキル)3、as)C1-20アルキル基、at)C2-20アルケニル基、au)C2-20アルキニル基、av)C1-20アルコキシ基、aw)C1-20アルキルチオ基、ax)C1-20ハロアルキル基、ay)C3-10シクロアルキル基、az)C6-14アリールまたはハロアリール基、ba)3−12員環シクロヘテロアルキル基、またはbb)5−14員環ヘテロアリール基であり;
Yは、それぞれ独立して、2価のC1-6アルキル基、2価のC1-6ハロアルキル基、または共有結合であり;
mは、それぞれ独立して0、1または2であり;
R1とR2とR3はそれぞれ、独立してH、ハロゲン、CN、C1-30アルキル基、C2-30アルケニル基、C1-30ハロアルキル基、C2-30アルキニル基、C1-30アルコキシ基、C(O)−C1-20アルキル基、C(O)−OC1-20アルケニル基、Y−C3-10シクロアルキル基、−Y−3−12員環シクロヘテロアルキル基(これらはそれぞれ、ハロゲンと−CN、C1-6アルキル基、C1-6アルコキシ基、C1-6ハロアルキル基から選ばれる1〜5個の置換基で置換されていてもよい)、−L−Ar1、−L−Ar1−Ar1、−L−Ar1−R4、または−L−Ar1−Ar1−R4であり
[式中、Lは、それぞれ独立して、−O−、−Y−O−Y−、−S−、−S(O)−、−Y−S−Y−、−C(O)−、−NRcC(O)−、−NRc−、−SiRc 2−、−Y−[SiRc 2]−Y−、2価のC2-30アルキル基、2価のC1-30アルケニル基、2価のC1-30ハロアルキル基、または共有結合である;
(式中、Rcはそれぞれ、H、C1-20アルキル基、または−Y−C6-14アリール基であり;Ar1は、それぞれ独立して、C6-14アリール基または5−14員環ヘテロアリール基であり、これらの基は、必要ならハロゲンと−CN、C1-6アルキル基、C1-6アルコキシ基、C1-6ハロアルキル基から選ばれる1〜5個の置換基で置換されていてもよい);
R4は、それぞれ独立して、C1-20アルキル基、C2-20アルケニル基、C1-20ハロアルキル基、C1-20アルコキシ基、−L’−Ar2、−L’−Ar2−Ar2、−L’−Ar2−R5、または−L’−Ar2−Ar2−R5であり;
(式中、L’は、それぞれ独立して、−O−、−Y−O−Y−、−S−、−S(O)−、−Y−S−Y−、−C(O)−、−NRcC(O)−、−NRc−、−SiRc 2−、−Y−[SiRc 2]−Y−、2価のC1-20アルキル基、2価のC1-20アルケニル基、2価のC1-20ハロアルキル基、または共有結合であり;
Ar2は、それぞれ独立して、C6-14アリール基または5−14員環ヘテロアリール基であり、各基は必要に応じてハロゲンと−CN、C1-6アルキル基、C1-6アルコキシ基、C1-6ハロアルキル基から選ばれる1〜5個の置換基で置換されていてもよい;
R5はそれぞれ、C1-20アルキル基、C2-20アルケニル基、C1-20ハロアルキル基、またはC1-20アルコキシ基であり;
Yは、それぞれ独立して、2価のC1-6アルキル基、2価のC1-6ハロアルキル基、または共有結合である)];
n=0、1、2であり;
o=1〜1000である。
kとk’、l、l’、p、p’、q、u、u’、v、v’はそれぞれ、−S−と、−O−、−CH=、=CH−、−CR6=、=CR6−、−C(O)−、−C(C(CN)2)−、−N=、=N−、−NH−、−NR3−、−SiRc=、=SiRc -、−SiR7Rc -から選ばれ;
R6は、それぞれ独立して、a)ハロゲンと、b)−CN、c)−NO2、d)N(Rc)2、e)−ORc、f)−C(O)Rc、g)−C(O)ORc、h)−C(O)N(Rc)2、i)C1-40アルキル基、j)C2-40アルケニル基、k)C2-40アルキニル基、l)C1-40アルコキシ基、m)C1-40アルキルチオ基、n)C1-40ハロアルキル基、o)−Y−C3-14シクロアルキル基、p)−Y−C6-14アリール基、q)−Y−3−14員環シクロヘテロアルキル基、r)−Y−5−14員環ヘテロアリール基から選ばれ、上記C1-40アルキル基とC2-40アルケニル基、C2-40アルキニル基、C3-14シクロアルキル基、C6-14アリール基、3−14員環シクロヘテロアルキル基、Y、Rcは上記定義通りである;
Rcは、上記定義通りであり;
rとsは独立して、−CRcRc−または−C(C(CN)2)−であり;
bは1、2、3、または4である。
Tは、O、S、NH、N−アルキル、N−アリール、N−(アリールアルキル)(例えば、N−ベンジル)、SiH2、SiH−(アルキル)、Si(アルキル)2、SiH−(アリールアルキル)、Si−(アリールアルキル)2、またはSi(アルキル)(アリールアルキル)である。これらヘテロアリール環の例としては、ピロリル、フリル、チエニル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジニル、ピラジニル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピラゾリル、イミダゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、イソキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、インドリル、イソインドリル、ベンゾフリル、ベンゾチエニル、キノリル、2−メチルキノリル、イソキノリル、キノキサリル、キナゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンズイソチアゾリル、ベンズイソキサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、ベンズオキサゾリル、シノリニル、1H−インダゾリル、2H−インダゾリル、インドリジニル、イソベンゾフリル、ナフチリジニル、フタラジニル、プテリジニル、プリニル、オキサゾロピリジニル、チアゾロピリジニル、イミダゾピリジニル、フロピリジニル、チエノピリジニル、ピリドピリミジニル、ピリドピラジニル、ピリドピリダジニル、チエノチアゾリル、チエノキサゾリル、チエノイミダゾリル基等が含まれる。他のヘテロアリール基の例としては、4,5,6,7−テトラヒドロインドリル、テトラヒドロキノリニル、ベンゾチエノピリジニル、ベンゾフロピリジニル基等が含まれる。いくつかの実施様態においては、本明細書に開示のように、ヘテロアリール基が置換されていてもよい。
アルカリ金属(例えば、Liや、Na、K、Rb、Cs)、アルカリ土類金属(例えば、Caや、Sr、Ba)、O2、XeOF4、(NO2 +)(SbF6 -)、(NO2 +)(SbCl6 -)、(NO2 +)(BF4 -)、AgClO4、H2IrCl6、La(NO3)3、FSO2OOSO2F、Eu、アセチルコリン、R4N+、R4P+、R6As+、R3S+、(式中、Rはアルキル基である)があげられる。
MS(FD、8kV):m/z=465.4g/mol(計算値:C12H2OS2Sn2として465.9g/mol);
1H−NMR(300MHz、CD2Cl2、RT):δ7.28(s、2H)、δ0.41(s、2H);
13C−NMR(75MHz、CD2Cl2、RT):δ148.0、142.0、16.6、−8.0;
元素分析:実測値:30.91%C、4,48%H、13.61%S(計算値:30.94%C、4.33%H、13.77%S)
MS(FD、8kV)m/z=743.3g/mol(計算値:C46H64S4として744.4g/mol);
1H−NMR(250MHz、CD2Cl2,RT):δ7.68(s、2H)、δ7.14(d、J=5.3Hz、2H)、δ7.02(d、J=5.3Hz、2H)、δ2.54(t、J=7.0Hz、4H)、δ1.69(quin、J=7.4Hz、4H)、δ1.6−1.1(m、48H)、δ0.89(t、J=6.5Hz、6H);
13C−NMR(62.5MHz、CD2Cl2、RT):δ140.0、138.99、138.94、132.3、123.7、119.2、117.5、97.4、76.6、32.6、30.4−30.2(複数ピーク)、30.0、29.9、29.7、29.1、23.3、14.5;
元素分析:実測値:74.00%C、8.62%H、17.30%S(計算値:74.14%C、8.66%H、17.21%S)。
MS(FD、8kV)m/z=743.5g/mol(計算値:C46H64S4として744.4g/mol);
1H−NMR(500MHz、C2D2Cl4、60℃):δ7.65(s、2H)、δ7.40(d、J=5.2Hz、2H)、δ7.38(d、J=5.2Hz、2H)、δ3.20(t、J=7.9Hz、4H)、δ1.85(quin、J=7.7Hz、4H)、δ1.56(quin、J=7.6Hz、4H),)、δ1.39(quin、J=7.5Hz、4H);δ1.3−1.1(m、36H)、δ0.82(t、J=7.0Hz、6H);
13C−NMR(125MHz、C2D2Cl4、60℃):δ138.3、136.5、134.2、132.1、131.8、130.0、125.1、125.0、120.8、34.8、32.2、31.3、29.9(複数ピーク)、29.8、29.6、22.9、14.4; 元素分析:実測値:74.12%C、8.67%H、17.04%S(計算値:74.14%C、8.66%H、17.21%S)。
MS(FD、8kV)m/z=1070.1g/mol(計算値:C52H80S4Sn2として1070.3g/mol);
1H−NMR(250MHz、CD2Cl2):δ7.67(s、2H)、δ7.51(s、2H)、δ3.23(t、J=7.7Hz、4H)、δ1.87(quin,、J=7.6Hz、4H)、δ1.59(quin、J=7.4Hz、4H)、δ1.4−1.1(m、40H)、)、δ0.87(t、J=6−5Hz、6H)、δ0.48(s、18H)、
13C−NMR(75MHz、CD2Cl2):δ140.2、139.6、136.8、136.2、134.2、133.2、132.1、129.5、120.4、35.3、32.5、31.7、30.3(複数ピーク)、30.2、29.9、23.3、14.5;
元素分析:実測値:58.84%C、7.66%H、11.38%S(計算値:58.33%C、7.53%H、11.98%S)。
1H−NMR(500MHz、C2D2Cl4、120℃、δ(ppm)):7.6(br、2H)、7.5(br、2H)、7.2(br、2H)。
グローブボックス中で、107.09mg(0.1mmol)の2,8−ビストリメチルスタニル−5,12−ビス(テトラデシル)−ジチエノベンゾ−チエノ[3,2−b]チオフェンと71.68mg(0.1mmol)の5,5’−ジブロモ−4,4’−ジデシル−2,2’−ジチオフェンを、マイクロ波チューブ内の入った1mlのトルエンに溶解する。触媒として5mg(5mmol)のPd(PPh3)4を添加後、このチューブを封じてマイクロ波照射にかける(330W)。温度を120℃で5分間で維持し、次いで140℃でさらに5分間、最後に155℃で40分間維持する。部分的に沈殿したポリマーを1,2−ジクロロベンゼン中に溶解し、メタノールで沈殿化させ、さらに再沈殿させてから、アセトンでのソックスレー抽出に12時間かける。110mgの赤色ポリマーが得られる(85%)。ポリスチレン標準試薬を用いるGPC分析の(1,2,4−トリクロロベンゼン、135℃)結果、Mn=17kg/molであり、Mw=43kg/molであることがわかる。
トランジスタの製作には、熱的に成長させた厚みが200nmの二酸化ケイ素層をもつ、多量にドープしたシリコンウエハーを基材に用いる。気相からヘキサメチルジシラザンを120℃で蒸着させた。この半導体高分子フィルム(約47.5nm厚)は、5mg/mlの1,2−ジクロロベンゼン溶液をスピンコートして(3000rpm、60s)、製造した。基材を100℃で5分間熱処理し、ゆっくりと冷却(1℃/min)後、シャドウマスク越しに半導体薄膜上に金を蒸着させて(3・10-6mbar、1Ås-1、約100nm厚)、ソール電極とドレイン電極を形成して、チャネル長が25〜75であり、幅が約0.5〜1.5mm(W/L=20)である装置を作製した。作製とケースレー4200半導体パラメーター測定装置を用いる電気的測定は、すべて窒素雰囲気下かつ黄灯下で行った。
オンオフ比:Ion/Ioff=3.8(±0.2)・103(五回の測定の平均)
Claims (9)
- 次式のジチエノベンゾ−チエノ[3,2−b]チオフェン−ホモポリマー又はコポリマー:
[式中、
piは、必要に応じて1〜4個のRa基で置換された単環基または多環基であり、
Raは、それぞれ独立して水素、a)ハロゲン、b)−CN、c)−NO2、d)=O、e)−OH、f)=C(Rb)2、g)C1−20アルキル基、h)C2−20アルケニル基、i)C2−20アルキニル基、j)C1−20アルコキシ基、k)C1−20アルキルチオ基、l)C1−20ハロアルキル基、m)−Y−C3−10シクロアルキル基、n)−Y−C6−14アリール基、o)−Y−3−12員環シクロヘテロアルキル基、またはp)−Y−5−14員環ヘテロアリール基であり(上記のC1−20アルキル基、C2−20アルケニル基、C2−20アルキニル基、C3−10シクロアルキル基、C6−14アリールまたはハロアリール基、3−12員環シクロヘテロアルキル基、5−14員環ヘテロアリール基は、必要に応じて1〜4個のRb基で置換されていてもよい);
Rbは、それぞれ独立して、a)ハロゲン、b)−CN、c)−NO2、d)=O、e)−OH、f)−NH2、g)−NH(C1−20アルキル)、h)−N(C1−20アルキル)2、i)−N(C1−20アルキル)−C6−14アリール、j)−N(C6−14アリール)2、k)−S(O)mH、l)−S(O)m−C1−20アルキル、m)−S(O)2OH、n)−S(O)m−OC1−20アルキル、o)−S(O)m−OC6−14アリール、p)−CHO、q)−C(O)−C1−20アルキル、r)−C(O)−C6−14アリール、s)−C(O)OH、t)−C(O)−OC1−20アルキル、u)−C(O)−OC6−14アリール、v)−C(O)NH2、w)−C(O)NH−C1−20アルキル、x)−C(O)N(C1−20アルキル)2、y)−C(O)NH−C6−14アリール、z)−C(O)N(C1−20アルキル)−C6−14アリール、aa)−C(O)N(C6−14アリール)2、ab)−C(S)NH2、ac)−C(S)NH−C1−20アルキル、ad)−C(S)N(C1−20アルキル)2、ae)−C(S)N(C6−14アリール)2、af)−C(S)N(C1−20アルキル)−C6−14アリール、ag)−C(S)NH−C6−14アリール、ah)−S(O)mNH2、ai)−S(O)mNH(C1−20アルキル)、aj)−S(O)mN(C1−20アルキル)2、ak)−S(O)mNH(C6−14アリール)、al)−S(O)mN(C1−20アルキル)−C6−14アリール、am)−S(O)mN(C6−14アリール)2、an)SiH3、ao)SiH(C1−20アルキル)2、ap)SiH2(C1−20アルキル)、ar)Si(C1−20アルキル)3、as)C1−20アルキル基、at)C2−20アルケニル基、au)C2−20アルキニル基、av)C1−20アルコキシ基、aw)C1−20アルキルチオ基、ax)C1−20ハロアルキル基、ay)C3−10シクロアルキル基、az)C6−14アリールまたはハロアリール基、ba)3−12員環シクロヘテロアルキル基、またはbb)5−14員環ヘテロアリール基であり;
Yは、それぞれ独立して、2価のC1−6アルキレン基、2価のC1−6ハロアルキレン基、または共有結合であり;
下付きmは、それぞれ独立して0、1または2であり;
R1とR2とR3はそれぞれ、独立してH、ハロゲン、CN、C1−30アルキル基、C2−30アルケニル基、C1−30ハロアルキル基、C2−30アルキニル基、C1−30アルコキシ基、C(O)−C1−20アルキル基、C(O)−OC1−20アルキル基、−Y−C3−10シクロアルキル基、−Y−3−12員環シクロヘテロアルキル基(これらはそれぞれ、ハロゲンと−CN、C1−6アルキル基、C1−6アルコキシ基、C1−6ハロアルキル基から選ばれる1〜5個の置換基で置換されていてもよい)、
−L−Ar1、−L−Ar1−Ar1、−L−Ar1−R4、または−L−Ar1−Ar1−R4であり
[式中、Lは、それぞれ独立して、−O−、−Y−O−Y−、−S−、−S(O)−、−Y−S−Y−、−C(O)−、−NRcC(O)−、−NRc−、−SiRc 2−、−Y−[SiRc 2]−Y−、2価のC2−30アルキレン基、2価のC2−30アルケニレン基、2価のC1−30ハロアルキレン基、または共有結合であり
(式中、Rcはそれぞれ、H、C1−20アルキル基、または−Y−C6−14アリール基である);
Ar1は、それぞれ独立して、1価の時はC6−14アリール基または5−14員環ヘテロアリール基であり、2価の時はC6−14アリーレン基または5−14員環ヘテロアリーレン基であり、これらの基は、必要なら
ハロゲンと−CN、C1−6アルキル基、C1−6アルコキシ基、C1−6ハロアルキル基から選ばれる1〜5個の置換基で置換されていてもよい;
R4は、それぞれ独立して、C1−20アルキル基、C2−20アルケニル基、C1−20ハロアルキル基、C1−20アルコキシ基、−L’−Ar2、−L’−Ar2−Ar2、−L’−Ar2−R5、または−L’−Ar2−Ar2−R5である
(式中、L’は、それぞれ独立して、−O−、−Y−O−Y−、−S−、−S(O)−、−Y−S−Y−、−C(O)−、−NRcC(O)−、−NRc−、−SiRc 2−、−Y−[SiRc 2]−Y−、2価のC1−20アルキル基、2価のC1−20アルケニル基、2価のC1−20ハロアルキル基、または共有結合であり;
Ar2は、それぞれ独立して、1価の時はC6−14アリール基または5−14員環ヘテロアリール基であり、2価の時はC6−14アリーレン基または5−14員環ヘテロアリーレン基であり、各基は必要に応じて
ハロゲンと−CN、C1−6アルキル基、C1−6アルコキシ基、C1−6ハロアルキル基から選ばれる1〜5個の置換基で置換されていてもよい;
R5はそれぞれ、C1−20アルキル基、C2−20アルケニル基、C1−20ハロアルキル基、またはC1−20アルコキシ基であり;
Yは、それぞれ独立して、2価のC1−6アルキレン基、2価のC1−6ハロアルキレン基、または共有結合である)];
下付きnは0、1、2であり;
下付きoは1〜1000である。]
- 一種以上の請求項1に記載のポリマーが液状媒体に溶解あるいは分散した組成物。
- 一種以上の請求項1に記載のポリマーを含む薄膜半導体。
- 基材と、該基材上に形成された請求項3に記載の薄膜半導体とからなる複合物。
- 請求項4に記載の複合物の製造方法であって、請求項1に記載のポリマーを液状媒体中に溶解または分散させて溶液をつくり、該溶液を基材上に塗布し、溶媒を除去して前記基材上の薄膜半導体を形成する方法。
- 上記溶液が、スピンコーティング、ドロップキャスティング、浸漬塗装、または印刷により塗布される請求項5に記載の方法
- 請求項3の薄膜半導体または請求項4の複合物を含む電界効果トランジスタ装置。
- 請求項3の薄膜半導体または請求項4の複合物を含む光起電装置。
- 請求項3の薄膜半導体または請求項4の複合物を含む有機発光ダイオード装置。
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