JP5735015B2 - 近接場光デバイス、それを用いた記録装置、および、記録方法 - Google Patents
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まず、本発明を適用した量子ドットを利用した近接場光デバイス1について説明する。近接場光デバイス1は、図1に示すように、光源11、GaAs基板12、GaAsバッファ層13、InAs層14、InAs量子ドット15、GaAs層16、及び金属端17から構成されている。
次に、量子ドットを2段に積層した近接場光デバイス100について図3を用いて説明する。近接場光デバイス100は、光源101、GaAs基板102、GaAsバッファ層103、第1InAs層104、第1量子ドット105a、105b、第1GaAs層106、第2InAs層107、第2量子ドット108、第2GaAs層109及び金属端110から構成されている。量子ドットが2段構成になっている以外は図1に示した近接場光デバイス1と同様の構成となっている。
図6は、図3に示した2層の量子ドットグループからなる近接場光デバイスの変形例を示した図である。図6の近接場光デバイス300は、第1量子ドットグループ301、第2量子ドットグループ302、光源303、及び金属微粒子304から構成されている。図6は、第1及び第2の量子ドットグループをメサ構造体(テーパー形状)の中に形成した構造を示している。
図7は、例えば、GaAs媒体中にInAsで構成された量子ドットが分散された近接場光デバイス400を示した図である。近接場光デバイス400は、メサ構造体の中に分散している量子ドットグループ401、光源402、及び金属微粒子403から構成されている。
図8は、図6に示した近接場光デバイスの入射光の光源の位置を変えた構成を示している。図8の近接場光デバイス500は、第1量子ドットグループ501、第2量子ドットグループ502、光源503、及び金属微粒子504から構成されている。図8は、第1及び第2の量子ドットグループをメサ構造体(テーパー形状)の中に形成した構造を示している。
図9は、図1〜図8で説明した近接場光デバイスを磁気ヘッドへの搭載例を示した図である。図9に示すように、アーム51の先端には、磁気ヘッド52と近接場光デバイス53とが搭載されている。磁気ヘッド52と近接場光デバイス53とが搭載されたアーム51の先端部分と、磁気記録媒体54との距離が近接場相互作用を引き起こす距離となる位置に、該先端部分が浮上するようにアーム51が制御される。
図10は記録装置の基本概念を示す図であり、図1に示した近接場デバイス1と、制御部70から構成されており、記録媒体60に記録を行う。記録媒体60は近接場光または近接場光エネルギーにより発生する熱により状態が変化し、記録マークを形成できる記録材料で構成されている。さらに記録媒体60は金属端17と一体となって近接場光を形成するため、例えば、金(Au)からなる金属を含んで構成されている。
図14は、記録装置の変形例1を示している。記録媒体601以外の構成は図10に示した記録装置の構成と同じである。記録媒体601は非金属領域602と島状に離散した金属領域603a〜603cから構成されている。非金属領域602は樹脂やガラスなどから構成され、近接場光デバイス1の金属端17と一体となって近接場光を発生しない材料から構成される。金属領域603a〜603cは近接場光デバイス1の金属端17と一体となって近接場光を発生する金(Au)などの金属を含んだ磁性体である。各々の金属領域603a〜603cは非金属領域602で隔離されている。また非金属領域602は非金属だけでなく、近接場光デバイス1の金属端17と一体となって近接場光を発生しない非磁性体で構成してもよい。
本発明の近接場光デバイスの第3の実施形態について、図17を参照して説明する。図17は、本発明の第3の実施形態に係る近接場光デバイスの構造を示す図である。尚、図中の波線矢印は、エネルギーの伝搬を表わしている。
本発明の近接場光デバイスの第4の実施形態について、図18乃至図20を参照して説明する。図18は、本発明の第4の実施形態に係る近接場光デバイスの構造を示す図である。
次に、第4の実施形態に係る近接場光デバイス800の第1変形例について、図21を参照して説明する。図21は、本発明の第4の実施形態に係る近接場光デバイスの第1変形例の一例である。
次に、第4の実施形態に係る近接場光デバイス800の第2変形例について、図22を参照して説明する。図22は、本発明の第4の実施形態に係る近接場光デバイスの第2変形例の一例である。本変形例では特に、金属端850と、量子ドット層(即ち、メサ構造体)との位置関係について説明する。
本発明の近接場光デバイスの第5の実施形態について、図23を参照して説明する。図23は、本発明の第5の実施形態に係る近接場光デバイスの構造を示す図である。
次に、本発明の近接場光デバイスの製造方法について、図24乃至図31を参照して説明する。
Claims (7)
- 複数の量子ドットを含んでなり、前記複数の量子ドットが少なくとも平面的に分布する量子ドット構造体と、
前記量子ドット構造体の上に設けられた金属端と、
を備える近接場光デバイスであって、
前記量子ドット構造体は、前記量子ドット構造体に入射する光である入射光が、前記複数の量子ドットの少なくとも一部により近接場光に変換され、前記近接場光が前記複数の量子ドットのうち一又は複数の量子ドットを伝播することにより、前記近接場光が前記金属端に集中するような構成を有する
ことを特徴とする近接場光デバイス。 - 前記量子ドット構造体と前記金属端との間の距離は、近接場光のエネルギーが伝搬可能な距離に設定されていることを特徴とする請求項1に記載の近接場光デバイス。
- 前記量子ドット構造体と前記金属端との間に、誘電体が介在していることを特徴とする請求項2に記載の近接場光デバイス。
- 前記量子ドット構造体は、GaAs媒体中に、前記複数の量子ドットとしてのInAsからなる複数の量子ドットが分散された構造体であることを特徴とする請求項1に記載の近接場光デバイス。
- 前記量子ドット構造体は、複数の量子ドットを含む第1量子ドット層と、前記第1量子ドット層上に積層され、一又は複数の量子ドットを含む第2量子ドット層と、を有し、
前記第1量子ドット層と前記第2量子ドット層とは、近接場光相互作用により、前記第1量子ドット層の量子ドットと前記第2量子ドット層の量子ドットとが結合可能な距離を満たすように構成されている
ことを特徴とする請求項1に記載の近接場光デバイス。 - 前記金属端は、金属微粒子であることを特徴とする請求項1に記載の近接場光デバイス。
- 光源と、
複数の量子ドットを含んでなり、前記複数の量子ドットが少なくとも平面的に分布する量子ドット構造体と、
前記量子ドット構造体の上に設けられた金属端と、
を備える近接場光デバイスであって、
前記量子ドット構造体は、前記光源から出射され前記量子ドット構造体に入射する光である入射光が、前記複数の量子ドットの少なくとも一部により近接場光に変換され、前記近接場光が前記複数の量子ドットのうち一又は複数の量子ドットを伝播することにより、前記近接場光が前記金属端に集中するような構成を有する
ことを特徴とする近接場光デバイス。
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2012
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