JP5754049B2 - セラミック乾燥炉及び未焼成セラミックの乾燥方法 - Google Patents
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Description
図3は本発明の実施形態の乾燥炉を示す模式的な断面図であり、10はトンネル状の炉体、11はこの炉体10の内部に設けられた搬送手段、12は炉体10の内部に設けられた赤外線ヒーターである。図3では炉体10の内部は4つのゾーンに区画されているが、この点は本発明の要部ではなく、種々の変更が可能である。
2 赤外線ヒーター
3 フィラメント
4 保護管
10 本発明の炉体
11 搬送手段
12 赤外線ヒーター
13 ベース
14 移動手段
15 フィラメント
16 管
17 管
18 流路
19 流体供給口
20 流体排出口
Claims (7)
- 3.5μm以下の電磁波の吸収スペクトルを持ち、水素結合を有する水または樹脂バインダーを含有する未焼成セラミックを乾燥させるセラミック乾燥炉であって、炉体の内部に未焼成セラミックの搬送手段と赤外線ヒーターとを備え、該搬送手段は、未焼成セラミックを積載した焼成セラミック製のベースと、その移動手段とからなり、該赤外線ヒーターは、フィラメントの外周が3.5μm以上の赤外線を吸収する内側の管と外側の管とによって2重に覆われ、これらの2重の管の間に赤外線ヒーターの表面温度の上昇を抑制する冷却用流体の流路を形成し、フィラメント温度を700〜1200℃として前記水素結合を切断するに適した3.5μm以下の短波長の赤外線を選択的に放射させつつ、赤外線ヒーターの表面温度を200℃以下に抑制したものであることを特徴とするセラミック乾燥炉。
- 未焼成セラミックが粉体であり、焼成セラミック製のベースが匣鉢であることを特徴とする請求項1記載のセラミック乾燥炉。
- 未焼成セラミックがシートであり、焼成セラミック製のベースがセッターであることを特徴とする請求項1記載のセラミック乾燥炉。
- 未焼成セラミックが成形体であり、焼成セラミック製のベースがセッターであることを特徴とする請求項1記載のセラミック乾燥炉。
- 移動手段が焼成セラミック製のローラであることを特徴とする請求項1記載のセラミック乾燥炉。
- 3.5μm以下の電磁波の吸収スペクトルを持ち、水素結合を有する水または樹脂バインダーを含有する未焼成セラミックを、フィラメントの外周が3.5μm以上の赤外線を吸収する複数の管によって覆われ、これら複数の管の間に赤外線ヒーターの表面温度の上昇を抑制する冷却用流体の流路を形成した構造の赤外線ヒーターが配置された炉体の内部で搬送し、赤外線ヒーターのフィラメント温度を700〜1200℃として前記水素結合を切断するに適した3.5μm以下の短波長の赤外線を選択的に放射して未焼成セラミックを乾燥させつつ、冷却用流体により赤外線ヒーターの表面温度を200℃以下に抑制し、樹脂バインダー蒸気の爆発を防止したことを特徴とする未焼成セラミックの乾燥方法。
- 前記赤外線ヒーターとして、フィラメントの外周が内側の管と外側の管とによって2重に覆われたものを用いることを特徴とする請求項6記載の未焼成セラミックの乾燥方法。
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