JP5758993B2 - Alignment apparatus and alignment method - Google Patents

Alignment apparatus and alignment method Download PDF

Info

Publication number
JP5758993B2
JP5758993B2 JP2013517951A JP2013517951A JP5758993B2 JP 5758993 B2 JP5758993 B2 JP 5758993B2 JP 2013517951 A JP2013517951 A JP 2013517951A JP 2013517951 A JP2013517951 A JP 2013517951A JP 5758993 B2 JP5758993 B2 JP 5758993B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alignment
inert gas
rotation
rotating
support means
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013517951A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2012165142A1 (en
Inventor
泰弘 瀧本
泰弘 瀧本
浩明 月本
浩明 月本
藤田 大輔
大輔 藤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tazmo Co Ltd
Original Assignee
Tazmo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tazmo Co Ltd filed Critical Tazmo Co Ltd
Priority to JP2013517951A priority Critical patent/JP5758993B2/en
Publication of JPWO2012165142A1 publication Critical patent/JPWO2012165142A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5758993B2 publication Critical patent/JP5758993B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6838Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、アライメント装置およびアライメント方法に関し、より詳しくは、吸着回転手段を備えるアライメント装置、および吸着回転手段を用いたアライメント方法に関する。   The present invention relates to an alignment apparatus and an alignment method, and more particularly, to an alignment apparatus including a suction rotation unit and an alignment method using the suction rotation unit.

基板等に精密な加工を行う際、加工前に加工対象の基板等のアライメント(位置の調整)をしておくことは有用である。例えば、特許文献1に記載のようなダイシングテープが貼付された基板について、ダイシング前にアライメントすることにより、首尾よくダイシングを行うことが出来る。   When performing precise processing on a substrate or the like, it is useful to perform alignment (position adjustment) of the substrate to be processed before processing. For example, dicing can be successfully performed by aligning a dicing tape as described in Patent Document 1 before dicing.

アライメントのためのアライメント装置にはいくつか種類がある。そのうちの一つとして、アライメント対象物(例えば、基板)を回転させ、回転中のアライメント対象物の位置を検出して、目的とする位置と検出した位置との差に基づいてアライメント対象物を移動させることにより、アライメントを行うアライメント装置がある。   There are several types of alignment devices for alignment. As one of them, the alignment object (for example, a substrate) is rotated, the position of the rotating alignment object is detected, and the alignment object is moved based on the difference between the target position and the detected position. Thus, there is an alignment apparatus that performs alignment.

前記アライメント装置について詳しく説明する。前記アライメント装置では、まず、基板(アライメント対象物)の中央付近をスピンチャックが吸着し、当該基板を回転させる。そして、前記基板に対して、基板の表面側から光を照射し、裏面側において光を検出することにより、光を照射した位置に基板が存在するか否かを判定する。前記基板は回転しているので、上述の光の照射および検出を継続して行うことにより、前記基板全体の位置を確認することが出来る。前記アライメント装置は、以上のように、前記基板の位置を検出して、目的とする位置と検出した位置との差に基づいてアライメント対象物を移動させることにより、アライメントを行う。   The alignment apparatus will be described in detail. In the alignment apparatus, first, a spin chuck adsorbs near the center of a substrate (alignment target), and the substrate is rotated. Then, the substrate is irradiated with light from the front surface side of the substrate, and light is detected on the back surface side to determine whether or not the substrate exists at the position where the light is irradiated. Since the substrate is rotating, the position of the entire substrate can be confirmed by continuously performing the above-described irradiation and detection of light. As described above, the alignment apparatus performs alignment by detecting the position of the substrate and moving the alignment object based on the difference between the target position and the detected position.

しかしながら、上述したアライメント装置において、アライメントの精度が低下する場合がある。   However, in the above-described alignment apparatus, the alignment accuracy may decrease.

すなわち、スピンチャックは、通常、アライメント対象物の中央付近のみを吸着するため、アライメント対象物の外周部分において自重による撓み等の変形が生じる場合がある。この場合には、前記変形に伴いアライメント対象物の端部の位置等がずれるため、上述したアライメント装置では前記基板の位置を正確に検出することができない。そのため、アライメントの精度が低下する。   That is, since the spin chuck normally adsorbs only the vicinity of the center of the alignment target object, deformation such as bending due to its own weight may occur in the outer peripheral portion of the alignment target object. In this case, since the position of the end of the alignment object is shifted with the deformation, the above-described alignment apparatus cannot accurately detect the position of the substrate. As a result, the alignment accuracy decreases.

特に、特許文献1に記載のような、ダイシングテープが貼付された基板は、ダイシングテープのみからなる部分が自重で撓み易く、この問題が顕著となる。そこで、特許文献2には、ダイシングテープの外周部を裏側から支持する支持手段を設けることが提案されている。   In particular, a substrate on which a dicing tape is affixed as described in Patent Document 1 is easily bent due to its own weight, and this problem becomes significant. Therefore, Patent Document 2 proposes providing a support means for supporting the outer peripheral portion of the dicing tape from the back side.

しかしながら、特許文献2の支持手段はダイシングテープの裏面に接触しているため、アライメント対象物の回転時に摩擦が作用し、スピンチャックに負荷が掛かり、消費電力が大きくなる問題があった。   However, since the support means of Patent Document 2 is in contact with the back surface of the dicing tape, there is a problem that friction acts when the alignment target object rotates, and a load is applied to the spin chuck, resulting in an increase in power consumption.

特開2006−135272号公報JP 2006-135272 A 特開2011−3837号公報JP 2011-3837 A

本発明は前記課題に鑑みてなされたものであり、アライメント対象物の変形を抑制し、高精度のアライメントを低負荷で行うアライメント技術を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an alignment technique that suppresses deformation of an alignment target and performs high-precision alignment with a low load.

本発明のアライメント装置は、吸着回転手段支持手段、位置検出手段を備える。吸着回転手段は、上面の外周部を環状のダイシングフレームに保持されたダイシングテープにおける前記ダイシングフレームよりも内側の部分に貼付されたアライメント対象物の底面を吸着して回転する。支持手段は、吸着回転手段が吸着している位置とは異なる位置において不活性ガスを噴出し、回転する前記アライメント対象物を噴出される前記不活性ガスにより支持する。支持手段は、ダイシングフレームの底面側における等間隔の4箇所に対向する位置に、不活性ガスを上向きに噴出するノズルを配置している。位置検出手段は、アライメント対象物の位置を検出する。位置検出手段は、4箇所のノズルのうち隣り合う2つのノズルの中間の位置に配置されている。 The alignment apparatus of the present invention includes a suction rotation means , a support means , and a position detection means . The suction rotation means rotates by sucking the bottom surface of the alignment object attached to the inner part of the dicing tape in the dicing tape held on the annular dicing frame at the outer periphery of the upper surface . The support means ejects the inert gas at a position different from the position where the adsorption rotation means is adsorbed, and supports the rotating alignment object by the ejected inert gas. The support means is arranged with nozzles for injecting an inert gas upward at positions facing four equally spaced locations on the bottom side of the dicing frame. The position detection means detects the position of the alignment object. The position detection means is arranged at a position intermediate between two adjacent nozzles among the four nozzles.

また、本発明のアライメント方法は、上面の外周部を環状のダイシングフレームに保持されたダイシングテープにおけるダイシングフレームよりも内側の部分に貼付されたアライメント対象物の底面を吸着して回転する吸着回転手段と、
吸着回転手段が吸着している位置とは異なる位置において不活性ガスを噴出し、回転するアライメント対象物を不活性ガスにより支持する支持手段であって、ダイシングフレームの底面側における等間隔の4箇所に対向する位置に、不活性ガスを上向きに噴出するノズルを配置した支持手段と、
アライメント対象物の位置を検出する位置検出手段と、
支持手段を、吸着回転手段が吸着しているダイシングテープの底面よりもノズルから噴出された不活性ガスがダイシングテープの底面との間に形成する空気層の高さだけ下方の回転時の位置と、回転時の位置よりもさらに下方の搬送時の位置と、の間で、移動させる昇降手段と、を準備し、
昇降手段によって支持手段を搬送時の位置に位置させた状態で、アライメント対象物の底面前記吸着回転手段により吸着させる吸着工程と、昇降手段によって支持手段を回転時の位置に位置させた状態で、支持手段のノズルから不活性ガスを噴出してアライメント対象物を支持しつつ、吸着回転手段を回転させることにより、アライメント対象物を回転させる回転工程と、回転する前記アライメント対象物の位置を位置検出手段によって検出する位置検出工程と、アライメント対象物を移動させる位置調整工程と、を含む。
Further, the alignment method of the present invention is a suction rotating means for sucking and rotating the bottom surface of the alignment target object attached to the inner part of the dicing frame in the dicing tape held on the annular dicing frame at the outer periphery of the upper surface. When,
The support means for injecting the inert gas at a position different from the position where the adsorption rotating means is adsorbing, and supporting the rotating alignment target object by the inert gas, and is provided at four positions at equal intervals on the bottom side of the dicing frame Support means in which a nozzle for injecting an inert gas upward is disposed at a position opposite to
Position detecting means for detecting the position of the alignment object;
The position of the support means when rotating is lower by the height of the air layer formed between the bottom surface of the dicing tape and the inert gas ejected from the nozzle than the bottom surface of the dicing tape adsorbed by the adsorption rotation means. Elevating means for moving between a position at the time of conveyance further lower than a position at the time of rotation,
The support means in a state of being positioned in position during transportation by the elevating means, an adsorption step of adsorbing the bottom surface of the alignment target by the attraction rotating means, in a state of being positioned in a position at the time of rotating the support means by the elevating means Rotating the alignment target object by rotating the suction rotation means while ejecting an inert gas from the nozzle of the support means to support the alignment target object, and positioning the position of the rotating alignment target object A position detection step of detecting by the detection means, and a position adjustment step of moving the alignment object.

本発明によると、支持手段によりアライメント対象物におる吸着回転手段が吸着されていない部分を支持して、その部分におけるアライメント対象物の自重による撓み等の変形を抑制することが出来る。また、支持手段は噴出される不活性ガスによりアライメント対象物を浮き上がるように支持するため、アライメント対象物に作用する摩擦がほとんどなく、吸着回転手段へ掛かる負荷が軽減される。さらに、アライメント対象物に固形物が接触することによるアライメント対象物の傷つきも防止出来る。   According to the present invention, it is possible to support a portion of the alignment target object on which the suction rotation means is not attracted by the support means, and to suppress deformation such as bending due to the weight of the alignment target object in that portion. Further, since the support means supports the alignment object so as to be lifted by the jetted inert gas, there is almost no friction acting on the alignment object, and the load applied to the suction rotation means is reduced. Furthermore, the alignment target object can be prevented from being damaged due to the solid object coming into contact with the alignment target object.

本発明によれば、アライメント対象物の変形を抑制し、高精度のアライメントを低負荷で行うことが出来る。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the deformation | transformation of an alignment target object can be suppressed and highly accurate alignment can be performed with a low load.

本発明の一実施形態に係るアライメント装置の概略構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically schematic structure of the alignment apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るアライメント装置の概略構成を模式的に示す斜視図である。1 is a perspective view schematically showing a schematic configuration of an alignment apparatus according to an embodiment of the present invention. 図3(A)、図3(B)は本発明の一実施形態に係るアライメント装置にアライメント対象物を搬送する概略動作を模式的に示す断面図である。FIG. 3A and FIG. 3B are cross-sectional views schematically showing a schematic operation for conveying an alignment target object to the alignment apparatus according to one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係るアライメント装置のスピンチャック位置調整部の概略構成を模式的に示す上面図である。It is a top view which shows typically schematic structure of the spin chuck position adjustment part of the alignment apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るアライメント装置の概略機能を模式的に説明するブロック図である。FIG. 2 is a block diagram schematically illustrating an outline function of an alignment apparatus according to an embodiment of the present invention.

本発明の一実施形態に係るアライメント装置について、図1〜図5を参照して説明する。アライメント装置100は、アライメント対象物10のアライメント(位置合わせ)を行う装置である。図1は、アライメント装置100の概略構成を模式的に示す断面図である。本発明の一実施形態に係るアライメント装置の概略構成を模式的に示す斜視図である。図2は、本発明の一実施形態に係るアライメント装置の概略構成を模式的に示す斜視図である。   An alignment apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The alignment apparatus 100 is an apparatus that performs alignment (position alignment) of the alignment target object 10. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a schematic configuration of the alignment apparatus 100. 1 is a perspective view schematically showing a schematic configuration of an alignment apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a perspective view schematically showing a schematic configuration of the alignment apparatus according to the embodiment of the present invention.

図1に示すように、アライメント装置100の筐体101は、アライメント対象物10を吸着して回転させるスピンチャック(吸着回転手段)110を備えている。   As shown in FIG. 1, the housing 101 of the alignment apparatus 100 includes a spin chuck (suction rotation means) 110 that sucks and rotates the alignment target object 10.

筐体101にはまた、撮像部120を支える構造体である構造体であるブリッジ102が設けられている。撮像部120は、筐体101内に設けられた主制御部150(図示せず)の画像認識部156のアライメント対象物10(厳密には、基板11)の位置検出手段を構成している。画像認識部156は、撮像部120の撮像した画像を認識して、アライメント対象物10の位置を検出する。   The casing 101 is also provided with a bridge 102 that is a structure that is a structure that supports the imaging unit 120. The imaging unit 120 constitutes a position detection unit of the alignment object 10 (strictly, the substrate 11) of the image recognition unit 156 of the main control unit 150 (not shown) provided in the housing 101. The image recognition unit 156 recognizes the image captured by the imaging unit 120 and detects the position of the alignment target object 10.

アライメント装置100はさらに、スピンチャック110が吸着している位置とは異なる位置において、回転するアライメント対象物10を噴出される不活性ガスにより支持する支持部(支持手段)130を備えている。   The alignment apparatus 100 further includes a support portion (support means) 130 that supports the rotating alignment object 10 with an inert gas ejected at a position different from the position where the spin chuck 110 is adsorbed.

アライメント装置100は、このような支持部130を備えているため、回転するアライメント対象物10におけるスピンチャック110によって吸着されてない外周部分を支持して、その部分におけるアライメント対象物10の自重による撓み等の変形を抑制することが出来る。これにより、アライメント装置100は、アライメント対象物の変形に起因するアライメント対象物10の位置検出における精度の低下を回避し、高精度のアライメントを行うことが出来る。   Since the alignment apparatus 100 includes such a support portion 130, the alignment device 100 supports the outer peripheral portion of the rotating alignment target object 10 that is not attracted by the spin chuck 110, and the alignment target object 10 is bent by its own weight. Etc. can be suppressed. Thereby, the alignment apparatus 100 can avoid the fall of the precision in the position detection of the alignment target object 10 resulting from a deformation | transformation of the alignment target object, and can perform highly accurate alignment.

図1に示すように、本実施形態に係るアライメント対象物10は、基板11が、基板11よりも大きいダイシングテープ(フィルム)12に貼付された構成を有しており、ダイシングテープ12は、外枠であるダイシングフレーム13によって保持されている(以上、図1および図2参照。)。したがって、図2に示すように、支持部130は、ダイシングテープ12における基板11が貼付されていない部分を少なくとも支持し、ダイシングフレーム13はその支持部分を押えるようになっていることが好ましい。これにより、柔軟で変形の起こりやすいダイシングテープ12を支持してアライメント対象物10の変形を抑制することが可能となる。   As shown in FIG. 1, an alignment target object 10 according to the present embodiment has a configuration in which a substrate 11 is attached to a dicing tape (film) 12 that is larger than the substrate 11. It is held by a dicing frame 13 which is a frame (see FIGS. 1 and 2 above). Therefore, as shown in FIG. 2, it is preferable that the support portion 130 supports at least a portion of the dicing tape 12 where the substrate 11 is not attached, and the dicing frame 13 presses the support portion. Accordingly, it is possible to support the dicing tape 12 that is flexible and easily deformed, and to suppress deformation of the alignment target object 10.

前記のように、アライメント装置100は、位置検出手段に撮像部120および画像認識部156を採用することで、位置検出対象である基板11の素材がガラスであってもシリコンであっても(場合によってはガラスとシリコンの積層基板であっても)対応可能である。また、光学的な位置検出ではないので、ダイシングテープ12が不透光な素材や色でも良い。 As described above, the alignment apparatus 100, the use of the imaging unit 120 and the image recognition unit 156 to the position detecting means, also the material of the position detection target der Ru board 11 is a silicon be a glass (In some cases, even a laminated substrate of glass and silicon) can be used. In addition, since the optical position is not detected, the dicing tape 12 may be an opaque material or color.

スピンチャック110は、真空ポンプ等の機構によりアライメント対象物10を真空吸着して、吸着された状態のアライメント対象物10を吸着面の面内方向に回転させることが出来るものであれば良い。例えば、一般的な真空チャックおよびモータから構成されるスピンチャックを用いることが出来る。   The spin chuck 110 only needs to be capable of vacuum-sucking the alignment target object 10 by a mechanism such as a vacuum pump and rotating the suctioned alignment target object 10 in the in-plane direction of the suction surface. For example, a spin chuck composed of a general vacuum chuck and a motor can be used.

また、アライメント装置100は、スピンチャック110を前記吸着面の面内方向に移動させるスピンチャック位置調整部111を備えている。アライメント装置100は、位置検出手段が検出したアライメント対象物10の位置に基づいて、スピンチャック位置調整部111によりスピンチャック110を移動させることによって、アライメント対象物10を目的の位置へとアライメントする。   The alignment apparatus 100 further includes a spin chuck position adjustment unit 111 that moves the spin chuck 110 in the in-plane direction of the suction surface. The alignment apparatus 100 aligns the alignment target object 10 to a target position by moving the spin chuck 110 by the spin chuck position adjusting unit 111 based on the position of the alignment target object 10 detected by the position detection unit.

支持部130は、スピンチャック110が吸着している位置とは異なる位置において、回転するアライメント対象物10を噴出される不活性ガスにより支持するものである。   The support unit 130 supports the rotating alignment target object 10 with an inert gas ejected at a position different from the position where the spin chuck 110 is adsorbed.

このような支持部130は、例えば、アライメント対象物10に前記異なる位置において不活性ガスを噴出するノズル131を備えており、ノズル131から不活性ガスが噴出される方向が重力方向とは反対方向であることが好ましい。このように、支持部130は、アライメント対象物10におけるスピンチャック110によって吸着されていない部分に対して、重力方向とは反対方向のベクトル成分を有する力をノズル131から噴出される不活性ガスにより加えて、その部分におけるアライメント対象物10の自重による撓み等の変形を抑制することが出来る。   Such a support part 130 includes, for example, a nozzle 131 that ejects an inert gas to the alignment object 10 at the different positions, and the direction in which the inert gas is ejected from the nozzle 131 is opposite to the direction of gravity. It is preferable that As described above, the support unit 130 applies a force having a vector component in the direction opposite to the gravitational direction to the portion of the alignment target 10 that is not attracted by the spin chuck 110 by the inert gas ejected from the nozzle 131. In addition, deformation such as bending due to the weight of the alignment target object 10 in that portion can be suppressed.

前記ノズル131の形状は限定されない。また、ノズル131を複数設ける場合は、その数および配置は限定されない。本実施の形態では、図2に示すように、ノズル131は箱形状を呈し、その数は4つである。4つのノズル131は、スピンチャック110の外側に、円周方向に90°の間隔で配置されている。ノズル131の上面には、アライメント対象物10の外周部に対応する箇所に微少な噴出孔が多数設けられている。   The shape of the nozzle 131 is not limited. Further, when a plurality of nozzles 131 are provided, the number and arrangement thereof are not limited. In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the nozzles 131 have a box shape, and the number thereof is four. The four nozzles 131 are arranged outside the spin chuck 110 at intervals of 90 ° in the circumferential direction. On the upper surface of the nozzle 131, a number of minute ejection holes are provided at locations corresponding to the outer peripheral portion of the alignment object 10.

ノズル131には、ガス供給部(不図示)133が設けられる。ガス供給部133は、例えば、不活性ガスを収容するガスボンベ(不図示)、ガスボンベとノズル131との間を接続し、ガスボンベから吐出される不活性ガスをノズル131へ供給するガス管(不図示)、およびガス管を流通する不活性ガスの流量を調整する流量調整器(不図示)を備えている。なお、流量調整器は、電磁弁で構成しても良い。ガス供給部133は、ガス供給制御部151(図5参照。)の指令に基づいて、不活性ガスを非常に大きな流速でノズル131に供給するように構成される。   The nozzle 131 is provided with a gas supply unit (not shown) 133. The gas supply unit 133 is, for example, a gas cylinder (not shown) that contains an inert gas, a gas pipe (not shown) that connects the gas cylinder and the nozzle 131 and supplies the inert gas discharged from the gas cylinder to the nozzle 131. ) And a flow rate regulator (not shown) for adjusting the flow rate of the inert gas flowing through the gas pipe. In addition, you may comprise a flow regulator with a solenoid valve. The gas supply unit 133 is configured to supply the inert gas to the nozzle 131 at a very high flow rate based on a command from the gas supply control unit 151 (see FIG. 5).

支持部130はまた、ノズル131をアライメント対象物10から離接する方向に移動させる昇降ステージ132を備えている。本実施形態において、ノズル131は、昇降ステージ132上に設けられているため、昇降ステージ132が上下に移動するのに伴って、上下方向、言い換えれば、アライメント対象物10に対して離接する方向に移動する。昇降ステージ132は、例えば、一般的な電動ステージ等によって構成することが出来る。   The support unit 130 also includes an elevating stage 132 that moves the nozzle 131 in a direction away from and in contact with the alignment object 10. In the present embodiment, since the nozzle 131 is provided on the lifting stage 132, as the lifting stage 132 moves up and down, in the up and down direction, in other words, in the direction of separating from and contacting the alignment target object 10. Moving. The raising / lowering stage 132 can be comprised by a general electric stage etc., for example.

図3(A),(B)は、昇降ステージ132の動作を模式的に説明する断面図である。アライメント装置100に対するアライメント対象物10の搬送は、ロボットアーム50を用いて行われる。ロボットアーム50は、吸盤等によりアライメント対象物10の端のダイシングフレーム13部分を保持して、前工程の処理装置からアライメント装置100へとアライメント対象物10を搬送する。   FIGS. 3A and 3B are cross-sectional views for schematically explaining the operation of the elevating stage 132. The alignment object 10 is transported to the alignment apparatus 100 using the robot arm 50. The robot arm 50 holds the dicing frame 13 portion at the end of the alignment target object 10 with a sucker or the like, and conveys the alignment target object 10 from the processing apparatus in the previous process to the alignment apparatus 100.

このとき、図3(A)に示すように、スピンチャック110およびアライメント対象物10が接する位置と、ノズル131の上面とが同一平面内にある(同じ高さである)と、アライメント対象物10(のダイシングテープ12)が自重により撓む等の変形が生じたとき、アライメント対象物10(の基板11が重なる部分)のスピンチャック110への載置が円滑に行われない場合があり、その場合は、アライメント対象物10をスピンチャック110に首尾良く吸着させることが出来ない。   At this time, as shown in FIG. 3A, if the position where the spin chuck 110 and the alignment target object 10 are in contact with the upper surface of the nozzle 131 are in the same plane (the same height), the alignment target object 10. When the deformation (such as the dicing tape 12) is bent due to its own weight, the alignment object 10 (the portion where the substrate 11 overlaps) may not be smoothly placed on the spin chuck 110. In this case, the alignment object 10 cannot be successfully attracted to the spin chuck 110.

一方、図3(B)に示すように、アライメント対象物10の搬送の前に、昇降ステージ132が、ノズル131をアライメント対象物10から離れる方向へ移動させておくことによって、アライメント対象物10(の基板11が重なる部分)をスピンチャック110に首尾良く吸着させることが出来る。   On the other hand, as shown in FIG. 3B, before the alignment object 10 is transported, the lifting stage 132 moves the nozzle 131 in a direction away from the alignment object 10, thereby causing the alignment object 10 ( Can be successfully adsorbed to the spin chuck 110.

このように、昇降ステージ132が、ノズル131をアライメント対象物10に対して離接する方向に移動することにより、アライメント対象物10を、首尾良くアライメント装置100内に搬送することが出来る。   As described above, the lifting stage 132 moves in the direction in which the nozzle 131 moves away from or in contact with the alignment target object 10, so that the alignment target object 10 can be successfully transferred into the alignment apparatus 100.

なお、アライメント対象物10がアライメント装置100内に搬送され、スピンチャック110がアライメント対象物10を吸着して回転されるときには、図1に示すように、スピンチャック110およびアライメント対象物10が接する位置よりも、ノズル131の上面が若干低くなるように、昇降ステージ132がノズル131を移動させることが好ましい。これは、アライメント対象物10の自重による変形を、ノズル131から噴出される不活性ガスの空気層により解消し、アライメント対象物10を略水平に保持するためである。   When the alignment target object 10 is transported into the alignment apparatus 100 and the spin chuck 110 is rotated while adsorbing the alignment target object 10, as shown in FIG. 1, the position where the spin chuck 110 and the alignment target object 10 are in contact with each other. It is preferable that the elevating stage 132 moves the nozzle 131 so that the upper surface of the nozzle 131 is slightly lower. This is because deformation due to the weight of the alignment target object 10 is eliminated by the air layer of the inert gas ejected from the nozzle 131, and the alignment target object 10 is held substantially horizontally.

図4は、スピンチャック位置調整部111の概略構成を模式的に示す上面図である。スピンチャック位置調整部111としては、例えば、図4に示すように、スピンチャック110を支持するトレー115、トレー115を水平に支持するL字形の可動板114、可動板114を前記吸着面の面内方向(紙面に沿う方向。)における第1方向(x軸方向。)に直線移動させる第1直線移動手段112、および可動板114を第2方向(y軸方向。)方向に移動させる第2直線移動手段113を備えた構成が挙げられる。このようなスピンチャック位置調整部111によると、第1直線移動手段112および第2直線移動手段113により可動板114をx軸方向およびy軸方向に直線移動させることにより、可動板114の動きに同期してその移動距離に応じてトレー115に支持されたスピンチャック110が吸着面の面内方向に移動する。   FIG. 4 is a top view schematically showing a schematic configuration of the spin chuck position adjusting unit 111. As the spin chuck position adjusting unit 111, for example, as shown in FIG. 4, a tray 115 that supports the spin chuck 110, an L-shaped movable plate 114 that horizontally supports the tray 115, and the movable plate 114 are arranged on the surface of the suction surface. First linear moving means 112 that linearly moves in the first direction (x-axis direction) in the inward direction (direction along the paper surface), and second that moves the movable plate 114 in the second direction (y-axis direction). The structure provided with the linear movement means 113 is mentioned. According to such a spin chuck position adjusting unit 111, the movable plate 114 can be moved by linearly moving the movable plate 114 in the x-axis direction and the y-axis direction by the first linear moving unit 112 and the second linear moving unit 113. Synchronously, the spin chuck 110 supported by the tray 115 moves in the in-plane direction of the suction surface according to the movement distance.

上述したように、アライメント対象物10の位置を検出する位置検出手段は、撮像部120および画像認識部156を含んで構成される。撮像部120はブリッジ102に設けられており、アライメント対象物10を上方から撮像する。   As described above, the position detection unit that detects the position of the alignment target object 10 includes the imaging unit 120 and the image recognition unit 156. The imaging unit 120 is provided on the bridge 102 and images the alignment object 10 from above.

本実施形態においては、撮像部120は、アライメント対象物10の基板11の端部を含む領域を撮像する。また、撮像部120は、基板11に設けられたオリフラ等の角度検出用の印を撮像する。画像認識部156は、撮像部120の撮像した画像に基づいて、アライメント対象物10の中心と、回転中心(すなわち、スピンチャック110の回転中心)とのずれ、および回転角度を算出する。これにより、アライメント対象物10の位置を検出することが出来る。   In the present embodiment, the imaging unit 120 images a region including the end portion of the substrate 11 of the alignment target object 10. The imaging unit 120 captures an angle detection mark such as an orientation flat provided on the substrate 11. The image recognizing unit 156 calculates a deviation and a rotation angle between the center of the alignment object 10 and the rotation center (that is, the rotation center of the spin chuck 110) based on the image captured by the imaging unit 120. Thereby, the position of the alignment target object 10 can be detected.

アライメント装置100の概略動作を以下に説明する。図5は、アライメント装置の概略機能を模式的に説明するブロック図である。図5に示すように、アライメント装置100の主制御部150は、ガス供給制御部151、昇降ステージ制御部152、スピンチャック制御部154および画像認識部156を備えている。   A schematic operation of the alignment apparatus 100 will be described below. FIG. 5 is a block diagram schematically illustrating the schematic function of the alignment apparatus. As shown in FIG. 5, the main control unit 150 of the alignment apparatus 100 includes a gas supply control unit 151, an elevating stage control unit 152, a spin chuck control unit 154, and an image recognition unit 156.

まず、アライメント装置100に、アライメント対象物10が搬入されると、スピンチャック制御部154は、スピンチャック110にアライメント対象物10を吸着させ、回転させる。このとき、ガス供給制御部151が、ガス供給部133を制御することにより、矢印134(図1参照。)に示すように不活性ガスがノズル131に供給され、その噴出孔より矢印135(図1参照。)に示すように不活性ガスが上方へ噴出される。噴出される不活性ガスによりアライメント対象物10の外周部が支持され、アライメント対象物10が変形することを防ぐ。また、アライメント対象物10は浮き上がるように支持されるため、アライメント対象物10に作用する摩擦がほとんどなく、スピンチャック110へ掛かる負荷が軽減される。   First, when the alignment object 10 is carried into the alignment apparatus 100, the spin chuck control unit 154 causes the alignment object 10 to be attracted to the spin chuck 110 and rotated. At this time, the gas supply control unit 151 controls the gas supply unit 133 so that the inert gas is supplied to the nozzle 131 as shown by the arrow 134 (see FIG. 1), and the arrow 135 (see FIG. Inert gas is spouted upward as shown in FIG. The outer peripheral part of the alignment target object 10 is supported by the jetted inert gas, and the alignment target object 10 is prevented from being deformed. Moreover, since the alignment target object 10 is supported so that it floats, there is almost no friction which acts on the alignment target object 10, and the load concerning the spin chuck 110 is reduced.

続いて、画像認識部156は、撮像部120により基板11を撮像する。画像認識部156は、撮像部120の撮像した画像を取得して、当該画像に基づき、アライメント対象物10の位置と、主制御部150にあらかじめ入力されたアライメントの目的の位置との差を算出して、当該差を示す情報をスピンチャック制御部154に送信する。スピンチャック制御部154は、受信した前記差が解消されるように、スピンチャック110およびスピンチャック位置調整部111を制御する。以上により、アライメント装置100は、アライメント対象物10のアライメントを行うことが出来る。   Subsequently, the image recognition unit 156 images the substrate 11 by the imaging unit 120. The image recognizing unit 156 acquires an image captured by the image capturing unit 120 and calculates a difference between the position of the alignment target object 10 and the target position of alignment input in advance to the main control unit 150 based on the image. Then, information indicating the difference is transmitted to the spin chuck controller 154. The spin chuck control unit 154 controls the spin chuck 110 and the spin chuck position adjustment unit 111 so that the received difference is eliminated. As described above, the alignment apparatus 100 can perform alignment of the alignment target object 10.

アライメント装置100の主制御部150は、ハードウエアロジックによって構成すればよい。または、次のように、CPU(Central Processing Unit)を用いてソフトウエアによって実現しても良い。   The main control unit 150 of the alignment apparatus 100 may be configured by hardware logic. Alternatively, it may be realized by software using a CPU (Central Processing Unit) as follows.

すなわち、主制御部150は、各機能を実現するプログラムの命令を実行するMPUなどのCPU、このプログラムを格納したROM(Read Only Memory)、前記プログラムを実行可能な形式に展開するRAM(Random Access Memory)、および、前記プログラムおよび各種データを格納するメモリ等の記憶装置(記憶媒体)を備えている。   That is, the main control unit 150 includes a CPU such as an MPU that executes instructions of a program that realizes each function, a ROM (Read Only Memory) that stores the program, and a RAM (Random Access) that expands the program into an executable format. Memory) and a storage device (storage medium) such as a memory for storing the program and various data.

そして、本発明の目的は、主制御部150のプログラムメモリに固定的に担持されている場合に限らず、前記プログラムのプログラムコード(実行形式プログラム、中間コードプログラム、または、ソースプログラム)を記録した記録媒体を装置に供給し、装置が前記記録媒体に記録されている前記プログラムコードを読み出して実行することによっても、達成可能である。   The object of the present invention is not limited to the case where the program is stored in the program memory of the main control unit 150, but the program code of the program (executable program, intermediate code program, or source program) is recorded. This can also be achieved by supplying a recording medium to the apparatus, and reading and executing the program code recorded on the recording medium.

上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The above description of the embodiment is to be considered in all respects as illustrative and not restrictive. The scope of the present invention is shown not by the above embodiments but by the claims. Furthermore, the scope of the present invention is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of the claims.

10−アライメント対象物
11−基板
12−ダイシングテープ(フィルム)
13−ダイシングフレーム
50−ロボットアーム
100−アライメント装置
101−筐体
102−ブリッジ
110−スピンチャック(吸着回転手段)
111−スピンチャック位置調整部
120−撮像部
130−支持部(支持手段)
133−ガス供給部
150−主制御部
151−ガス供給制御部
152−昇降ステージ制御部
154−スピンチャック制御部
156−画像認識部
10-Alignment object 11-Substrate 12-Dicing tape (film)
13-Dicing frame 50-Robot arm 100-Alignment device 101-Case 102-Bridge 110-Spin chuck (adsorption rotation means)
111-spin chuck position adjustment unit 120-imaging unit 130-support unit (support means)
133-Gas supply unit 150-Main control unit 151-Gas supply control unit 152-Lifting stage control unit 154-Spin chuck control unit 156-Image recognition unit

Claims (3)

上面の外周部を環状のダイシングフレームに保持されたダイシングテープにおける前記ダイシングフレームよりも内側の部分に貼付されたアライメント対象物の底面を吸着して回転する吸着回転手段と、
前記吸着回転手段が吸着している位置とは異なる位置において不活性ガスを噴出し、回転する前記アライメント対象物を噴出される前記不活性ガスにより支持する支持手段と、
前記アライメント対象物の位置を検出する位置検出手段と、を備え、
前記支持手段は、前記ダイシングフレームの底面側における等間隔の4箇所に対向する位置に、前記不活性ガスを上向きに噴出するノズルを配置し、
前記位置検出手段は、前記4箇所の前記ノズルのうち隣り合う2つのノズルの中間の位置に配置したアライメント装置。
An adsorbing rotation means for adsorbing and rotating the bottom surface of the alignment object attached to the inner part of the dicing frame in the dicing tape held on the outer peripheral portion of the upper surface by the annular dicing frame ;
A support means for ejecting an inert gas at a position different from the position where the adsorption rotation means is adsorbed, and supporting the rotating alignment object by the inert gas ejected;
Position detecting means for detecting the position of the alignment object,
The support means is arranged with nozzles that eject the inert gas upward at positions facing four equally spaced locations on the bottom side of the dicing frame,
The said position detection means is the alignment apparatus arrange | positioned in the intermediate position of two adjacent nozzles among the said four said nozzles .
前記支持手段を、前記吸着回転手段が吸着している前記ダイシングテープの底面よりも前記ノズルから噴出された前記不活性ガスが前記ダイシングテープの底面との間に形成する空気層の高さだけ下方の回転時の位置と、前記回転時の位置よりもさらに下方の搬送時の位置と、の間で、移動させる昇降手段を備えている請求項1に記載のアライメント装置。 The support means is lower than the bottom surface of the dicing tape adsorbed by the adsorption rotation means by the height of the air layer formed between the inert gas ejected from the nozzle and the bottom surface of the dicing tape. The alignment apparatus according to claim 1, further comprising an elevating unit that moves between a position at the time of rotation and a position at the time of conveyance further below the position at the time of rotation . 上面の外周部を環状のダイシングフレームに保持されたダイシングテープにおける前記ダイシングフレームよりも内側の部分に貼付されたアライメント対象物の底面を吸着して回転する吸着回転手段と、
前記吸着回転手段が吸着している位置とは異なる位置において不活性ガスを噴出し、回転する前記アライメント対象物を噴出される前記不活性ガスにより支持する支持手段であって、前記ダイシングフレームの底面側における等間隔の4箇所に対向する位置に、前記不活性ガスを上向きに噴出するノズルを配置した支持手段と、
前記アライメント対象物の位置を検出する位置検出手段と、
前記支持手段を、前記吸着回転手段が吸着している前記ダイシングテープの底面よりも前記ノズルから噴出された前記不活性ガスが前記ダイシングテープの底面との間に形成する空気層の高さだけ下方の回転時の位置と、前記回転時の位置よりもさらに下方の搬送時の位置と、の間で、移動させる昇降手段と、を準備し、
前記昇降手段によって前記支持手段を前記搬送時の位置に位置させた状態で、前記アライメント対象物の底面前記吸着回転手段により吸着させる吸着工程と、
前記昇降手段によって前記支持手段を前記回転時の位置に位置させた状態で、前記支持手段の前記ノズルから不活性ガスを噴出して前記アライメント対象物を支持しつつ、前記吸着回転手段を回転させることにより、前記アライメント対象物を回転させる回転工程と、
回転する前記アライメント対象物の位置を前記位置検出手段によって検出する位置検出工程と、
前記アライメント対象物を移動させる位置調整工程と、を含むアライメント方法。
An adsorbing rotation means for adsorbing and rotating the bottom surface of the alignment object attached to the inner part of the dicing frame in the dicing tape held on the outer peripheral portion of the upper surface by the annular dicing frame;
A support means for ejecting an inert gas at a position different from the position where the adsorption rotating means is adsorbed, and supporting the rotating alignment target by the inert gas being ejected, the bottom surface of the dicing frame Support means in which nozzles for injecting the inert gas upward are arranged at positions facing four equally spaced locations on the side;
Position detecting means for detecting the position of the alignment object;
The support means is lower than the bottom surface of the dicing tape adsorbed by the adsorption rotation means by the height of the air layer formed between the inert gas ejected from the nozzle and the bottom surface of the dicing tape. Elevating means for moving between the position at the time of rotation and the position at the time of conveyance further lower than the position at the time of rotation,
In a state of being positioned with said support means in position at the time of the conveyance by the elevating means, an adsorption step of adsorbing the bottom surface of the alignment target by the attraction rotating means,
With the support means positioned at the rotation position by the elevating means, the suction rotation means is rotated while jetting an inert gas from the nozzle of the support means to support the alignment object. A rotation step of rotating the alignment object;
A position detecting step of detecting the position of the rotating alignment object by the position detecting means ;
Alignment how; and a position adjustment step of moving the alignment object.
JP2013517951A 2011-06-02 2012-05-16 Alignment apparatus and alignment method Active JP5758993B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013517951A JP5758993B2 (en) 2011-06-02 2012-05-16 Alignment apparatus and alignment method

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011123892 2011-06-02
JP2011123892 2011-06-02
JP2013517951A JP5758993B2 (en) 2011-06-02 2012-05-16 Alignment apparatus and alignment method
PCT/JP2012/062482 WO2012165142A1 (en) 2011-06-02 2012-05-16 Alignment device, and alignment method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2012165142A1 JPWO2012165142A1 (en) 2015-02-23
JP5758993B2 true JP5758993B2 (en) 2015-08-05

Family

ID=47259005

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013517951A Active JP5758993B2 (en) 2011-06-02 2012-05-16 Alignment apparatus and alignment method

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5758993B2 (en)
KR (1) KR20140025517A (en)
TW (1) TWI479588B (en)
WO (1) WO2012165142A1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109285804B (en) * 2017-07-21 2020-12-01 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 Wafer vertical stability calibration system and method for calibrating wafer vertical stability
JP7203575B2 (en) * 2018-11-08 2023-01-13 住友重機械工業株式会社 Wafer alignment system

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10242250A (en) * 1997-02-26 1998-09-11 Fujitsu Ltd Wafer position detecting method, aligner and semiconductor treating apparatus
JP2002329769A (en) * 2001-04-27 2002-11-15 Lintec Corp Alignment equipment
JP5029486B2 (en) * 2008-05-13 2012-09-19 東京エレクトロン株式会社 Coating apparatus, coating method, and storage medium
JP5384220B2 (en) * 2009-06-22 2014-01-08 東京応化工業株式会社 Alignment apparatus and alignment method

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2012165142A1 (en) 2015-02-23
TWI479588B (en) 2015-04-01
KR20140025517A (en) 2014-03-04
WO2012165142A1 (en) 2012-12-06
TW201306152A (en) 2013-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5102358B2 (en) Stage with alignment function and processing apparatus provided with stage with alignment function
JP5384220B2 (en) Alignment apparatus and alignment method
TWI743614B (en) Substrate processing device and substrate processing method
JP5778054B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP2011035080A (en) Electronic component mounting device
JP2017139251A (en) Teaching method for substrate delivery position, and substrate processing system
JP5758993B2 (en) Alignment apparatus and alignment method
JP2014038946A (en) Mounting device, component arranging method and board manufacturing method
KR102412673B1 (en) Substrate processing apparatus
JP5763759B2 (en) Alignment apparatus and alignment method
JP6890438B2 (en) Floating amount calculation device, coating device and coating method
JP2018143942A (en) Coating device and coating method
JP6474275B2 (en) Processing equipment
JP5999544B2 (en) Mounting apparatus, mounting position correction method, program, and board manufacturing method
JP2014239135A (en) Method of manufacturing semiconductor device
JP2022188851A (en) Substrate transport device, coating processing device, substrate transport method, and substrate transport program
JP2018163272A (en) Exposure equipment
TWI722320B (en) Substrate conveying device, exposure device, manufacturing method of flat panel display, component manufacturing method, substrate conveying method, and exposure method
JPWO2018173137A1 (en) Component mounter, nozzle height control method
JP6722723B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP5201483B2 (en) Electronic component mounting device
JP2011161395A (en) Apparatus and method for discharging droplet
JP2011049504A (en) Device for mounting electronic component
JP2005272039A (en) Conveying mechanism of substrate
JP2011177854A (en) Suction device and droplet discharge device

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150507

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150604

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5758993

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250