JP5739111B2 - 研磨パッド - Google Patents
研磨パッド Download PDFInfo
- Publication number
- JP5739111B2 JP5739111B2 JP2010095890A JP2010095890A JP5739111B2 JP 5739111 B2 JP5739111 B2 JP 5739111B2 JP 2010095890 A JP2010095890 A JP 2010095890A JP 2010095890 A JP2010095890 A JP 2010095890A JP 5739111 B2 JP5739111 B2 JP 5739111B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing pad
- porous layer
- elastic body
- polishing
- silicone oil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Description
さらには、シリコーン系化合物が側鎖ポリエーテル変性シリコーンオイルであることが好ましい。
ここで本発明の、表面に開口部を有する多孔層が存在する研磨パッドとしては、通常は支持体の上に開口部を有する多孔層が存在するものである。この多孔層の支持体となる基体(シート)としては、その形態が不織布、織物、フィルム等のシート状物であればいずれも利用できるが、特には均質な厚みと硬度を持ったプラスチックシートであるこことが好ましく、さらに研磨パッドが均質な厚みを達成するためには、フィルム状であることが好ましい。
そして本発明の研磨パッドでは、上記のような支持体の上に、高分子弾性体とシリコーン系化合物からなる多孔層が存在することを必須とする。
また、多孔層中の高分子弾性体に対するシリコーン系化合物の混合比率としては、0.1〜10重量%、特には0.5〜5重量%の範囲であることが好ましい。
研磨パッドをテーバー磨耗試験にて研磨ペーパー#1000、研磨荷重1000gの条件下、研磨回数400回まで100回毎に摩耗減量量を測定し、摩耗試験前後の重量を計測して、次の計算式により、摩耗減量率を測定した。
摩耗減量率(%)
=(摩耗試験0回時点の重量−400回時点の重量)/(0回時点の重量)×100
研磨パッド表面(開孔面)のWet時の動摩擦係数を測定するため、摩擦係数測定器を用い、試験前に研磨パッドの表面に水を含ませ、研磨対象物をサファイアガラスとし、研磨対象物移動速度100cm/分、研磨パッドに付与する荷重を500gの条件にて測定し、Wet動摩擦係数とした。
接着処理液に用いる高分子弾性体としてポリエステルポリオール系接着剤(大日精化株式会社製、E−256)と、イソシアネート系架橋剤とを、重量比100:10となるように混合し、固形分濃度を25%となるよう溶剤で調整した溶液を準備した。
目付234g/m2、厚み190μmのポリエステル(PET)フィルムの上に、上記接着処理液を、クリアランス100μmの条件にてコーティングし、80℃の乾燥機で2分乾燥させ、ポリエステルフィルムの上に25μmの接着層を形成したベース基材を得た。
上記で得られた接着層上に、100%モジュラスが11MPaであるポリカーボネート系ポリウレタンの15%濃度のジメチルホルムアミド(以下DMFとする)溶液に、ポリエーテル変性シリコーンオイル(東レ・ダウコーニング株式会社製、SF8428、固形分濃度30%、側鎖ポリエーテル変性、HLB=0)を1部添加し、コーティングした後、7%DMF水溶液の水バス中で凝固し、十分に水洗を行った後140℃で乾燥し多孔層を有するシートを得た。得られたシートの多孔層の表面を、#150のサンドペーパーでバフ処理し、表面の微多孔層が除かれた、開口部の孔の径が30〜70μm、目付が394g/m2、厚み0.71mmのフィルムベースの研磨パッドを得た。
この研磨パッドの、摩耗減量率は0.155%と非常に低く、Wet動摩擦係数も0.18と低い、耐摩耗性に優れる研磨パッドであった。
ベース基材として、ポリエステル(PET)フィルムの代わりに、不織布に高分子弾性体を含浸した基材を用いた。すなわち、ポリエステル不織布(目付220g/m2、厚さ1.10mm)に、ポリエーテルエステル系ポリウレタン(100%モジュラスが3MPa、原液固形分濃度が30%)をDMFにて希釈し、固形分濃度が15%になるように調整した処理液を、乾燥後の全体目付が300g/m2となるように含浸した後、10%DMF水溶液の水バス中で凝固した。さらに、十分に水洗を行った後140℃で乾燥し、厚さが1.20mmのポリウレタン含浸不織布基材とした後、基材の両面を#600のサンドペーパーでバフ処理して、最終的に厚さ0.85mmのベース基材とした。
さらに、ベース基材上に、100%モジュラスが11MPaであるポリカーボネート系ポリウレタンの15%DMF溶液にポリエーテル変性シリコーンオイル(東レ・ダウコーニング株式会社製、SF8428)を1部添加し、コート後の全体の目付が440g/m2となるようにコーティングした後、7%DMF水溶液の水バス中で凝固し、十分に水洗を行った後140℃で乾燥し多孔層を有するシートを得た。得られたシートの多孔層の表面を、#150のサンドペーパーでバフ処理し、表面の微多孔層が除かれた、開口部の孔の径が30〜70μmの研磨パッドを得た。
この研磨パッドの、摩耗減量率は0.125%と非常に低く、Wet動摩擦係数も0.19と低い、耐摩耗性に優れる研磨パッドであった。
ポリエーテル変性シリコーンオイルを添加しない以外は、実施例1と同様の方法で研磨パッドを得た。得られた研磨パッドの摩耗減量率を確認したところ、0.285%と非常に高く、動摩擦係数は、0.76と高い、耐摩耗性に劣る研磨パッドであった。
ポリエーテル変性シリコーンオイルを添加しない以外は、実施例2と同様の方法で研磨パッドを得た。得られた研磨パッドの摩耗減量率を確認したところ、0.247%と非常に高く、動摩擦係数は、0.77と高い、耐摩耗性に劣る研磨パッドであった。
2 プラスチックシート
3 接着剤層
4 多孔を持つ高分子弾性体多孔層
5 高分子弾性体が含浸された不織布層
6 両面テープ
Claims (2)
- 表面に開口部を有する多孔層が存在する研磨パッドであって、多孔層が高分子弾性体とシリコーン系化合物からなり、多孔層がシリコーンオイルを含む高分子弾性体溶液を使用して湿式凝固法により多孔化を発現させたものであり、高分子弾性体がポリウレタンエラストマー、ポリウレアエラストマー、ポリウレタン・ポリウレアエラストマー、ポリアクリル酸樹脂、アクリロニトリル・ブタジエンエラストマー、スチレン・ブタジエンエラストマーの群の中から選ばれるいずれかであり、シリコーン系化合物がポリエーテル変性シリコーンオイルであり、かつ支持体の上に開口径が20〜130μmの開口部を有する多孔層が存在するものであることを特徴とする研磨パッド。
- シリコーン系化合物が側鎖ポリエーテル変性シリコーンオイルであることを特徴とする請求項1記載の研磨パッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010095890A JP5739111B2 (ja) | 2010-04-19 | 2010-04-19 | 研磨パッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010095890A JP5739111B2 (ja) | 2010-04-19 | 2010-04-19 | 研磨パッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011224702A JP2011224702A (ja) | 2011-11-10 |
JP5739111B2 true JP5739111B2 (ja) | 2015-06-24 |
Family
ID=45040715
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010095890A Active JP5739111B2 (ja) | 2010-04-19 | 2010-04-19 | 研磨パッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5739111B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5989394B2 (ja) * | 2012-05-07 | 2016-09-07 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 |
JP5989393B2 (ja) * | 2012-05-07 | 2016-09-07 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 |
DE112015002356T5 (de) * | 2014-05-21 | 2017-02-16 | Fujibo Holdings Inc. | Polierkissen und verfahren zu dessen herstellung |
WO2016185803A1 (ja) * | 2015-05-21 | 2016-11-24 | Dic株式会社 | 多孔体及び研磨パッド |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6433283A (en) * | 1987-07-23 | 1989-02-03 | Kuraray Co | Production of soft leather-like sheet |
JP3121460B2 (ja) * | 1992-11-25 | 2000-12-25 | 株式会社クラレ | 皮革様シート状物 |
JP2000303368A (ja) * | 1999-04-26 | 2000-10-31 | Kuraray Co Ltd | スエード調皮革様シート |
JP2002331451A (ja) * | 2001-05-09 | 2002-11-19 | Nihon Micro Coating Co Ltd | 研磨用発泡シート及びその製造方法 |
JP4101584B2 (ja) * | 2002-08-09 | 2008-06-18 | 東洋ゴム工業株式会社 | 研磨シート用ポリウレタン発泡体及びその製造方法、研磨パッド用研磨シート、並びに研磨パッド |
JP2004256738A (ja) * | 2003-02-27 | 2004-09-16 | Dainippon Ink & Chem Inc | 研磨布用樹脂組成物及び該組成物からなる研磨布 |
JP5242903B2 (ja) * | 2006-09-29 | 2013-07-24 | 帝人コードレ株式会社 | 研磨布の製造方法 |
-
2010
- 2010-04-19 JP JP2010095890A patent/JP5739111B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011224702A (ja) | 2011-11-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101492297B1 (ko) | 연마 패드 | |
JP5697889B2 (ja) | 平滑加工用シート | |
JP5254729B2 (ja) | 研磨パッド | |
KR20140034144A (ko) | 연마 패드 | |
JP4818062B2 (ja) | 研磨布の製造方法 | |
JP5739111B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP2012223875A (ja) | 研磨パッド | |
JP5254728B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP5684489B2 (ja) | 吸着パッド用素材の製造方法 | |
JP2011235385A (ja) | 吸着パッド | |
JP5254727B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP4566660B2 (ja) | 仕上げ研磨用研磨布及び研磨布の製造方法 | |
JP5437894B2 (ja) | 多孔シート状物の製造方法 | |
JP2011148049A (ja) | 保持パッド | |
JP5935159B2 (ja) | 研磨保持用パッド | |
JP5324998B2 (ja) | 保持パッド | |
WO2022071205A1 (ja) | 研磨パッド、及び研磨加工物の製造方法 | |
JP5869264B2 (ja) | 研磨用吸着パッド素材の製造方法 | |
JP2013208687A (ja) | 研磨パッド用シート及びその製造方法、研磨パッド及びその製造方法、並びに研磨方法 | |
JP7000032B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP2012056032A (ja) | 発泡シート材 | |
JP4364291B1 (ja) | 研磨パッド | |
JP5735218B2 (ja) | 研磨パッド用素材の製造方法 | |
TW202035534A (zh) | 研磨墊 | |
JP2011224701A (ja) | 研磨パッド用素材の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130208 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140114 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140116 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140313 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140819 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141016 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150331 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150423 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5739111 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |