JP5726144B2 - バリア膜形成装置及びバリア膜形成方法 - Google Patents
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Description
本発明による実施の形態に係るバリア膜形成装置について、図面を参照して説明する。
図1は、本実施の形態に係るバリア膜形成装置を示す概念図である。なお、図38で説明した従来技術に係るバリア膜形成装置と同一部材については、同一符号を付して重複する説明は省略する。
図1に示すように、本実施の形態に係るバリア膜形成装置10は、少なくとも一以上の凹凸部12aを有するプラスチック容器(以下「容器」ともいう。)12を被処理物とし、内面にバリア膜を成膜するバリア膜形成装置であって、前記容器12の少なくとも主要部を取り囲む大きさの空洞を有する誘電体部材50と、該誘電体部材50の外周側を覆う外部電極13と、前記容器12の口部11が位置する側の前記外部電極13の端面に絶縁部材26を介して取り付けられ、前記容器12の内部を、排気管14を介して減圧する排気手段(図示せず)と、前記排気管14側から挿入され、前記容器12内にバリア膜生成用の媒質ガス19を吹き出すためのガス吹出し部を兼用する内部電極17と、前記外部電極13と接地電極間に放電を発生させるための電界を付与するための電界付与手段(高周波電源18及び整合器36)とを具備してなるものである。
前記筒状のアースシールド22(アースシールド(上部)22−1、アースシールド(下部)22−2)と前記外部電極13(外部電極(上部)13−1、外部電極(下部)13−2)と前記誘電体部材50(誘電体部材(上部)50−1と誘電体部材(下部)50−2)は、上部側と下部側とに二分割可能としており、着脱可能に取り付けられている。また、円板状の絶縁板24は、前記基台23と前記外部電極(下部)13−2の底部側との間に配置されている。
また、ガス吹き出し部は排気管側から容器内部に挿入されているが、必ずしも容器内に挿入する必要はなく、媒質ガスが容器内に供給されればよい。さらに、排気管側から挿入する必要もなく、たとえば容器に2つ口があれば、排気管に接続されていない口からガスを供給し、別の口からガスを排気することも出来る。
前記プラスチックとしては、種々のものを用いることができるが、特に高周波損失が低く、耐熱性、難燃性、機械的強度の高い樹脂が好ましく、ポリテトラフルオロエチレンのようなフッ素系樹脂、テフロン(登録商標)や、硬質塩化ビニル、ポリカーボネイト、PEEK(登録商標)が好ましい。前記セラミックとしては、高周波損失が低いアルミナ、ステアタイトまたは機械加工性が高いマコール(登録商標)が好ましい。
すなわち、従来の技術では容器外面に電極を密着して沿わせることが高バリアを得るために必要と考えていたのに対し、本発明では、高周波を印加する外部電極13を容器に直接沿わせず、容器12の略全面に亙って誘電体部材50を介することで容器12の略内面全体に印加される電圧を均一にするようにしている。これにより、前記容器12内面に成膜されるバリア膜を略全体に亙って均質にするようにしている。たとえば、従来の技術では経験的に、凹凸が少なくとも3mm以上になると単純な筒型電極ではバリア性向上が十分得られなかったが、本発明ではこのような場合にも十分なバリア性が得られる。なお、本発明で均一とは、本発明を用いない場合と比べて相対的に均一化することを示しており、必ずしも絶対的に均一な場合に限るものではない。
これに対し本発明では外部電極13に密接した部分が無いことから、その部分に電圧がかかることでプラズマが集中することが無く、誘電体部材50を介して容器全体に均一な電圧がかかることでプラズマが均一に発生し、その結果容器全体の膜質・膜厚が均一となり、容器全体で高いバリア性を得ることができるものとなる。
先ず、図7は容器挿入開始時を示す。図7に示すように、成膜装置の鉛直軸方向で上部装置10−1と下部装置10−2に2分割するものであり、容器12が下部装置10−2の上部に位置するように挿入治具71による挿入が開始される。
ここで、容器断面が通る最大の軌跡(破線で示す)を、容器最大通過軌跡線61と名付ける。なお、容器挿入の際には、容器転倒防止およびセンタリングのために容器胴部を図示しない治具によりささえながら行なうようにしている。
図9は下部誘電体部材50−2内への容器挿入終了時であり、下部誘電体部材50−2内に容器12の底部が設置される。
図11はバリア膜形成装置10内に容器12が挿入終了した時を示している。
図12は図11の挿入終了状態において、容器12の図示を省略したものであり、容器最大通過軌跡線61は、最終的に容器外形線のうち、凹部(くぼみ部)12aを除いた線となる。
このようにして容器12を取り囲む大きさの空洞が、容器12の外周が通過するための最大通過軌跡線61によって作られる空間と一致する、又はそれより大きな隙間を有するように誘電体部材50を配設するようにしており、これにより均一な成膜を得るようにしている。
また、種々の空洞形状を有する複数の誘電体部材50を用意し、その中から被処理物である容器12の形状等に適するように選択し、その後容器にバリア膜を成膜するようにしてもよい。これにより、容器の形状及び大きさに応じることが可能となり、均一な成膜を施すことが可能となる。
ここで、図2中、符号12はプラスチック容器、12aは凹部(又はくびれ部)、13は外部電極、50は誘電体部材、55はプラズマのバルク部(バルク部のインピーダンスは低く、バルク部内の電位はほぼ一定と考えられる。)及び56はプラズマのシース部を各々図示している。また、aは誘電体部材50と容器12との近接部分、bは誘電体部材50と容器12の凹部12aとの離れている部分を図示する。また、d1は近接部分aにおける誘電体部材50の肉厚、d2は離れている部分bにおける誘電体部材50の肉厚、d3は近接部分aにおける誘電体部材50と容器12との距離、d4は離れている部分bにおけるにおける誘電体部材50と容器12との距離、d5は近接部分aにおける容器12の肉厚、d6は離れている部分bにおける容器12の肉厚を各々示す。なお、本説明においては、容器は断面が概円形の略筒型形状のものを例として用いている。
ここで、図37にメカニズムである誘電体部材によるバリア性改善の概念図を示す。ここで、図37中、左図は従来の誘電体部材50が設置されていないものであり、右図は本発明の誘電体部材50が設置されたものである。
図37中左図の従来技術の場合には、プラズマのシース端のRF電位はボトル内でほぼ同電位と考えられるので、相似金属電極の外部電極13の場合は、電極に密着した部分のRF電界が強くなり、離れた部分のRF電界は弱くなる。この結果、RF電界が集中する部分と集中しない部分との差が生じることとなる。
ここで、樹脂は誘電体でRF(高周波)のロスをほとんど生じないので、外部電極13に供給されたRF電力はロスすることなくシース部にRF電界を生じる。ロスが無いので、RF電界の大きさは相似金属電極の場合の平均値と同程度である。このRF電界により均一なプラズマが発生する。
なお、本発明において放電を発生させるための電界とは、交番電界であり、AC,LF,RF,VHF,マイクロ波等の電源周波数fを持つ電界、あるいはパルスを含むものである。この場合、外部電極と容器内面の間に設置された誘電体部材や空隙には変位電流が流れることになる。
なお、本発明において放電を発生させるための電界とは、交番電界であり、AC,LF,RF,VHF,マイクロ波等の電源周波数fを持つ電界、あるいはパルスを含むものである。この場合、外部電極と容器内面の間に設置された誘電体部材や空隙には変位電流が流れることができる。
例えば、図2のように誘電体と空隙が直列に設置された場合の容量Cは、下記「数2」に示す式(2)で求められる。
したがって、換算距離Gの比が小さいほど、外部電極内面から容器内側表面までのインピーダンスZは均一で、容器内側表面に形成されるバリア膜が略均一となり、バリア性が向上することになる。
この場合、d1=d2=0となり、空隙の比誘電率εは1であるので、近接部分aの換算距離はGmin=d3、離れている部分bの換算距離はGmax=d4となる。
したがって、換算距離の比はGmax/Gmin=d4/d3である。
図2において誘電体部材50を例えば樹脂(「テフロン(登録商標)」)で製作する。
この場合、近接部分aの換算距離はGmin=d3+d1/εD、離れている部分bの換算距離はGmax=d4+d2/εDとなる。
ここに、εDは誘電体(Dielectric)の比誘電率である。
d4>d3かつd1/εD<0であるので、本発明の換算距離Gの比Gmax/Gminは、先の比較例(従来の方法)より小さな値となり、均一性が改善される(均一となる)ことが分かる。
なお、以下の考察においても容器の壁は十分薄いので、容器の厚さd5およびd6は無視して説明する(d5=d6=0)。
まず、表1に示す比較例1〜4では、従来の方法(誘電体部材を金属置き換える)で容器の凹部(くびれ部)12aの深さを変化させ、近接部分aと離れている部分bの換算距離Gの比Gmax/Gminと酸素ガスバリア性(BIF:Barrier Improvement Factor)を調べた。
なお、酸素ガスバリア性は一般的なMOCON法を用いて計測した。
実施例7、8は誘電体部材(「テフロン(登録商標)」)50の厚さを変化(4mm、8mm)させている。また、実施例9、10は誘電体部材の厚さを4mmで、さらに空隙d3を変化させ、実施例11は誘電体部材の材質を硬質塩化ビニルに変化させている。
よって、誘電体部材の平均厚さ/比誘電率において、2mm/2.1〜8mm/2.1=0.95〜3.8の範囲が好適なものとなることが判明した。
図35から、すべてのデータの近似式は、下記の式(4)の通り求められた。
y=36.03x-0.539・・・(4)
すなわち、容器形状が異なることで容器と誘電体部材空洞との空隙が大きくなっても、換算距離の比Gmax/Gminへの影響が小さく抑えられるからである。実施例7〜11の有底筒型形状は、容器形状にかかわらず径と長さが入れば用いることが出来るので、このような応用に適している。
また、このような応用では、前記空隙が非常に大きくなる場合がある。
この結果を表3及び図36に示す。
これに対し、従来技術の相似電極を用いるような場合(特許文献1,2)には、容器の成形精度や外部電極13やスペーサ25の製作精度あるいは容器の設置精度のために、完全な相似形状とすることは現実的には難しく、そのためにより高いバリア性を得られない問題があった。また、口部から肩部にかけての径が非常に細い部分は、外部電極と内部電極が非常に近くなるため上記の近似的な理論は当てはまらず、当該部分の容器内表面の電圧が他の部分と同じであっても、容器内面の電界が非常に大きくなり、放電が強くなって、成膜速度が速くなってしまい、均一な薄膜とすることができなかった。
上記の近似的理論は、容器の径が極端に細くなく、プラズマの電位がほぼ等しいと仮定できる部位で成り立ち、口部や肩部の細い部分では成り立たないものと推測される。
ここで、図13に示すように、前記容器12の形状がおおむね円形状の場合は、換算距離Gはどこでもおおむね均一であるので、バリア性に影響はない。
この場合にも、前記の水平方向断面の場合と同様に、換算距離Gの比はGmax/Gmin=(d4+d1/εD)/(d3+d1/εD)であり、誘電体部材がないと場合に比べて小さくなり、バリア性が向上する。
なお、次の図15に示す角形の空洞を有する誘電部材と異なり、容器の軸方向の角度を調整せず自由な角度で装置に挿入できるため、挿入装置の簡単化が図れる。
また、図示はしていないが、外部電極を角型筒状形状としても良い。
この他、多角形の容器に対して、上記角型と同様な考え方で、多角形型誘電部材を用いても良い。
また、誘電体部材50は、有底筒型形状又は略有底筒型形状としてもよいが、底無し筒型形状又は一部底を有する筒型形状としてもよい。
また、前記外部電極13のうち前記容器12の凹部12aの空隙に面した部分が前記誘電体部材50で覆われるようにしてもよい。
また、前記誘電体部材50の空洞の一部、又は空洞の略全体が、容器と略接しているようにしてもよい。
また、容器12の凹部12aに対向する部分の誘電体部材を異なる比誘電率εを有する誘電体部材とするようにしてもよい。
また、凹部形状に沿って誘電部材の形状を凸形とするようにしてもよい。
さらに、異なる比誘電率εiを有する誘電体部材を積層させるようにしてもよい。
図16は、他の実施の形態のバリア膜形成装置の概略図である。
図16に示すように、容器12の形状を断面が円形状に変更しており、空隙51を最低3mm以上としたものを示している。
図17は、他の実施の形態のバリア膜形成装置の概略図である。
図17に示すように、容器12の形状を断面が円形状に変更しており、空隙51を最低1mmとしたものを示している。
また、容器底部側の凹部12bに対応するような凸部形状の誘電体部材62を設けている。
図18は、他の実施の形態のバリア膜形成装置の概略図である。
図18に示すように、本実施の形態では、図17の装置において、容器12の肩部の電界を強めるために、誘電体部材の上部張出し部50−3を設けている。なお、本部材の形状は本発明の効果のため、容器形状に完全に沿ったものとする必要はなく、多種の容器の肩部形状を許容できる範囲の裕度をもった範囲の張出し形状とすればよい。また、上部張出し部50−3は、容器口部11の中心軸の軸出し機能を兼用するものとなる。なお、本発明において、このように誘電体部材の一部が容器に完全に沿わず多種の容器の形状を許容できる形状も略筒型形状に含むものとする。
図19は、他の実施の形態のバリア膜形成装置の概略図である。
図19に示すように、図18の装置においてさらに容器12底部の側面の電界を強めるために、誘電体部材の下部張出し部50−4を設けている。また、下部張出し部50−4は、容器口部11の中心軸の軸出し機能を兼用するものとなる。
図20及び図21は、他の実施の形態のバリア膜形成装置の概略図である。
図20及び図21に示すように、図18の装置においてさらに容器12低部側に、中心軸方向に向かって可動自在な誘電体部材の可動張出し部50−5を設けている。可動張出し部50−5は、例えばバネ機構、その他同様な構成の繰り出し容易なものとし、容器12が挿入されたときに、該容器12をセンタリングすると共に、その転倒の防止を図ったものである。また、容器12の側面の電界を強める効果もある。
図22は、他の実施の形態のバリア膜形成装置の概略図である。
図22に示すように、多種の容器12の肩部形状を想定し、上部外部電極13−1の内側に円錐形状の外部電極13−3を設けている。また、より高いバリア性を得るために、外部電極13−3をさらに固有の容器を対象とした相似形状になるようにしても良いし、いくつかの容器に近似的な相似形状としても良い。
図23は、他の実施の形態のバリア膜形成装置の概略図である。
図23に示すように、本実施の形態では、誘電体部材で真空室を構成すると共に、前記誘電体部材の周囲には外部電極として、シート状の金属シート80を貼付けている。
前記金属シート80は例えばアルミニウム、ステンレス等で、厚さは高周波の表皮効果に当たるおおよそ50μm以上のものとするのが好ましく、上限はないが、たとえば5mm程度あってもよい。
さらに、金属シート80の上部と下部の電気的接触を確保するために、周囲にコンタクトを設けることが好ましい。
本形態では、本発明の効果の他に、電極構造の軽量化、設計形状の自由度向上、機械加工の容易化による製作コストの低減、シースルー金属と透明樹脂部材(例えば透明硬質塩化ビニル等)の利用による内部可視化と、それによるプラズマ分布調整の容易化などの効果が得られる。なお、アースシールドもシースルー金属としている。
図24は、他の実施の形態のバリア膜形成装置の概略図である。
図24に示すように、外部のアースシールドであるアースシールド22で真空室を構成している。また、前記アースシールド22と金属シート80との間も空隙部分を少なくしてシール性を向上させるために、誘電体部材で埋め込んでいる。なお、空隙のままとしてもよい。
本形態では、上記第8の実施の形態の特別な効果がさらに増すと共に、空隙の絶縁破壊の抑制が得られる。
さらに、アースシールドを外部電極80と同様に金属シートとすることで、軽量化や低コスト化を図ることもできる。
図25は他の実施の形態のバリア膜形成装置の概略図である。図26は図25の要部断面図である。
図25及び図26に示すように、本実施の形態では、無数の空隙52を有する発泡体から誘電体部材50を構成している。前記空隙52の存在により実質的に比誘電率εDが下がり、換算距離の比を下げることができる。
図27は他の実施の形態のバリア膜形成装置の概略図である。図28は図27の要部断面図である。
図27及び図28に示すように、本実施の形態では、無数のスリット53を有する誘電体部材を設置している。前記スリット53の存在により実質的に比誘電率εDが下がり、換算距離の比を下げることができる。
図29乃至図31は、他の実施の形態のバリア膜形成装置の工程概略図である。
図29に示すように、多種の容器12の大きさを想定し、十分な隙間を有する誘電体部材50を外部電極13の内側に設置し、その上部開口部分から容器12を挿入治具71により挿入している。
これにより、多種多様な容器であっても誘電体部材50内に挿入可能な容器であれば、ネックハンドリングという簡易な操作で、バリア膜形成装置内に設置可能となる。また、誘電体部材50の存在により、容器内表面に亙って均一な成膜が可能となる。
本実施形態において、筒型形状の誘電体部材の一部、たとえば口部や肩部を、容器形状に近似の形状(完全な相似ではない)とすることで、多種の容器を許容できる形状とすることが可能であるが、このような形状も本特許において略筒型形状に含むものとする。
図32乃至図34は、他の実施の形態のバリア膜形成装置の概略図である。
本実施の形態では、図29乃至図31のバリア膜形成装置を上下反転構造としたものであり、工程の説明は省略する。本実施の形態のように、容器12の口部11を下向きの構成とすることで、炭素皮膜を形成する際に発生する副生成物である炭素粉が容器内に落下して付着することが抑止することができる。これにより、後工程である容器のエアクリーニングが非常に簡単化される。
さらに高いバリア性が必要な場合には、凹凸のない容器を使用する必要があるが、その場合でも、製作精度、成形精度、設置精度などによるバリア性の低下を本発明で押さえさらに高いバリア性(たとえば20倍)を得ることが出来る。
よって、ビールのような高バリアを必要とする場合にも、b値を4以下に抑えて見栄えの良い容器とすることが出来る。
12 プラスチック容器
13 外部電極
14 排気管
16 ガス吹き出し孔
17 内部電極
18 高周波電源
19 媒質ガス
50 誘電体部材
Claims (38)
- 少なくとも一以上の凹凸部を胴部に有する容器を被処理容器とし、
前記被処理容器内面にバリア膜を成膜するバリア膜形成装置であって、
前記容器を取り囲む大きさの空洞を有する誘電体部材と、
該誘電体部材の外周側を覆う外部電極と、
前記容器の口部が位置する側の前記外部電極の端面に絶縁部材を介して取り付けられ、前記容器内部を、排気管を介して減圧する排気手段と、
前記容器内にバリア膜生成用の媒質ガスを吹き出すためのガス吹出し部と、
前記外部電極と接地電極間に放電を発生させるための電界を付与するための電界付与手段とを具備し、
前記容器と前記誘電体部材とは、
前記容器胴部と前記誘電体部材とが離間した隙間を持つ部分(b)と、
前記容器胴部と前記誘電体部材とが前記離間した隙間を持つ部分(b)より近接した隙間を持つ部分(a)と、を有するように配置されてなることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1において、
前記離間した隙間を持つ部分(b)は、前記容器のくびれ部分と前記誘電体部材との空間であることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1又は2において、
前記ガス吹き出し部が接地されると共に、前記容器内に挿入され、内部電極を兼ねることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1乃至3のいずれか一つにおいて、
前記被処理物である容器を取り囲む大きさの空洞が、容器外周が通過するための最大通過軌跡線によって作られる空間と一致する、又はそれより大きな隙間を有することを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1乃至4のいずれか一つにおいて、
前記誘電体部材が、有底筒型形状であることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1乃至5のいずれか一つにおいて、
前記誘電体部材が、底無し筒型形状又は一部底を有する筒型形状であることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1乃至6のいずれか一つにおいて、
前記外部電極のうち前記容器の凹部空間に面した部分が前記誘電体部材で覆われてなることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1乃至7のいずれか一つにおいて、
前記誘電体部材の空洞の一部が容器と近接していることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1乃至8のいずれか一つにおいて、
前記誘電体部材が、フッ素系樹脂、硬質塩化ビニル、ガラス又はセラミックのいずれか一種又はこれらの組合せであることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1乃至9のいずれか一つにおいて、
前記誘電体部材の内部に前記容器が設置された際、容器の胴部と誘電体部材との間の空隙が、空隙幅の最大値と最小値の差が3mm以上となるように形成されてなるものであることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1乃至10のいずれか一つにおいて、
前記誘電体部材の厚さが均一であることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1乃至11のいずれか一つにおいて、
前記誘電体部材が、有底又は無底の筒型形状であると共に、
誘電体部材の平均厚さ/比誘電率が、0.95〜3.8の範囲であることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1乃至12のいずれか一つにおいて、
前記誘電体部材が、容器の肩部、口部のいずれか一方又は両方に空隙を持って設けてなることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1乃至13のいずれか一つにおいて、
前記誘電体部材又は空隙の厚さ(di)を比誘電率(εi)で除した換算距離di/εiの外部電極内表面から前記容器内表面までの総和が、容器全体に亙って均一であることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項14において、
前記換算距離di/εiの、外部電極内表面から前記容器内表面までの総和が、容器の全体で均一になるように、
前記誘電体部材の材料と、前記誘電体部材と空隙の厚さと、前記外部電極形状を組み合わせてなることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1乃至15のいずれか一つにおいて、
容器断面上の各容器表面地点における、前記誘電体部材又は空隙の厚さ(di)を比誘電率(εi)で除した換算距離di/εiの外部電極内表面から前記容器内表面までの各地点総和について、容器全体における各地点総和の標準偏差を平均値で除した値が0.75以下であることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 被処理物である少なくとも一以上の凹凸部を胴部に有する容器の少なくとも主要部を取り囲む大きさの空洞を有すると共に、前記空洞は前記容器外周が通過するための最大通過軌跡線によって作られる空間と一致する、又はそれより大きな隙間を有する誘電体部材と、
該誘電体部材の外周側に設置された外部電極と、
前記容器内部を、排気管を介して減圧する排気手段と、
前記容器内にバリア膜生成用の媒質ガスを吹き出すためのガス吹出し部と、
前記容器内に放電を発生させるために前記外部電極に接続された電界付与手段とを具備してなり、
前記容器と前記誘電体部材とは、
前記容器胴部と前記誘電体部材とが離間した隙間を持つ部分(b)と、
前記容器胴部と前記誘電体部材とが前記離間した隙間を持つ部分(b)より近接した隙間を持つ部分(a)と、
を有するように配置され、
前記容器内面にバリア膜を成膜することを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1又は17において、
前記外部電極は接地電極であると共に、
前記電界付与手段を接続した電極を前記容器内又は前記排気管に設けてなることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1又は17において、
前記誘電体部材の一部が前記容器と接することにより、前記容器の位置決めしてなることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1又は17において、
前記誘電体部材の一部が前記容器と接することにより、前記容器の位置決めしてなると共に、
前記容器と接する前記誘電体の一部が可動構造であり、
前記容器の挿入時又は取り出し時に移動してなることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1乃至20のいずれか一つにおいて、
前記外部電極を取り囲む大きさを持つ接地された導電性のアースシールドを前記外部電極と絶縁して設置することを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1乃至21のいずれか一つにおいて、
前記外部電極が真空容器を兼ねることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1乃至21のいずれか一つにおいて、
前記誘電体部材が真空容器を兼ねることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1又は17において、
前記外部電極を取り囲む大きさを持つ接地された導電性のアースシールドを前記外部電極と絶縁して設置すると共に、
前記アースシールドが真空容器を兼ねることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項22又は23において、
前記外部電極がシート状であることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1又は17において、
前記外部電極を取り囲む大きさを持つ接地された導電性のアースシールドを前記外部電極と絶縁して設置すると共に、
前記外部電極と前記アースシールドの間の全体に絶縁部材を設置することを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1又は17において、
被処理物である容器の形状が、筒型形状であることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1又は17において、
被処理物である容器の形状が、筒型形状であると共に、少なくとも一以上の凹部を有することを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1において、
前記誘電体が、前記容器との間に空隙を有することを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項1乃至29のいずれか一つのバリア膜形成装置を用い、被処理物の容器内面にバリア膜を均一に成膜することを特徴とするバリア膜形成方法。
- 請求項1又は17のバリア膜形成装置を用い、被処理物の容器内面にバリア膜を均一に成膜すると共に、
被処理物である容器の形状が、筒型形状であることを特徴とするバリア膜形成方法。 - 請求項1乃至29のいずれか一つのバリア膜形成装置を用い、被処理物の容器内面にバリア膜を均一に成膜すると共に、
被処理物である容器の形状が、筒型形状であると共に、少なくとも一以上の凹部を有することを特徴とするバリア膜形成方法。 - 請求項1乃至29のいずれか一つのバリア膜形成装置を用い、被処理物の容器内面にバリア膜を均一に成膜すると共に、
種々の空洞形状を有する複数の誘電体部材を用意し、その中から被処理物である容器の形状に適するように選択し、その後容器にバリア膜を形成することを特徴とするバリア膜形成方法。 - 請求項1乃至29のいずれか一つのバリア膜形成装置を用い、被処理物の容器内面にバリア膜を均一に成膜すると共に、
前記誘電体部材の全部または一部と、前記外部電極の全部または一部と、アースシールドの全部または一部が一体的に駆動手段により移動して、
前記真空容器を開閉し、容器の挿入、取り出しを行うことを特徴とするバリア膜形成方法。 - 請求項1又は17のバリア膜形成装置を用い、
ネックハンドリングにより前記容器を挿入および取り出しを行うことを特徴とするバリア膜形成方法。 - 請求項4、5又は17のいずれか一つにおいて、
前記誘電体部材は前記容器を有底筒型の外部電極の底方向に向かって当該容器底側から挿入できる開口を有することを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項4、5又は17のいずれか一つにおいて、
前記容器の口部が下向きになるように前記外部電極の口部端部を下向きとし、
前記外部電極の端部の下側に絶縁部材を介して排気管を取り付けることを特徴とするバリア膜形成装置。 - 請求項37のバリア膜形成装置を用い、
当該容器を上下反転させた後、ネックハンドリングにより、
前記容器の外部電極への挿入および取り出しを行うことを特徴とするバリア膜形成方法。
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