JP5721257B2 - 高周波焼入装置 - Google Patents
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Description
また、第2上下移動手段が内側冷却液噴射装置を、誘導加熱時における支持部材の張出部と内側加熱導体の両方に接触しない高さと、冷却時における被加熱物に対向する高さの間を移動させることができる。そのため、支持部材の載置部の高さ寸法を、被加熱物が内側加熱導体に対向する高さレベルと、被加熱物が内側冷却液噴射装置に対向する高さレベルの差よりも小さく設定することができる。よって、被加熱物を支持する支持部材の高さを低くし、さらに支持部材の高さに合わせて冷却液を貯留する冷却液槽の深さを浅くすることができる。その結果、高周波焼入装置を小型化し、省スペース化を図ることができる。
図9に示すように、高周波焼入装置1は、加熱装置45,冷却装置46,制御装置40,入力装置42を備えている。オペレータは入力装置42によって制御装置40に信号を入力する。制御装置40は、入力装置42からの信号を受け、加熱装置45及び冷却装置46の動作を制御する。
まず、本発明の主要部を構成する冷却装置46について説明する。
図1,図6に示すように冷却装置46は支持部材3,内側冷却液噴射装置4,昇降装置5(第1上下移動装置),エアシリンダ6(第2上下移動装置),冷却液槽11,外側冷却液噴射装置14等を備えている。図1では、装置内部の構成が把握し易くなるように、一部を破断して描写している。
ベース部材27には、エアシリンダ6(第2上下移動手段),駆動モータ9(回転駆動手段),支持部材3が設けられている。エアシリンダ6は、ロッド部6bとロッド部6bを収容する本体部6aとを有する。エアシリンダ6の本体部6aはベース部材27に固定されており、ロッド部6bは連結部材33を介して給液管7と連結されている。連結部材33は剛性を有する板状の部材である。
図1,図6に示すように支持部材3は、支持部28,張出部15,載置部16を有している。支持部28は、給液管7と同心状に設けられる筒状の部材である。また、支持部28は、軸受29を介してベース部材27上に設置されている。さらに、支持部28は、冷却液槽11の底部11aと給液管7に対して回転可能な構造を有している。すなわち、支持部材28は内側筒28aと外側筒28bとからなる二重筒構造を備えている。内側筒28aと給液管7の間には、一対の軸受31a(上側軸受),31b(下側軸受)が設けられている。よって、内側筒28aは、給液管7に対して回動可能である。
高周波焼入装置1の冷却装置46に係る構造は、以上のような構成を有している。
加熱装置45は、高周波電源41,内側加熱導体2,外側加熱導体13,内側加熱導体駆動装置43,外側加熱導体駆動装置44等を有している。高周波電源41は、商用電源から供給される電力を高周波化する高周波発信器と、高周波化した電力を高圧化する変圧器を備えている。そして、高周波電源41から内側加熱導体2又は外側加熱導体13には高周波電流が供給可能である。
制御装置40には入力装置42が接続されている。入力装置42は、オペレータによって操作され、環状の被加熱物10の内周面10aと外周面10bのいずれを焼入するかを選定することができる。すなわち、入力装置42は切替装置として機能する。入力装置42には、例えば内側用スイッチと外側用スイッチ(図示せず)とが設けられている。そして、被加熱物10の内周面10aを焼入する場合には、オペレータが入力装置42の内側用スイッチをON状態にすることによって制御装置40に指令信号を送信する。内側用スイッチと外側用スイッチは、排他的にON状態とOFF状態とが切り替わる。
まず、入力装置42の内側用スイッチがON状態となった場合の動作を説明する。
最初に、焼入対象の被加熱物10が、図示しない搬送装置によって支持部材3の上方(加熱位置)まで搬送される(図1)。すなわち制御装置40は、図示しない搬送装置を駆動させて、被加熱物10を加熱位置まで搬送させる。
その結果、図示しない搬送装置によって支持されて加熱位置で待機する被加熱物10が、載置部16によって支持される。すなわち、被加熱物10の支持が、図示しない搬送装置から支持部材3に移行する。制御装置40は、被加熱物10を加熱位置まで搬送した搬送装置を加熱位置から退避させる。また制御装置40は、昇降装置5を駆動して被加熱物10を下降させ、被加熱物10を加熱位置から退避させる。
2 内側加熱導体
3 支持部材
4 内側冷却液噴射装置
5 昇降装置(第1上下移動手段)
6 エアシリンダ(第2上下移動手段)
7 冷却液通路
8 冷却液槽の底部に設けた孔
9 支持部材を回転させる駆動モータ(回転駆動手段)
10 環状の被加熱物
10a 被加熱物の内周面
10b 被加熱物の外周面
11 冷却液槽
12 冷却液槽に貯留された冷却液
12a 液面
13 外側加熱導体
14 外側冷却液噴射装置
15 支持部材の張出部
16 支持部材の載置部
27 ベース部材
Claims (3)
- 環状の被加熱物を誘導加熱し、前記被加熱物を冷却液槽に貯留した冷却液に浸漬させて焼入れする高周波焼入装置であって、
被加熱物の内周面に高周波誘導電流を励起させる内側加熱導体と、
被加熱物を支持する支持部材と、
前記冷却液槽の冷却液に浸漬した被加熱物の内周面に冷却液を噴射供給する内側冷却液噴射装置とを有し、
内側加熱導体は、前記冷却液槽に貯留された冷却液の液面よりも上に配置され、
前記支持部材及び被加熱物を上下移動させる第1上下移動手段と、内側冷却液噴射装置を上下移動させる第2上下移動手段とを設け、
内側冷却液噴射装置に冷却液を導く冷却液通路と支持部材とが、冷却液槽の底部に設けた共通の孔を貫通しており、前記孔は被加熱物よりも小径であり、
支持部材は、前記孔を貫通する支持部と、前記支持部から半径方向外方に延びる複数の張出部と、前記張出部から起立し、被加熱物を載置する載置部とを備えており、
前記第1上下移動手段は被加熱物を、誘導加熱時における内側加熱導体に対向する高さと、冷却液槽に貯留した冷却液に浸漬する高さの間を移動させることができ、
前記第2上下移動手段は内側冷却液噴射装置を、誘導加熱時における支持部材の張出部と内側加熱導体の両方に接触しない高さと、冷却時における被加熱物に対向する高さの間を移動させることができることを特徴とする高周波焼入装置。 - 前記支持部材を回転させる回転駆動手段を設けたことを特徴とする請求項1に記載の高周波焼入装置。
- 被加熱物の外周面に高周波誘導電流を励起させる外側加熱導体と、
冷却液槽の冷却液に浸漬した被加熱物の外周面に冷却液を噴射供給する外側冷却液噴射装置とを備えたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の高周波焼入装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011017010A JP5721257B2 (ja) | 2011-01-28 | 2011-01-28 | 高周波焼入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011017010A JP5721257B2 (ja) | 2011-01-28 | 2011-01-28 | 高周波焼入装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012158774A JP2012158774A (ja) | 2012-08-23 |
JP5721257B2 true JP5721257B2 (ja) | 2015-05-20 |
Family
ID=46839548
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011017010A Active JP5721257B2 (ja) | 2011-01-28 | 2011-01-28 | 高周波焼入装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5721257B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6446252B2 (ja) * | 2014-12-11 | 2018-12-26 | 高周波熱錬株式会社 | 熱処理装置 |
CN109680139B (zh) * | 2019-03-07 | 2020-06-19 | 安徽文君自动化科技有限公司 | 一种回转支承外圈滚道的热处理装置 |
CN115247229B (zh) * | 2021-12-27 | 2024-03-26 | 张磊 | 一种用于粉末冶金的齿轮淬火装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0748662Y2 (ja) * | 1991-06-14 | 1995-11-08 | 富士電子工業株式会社 | 内周面焼入装置 |
JP2731883B2 (ja) * | 1992-08-31 | 1998-03-25 | 富士電子工業株式会社 | 環状ワークの内周面高周波焼入装置 |
JPH07224327A (ja) * | 1993-07-21 | 1995-08-22 | Fuji Denshi Kogyo Kk | ほぼ筒状ワークの高周波焼入方法および高周波焼入装置 |
KR100749314B1 (ko) * | 2006-04-28 | 2007-08-14 | 성보공업주식회사 | 링기어용 고주파 열처리 장치 |
JP2010024516A (ja) * | 2008-07-23 | 2010-02-04 | Fuji Electronics Industry Co Ltd | 高周波焼入装置の浸漬冷却装置 |
-
2011
- 2011-01-28 JP JP2011017010A patent/JP5721257B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012158774A (ja) | 2012-08-23 |
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