JP5771898B2 - 撮像素子及びカメラ - Google Patents
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Description
第11の態様による撮像装置は、前記第9又は第10の態様において、前記接続孔は、前記第2の配線の長さ方向に沿って形成されるものである。
第12の態様による撮像装置は、前記第11の態様において、前記接続孔は、複数形成されるものである。
第13の態様による撮像装置は、前記第9乃至第12のいずれかの態様において、前記第2の配線の面積と前記接続孔の面積とは、ほぼ同じであるものである。
第14の態様によるカメラは、前記第1乃至第13のいずれかの態様による撮像装置と、前記熱伝導パターンに接触する熱伝導部材と、前記撮像装置及び前記熱伝導部材を収容するとともに前記熱伝導部材と熱的に接続される筐体と、を備えるものである。
第15の態様によるカメラは、前記第14の態様において、前記熱伝導部材は、前記撮像装置を前記筐体に取り付けるための取付部材であるものである。
第16の態様による撮像装置は、複数の画素を有する画素部が形成された第1半導体基板と、前記第1半導体基板と接続される半導体基板であってアナログ信号をデジタル信号に変換するAD変換回路を含む回路部と前記回路部と接続される第2の配線と前記第2の配線に接続される導電部とが形成された第2半導体基板と、前記第2半導体基板の入射側において対向して配置される基板であって、前記導電部と電気的に接続され、前記撮像素子で生成した信号を出力する第1の配線が設けられた第1面と前記第1面とは反対側の面であって前記導電部と熱的に接続され、前記第2半導体基板で発生した熱を伝達する熱伝導パターンが前記第2半導体基板を覆うように設けられた第2面とを有する基板と、を備えるものである。
第17の態様による撮像装置は、前記第16の態様において、前記熱伝導パターンは、絶縁性材料で形成されているものである。
第18の態様による撮像装置は、前記第16の態様において、前記基板は、前記第1の配線と前記熱伝導パターンとを熱的に接続する貫通孔を有するものである。
第19の態様による撮像装置は、前記第16の態様において、前記熱伝導パターンは、導電性材料で形成され、前記基板は、絶縁性材料が埋設された貫通孔を有し、前記第1の配線と前記熱伝導パターンとは、前記貫通孔を介して熱的に接続するものである。
第20の態様によるカメラは、前記第16乃至第19のいずれかの態様による撮像装置と、前記熱伝導パターンに接触する熱伝導部材と、前記撮像装置及び前記熱伝導部材を収容するとともに前記熱伝導部材と熱的に接続される筐体と、を備えるものである。
図1(a)は、本発明の第1の実施の形態による固体撮像装置1を模式的に示す概略断面図である。図1(b)は、図1(a)中の一部を拡大した拡大図である。図2は、図1中の固体撮像素子11の接続孔28を模式的に示す概略平面図である。
図3は、本発明の第2の実施の形態による固体撮像装置51を模式的に示す概略断面図であり、図1に対応している。図4は、図1に示す固体撮像装置51の概略平面図である。図5は、図3中の固体撮像素子11の接続孔28を模式的に示す概略平面図であり、図2に対応している。図6は、図3中のガラス基板12を模式的に示す概略平面図である。ただし、図6は、ガラス基板12における固体撮像素子11と重なる部分付近のみを示している。図3乃至図6において、図1及び図2中の要素と同一又は対応する要素には同一符号を付し、その重複する説明は省略する。本実施の形態による固体撮像装置51が前記第1の実施の形態による固体撮像装置1と異なる所は、以下に説明する点のみである。
図7は、本発明の第3の実施の形態による固体撮像装置71を模式的に示す概略一部断面図であり、図3に対応している。図7において、図3中の要素と同一又は対応する要素には同一符号を付し、その重複する説明は省略する。本実施の形態による固体撮像装置71が前記第2の実施の形態による固体撮像装置51と異なる所は、以下に説明する点のみである。
11 固体撮像素子
12 ガラス基板(透明基板)
21 半導体基板
26 配線層
27 絶縁層
28 接続孔
29 導電部
30 電極
31 配線パターン(導体パターン)
33 バンプ(接続部)
61 熱伝導パターン
62 熱伝導部材
X 画素部
Y 周辺回路部
Claims (20)
- 複数の画素を有する画素部と前記画素部の周囲に形成され、前記画素と接続される回路素子と前記回路素子と接続される第2の配線と前記第2の配線に接続される導電部とを有する周辺回路部とを含む撮像素子と、
前記撮像素子の入射側において前記周辺回路部に対向して配置される基板であって、前記導電部と電気的に接続され、前記撮像素子で生成した信号を出力する第1の配線が設けられた第1面と前記第1面とは反対側の面であって前記導電部と熱的に接続され、前記撮像素子で発生した熱を伝達する熱伝導パターンが前記周辺回路部を覆うように設けられた第2面とを有する基板と、
を備えることを特徴とする撮像装置。 - 請求項1に記載の撮像装置において、
前記熱伝導パターンは、絶縁性材料で形成されていることを特徴とする撮像装置。 - 請求項1又は請求項2に記載の撮像装置において、
前記基板は、前記第1の配線と前記熱伝導パターンとを熱的に接続する貫通孔を有することを特徴とする撮像装置。 - 請求項1に記載の撮像装置において、
前記熱伝導パターンは、導電性材料で形成され、
前記基板は、絶縁性材料が埋設された貫通孔を有し、
前記第1の配線と前記熱伝導パターンとは、前記貫通孔を介して熱的に接続することを特徴とする撮像装置。 - 請求項3又は請求項4に記載の撮像装置において、
前記貫通孔は、前記基板において前記導電部に対応する位置に形成されていることを特徴とする撮像装置。 - 請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の撮像装置において、
前記第2の配線は、前記回路素子へ入射する光を遮光する遮光膜であることを特徴とする撮像装置。 - 請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の撮像装置において、
前記周辺回路部及び前記基板を封止する絶縁性封止材を備えることを特徴とする撮像装置。 - 請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の撮像装置において、
前記第2の配線は、前記周辺回路部に形成された絶縁膜に設けられていることを特徴とする撮像装置。 - 請求項8に記載の撮像装置において、
前記導電部は、前記絶縁膜に形成された接続孔に設けられていることを特徴とする撮像装置。 - 請求項9に記載の撮像装置において、
前記導電部は、前記絶縁膜の表層に電極を有し、
前記電極と前記第1の配線とを電気的に接続する接続部を備えることを特徴とする撮像装置。 - 請求項9又は請求項10に記載の撮像装置において、
前記接続孔は、前記第2の配線の長さ方向に沿って形成されることを特徴とする撮像装置。 - 請求項11に記載の撮像装置において、
前記接続孔は、複数形成されることを特徴とする撮像装置。 - 請求項9から請求項12のいずれか一項に記載の撮像装置において、
前記第2の配線の面積と前記接続孔の面積とは、ほぼ同じであることを特徴とする撮像装置。 - 請求項1から請求項13のいずれか一項に記載の撮像装置と、
前記熱伝導パターンに接触する熱伝導部材と、
前記撮像装置及び前記熱伝導部材を収容するとともに前記熱伝導部材と熱的に接続される筐体と、
を備えることを特徴とするカメラ。 - 請求項14に記載のカメラにおいて、
前記熱伝導部材は、前記撮像装置を前記筐体に取り付けるための取付部材であることを特徴とするカメラ。 - 複数の画素を有する画素部が形成された第1半導体基板と、
前記第1半導体基板と接続される半導体基板であってアナログ信号をデジタル信号に変換するAD変換回路を含む回路部と前記回路部と接続される第2の配線と前記第2の配線に接続される導電部とが形成された第2半導体基板と、
前記第2半導体基板の入射側において対向して配置される基板であって、前記導電部と電気的に接続され、前記撮像素子で生成した信号を出力する第1の配線が設けられた第1面と前記第1面とは反対側の面であって前記導電部と熱的に接続され、前記第2半導体基板で発生した熱を伝達する熱伝導パターンが前記第2半導体基板を覆うように設けられた第2面とを有する基板と、
を備えることを特徴とする撮像装置。 - 請求項16に記載の撮像装置において、
前記熱伝導パターンは、絶縁性材料で形成されていることを特徴とする撮像装置。 - 請求項16に記載の撮像装置において、
前記基板は、前記第1の配線と前記熱伝導パターンとを熱的に接続する貫通孔を有することを特徴とする撮像装置。 - 請求項16に記載の撮像装置において、
前記熱伝導パターンは、導電性材料で形成され、
前記基板は、絶縁性材料が埋設された貫通孔を有し、
前記第1の配線と前記熱伝導パターンとは、前記貫通孔を介して熱的に接続することを特徴とする撮像装置。 - 請求項16から請求項19のいずれか一項に記載の撮像装置と、
前記熱伝導パターンに接触する熱伝導部材と、
前記撮像装置及び前記熱伝導部材を収容するとともに前記熱伝導部材と熱的に接続される筐体と、
を備えることを特徴とするカメラ。
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