JP5711541B2 - 薬液吐出弁及び薬液供給システム - Google Patents
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Description
前記薬液が供給される薬液供給口と、前記薬液を吐出する薬液吐出口とが形成されている弁室を有するバルブ本体と、
前記薬液供給口と前記薬液吐出口のいずれか一方との距離であるリフト量を閉弁状態と最大リフト量との間で操作することによって、前記薬液供給口と前記薬液吐出口との間の流通状態を変化させる当接部を有するダイアフラム弁と、
作動ガスの供給量を操作するための第1開度を連続的に調整可能な第1比例制御弁と、作動ガスの排出量を操作するための第2開度を連続的に調整可能な第2比例制御弁と、前記第1比例制御弁と前記第2比例制御弁とを接続する中間流路に接続されている作動ガス供給口とを有する作動ガス供給部と、
前記作動ガス供給口から供給された作動ガスの供給圧力に応じて前記当接部を駆動し、前記当接部の駆動によって前記リフト量を操作するアクチュエータ部と、
を備え、
前記アクチュエータ部は、前記最大リフト量を調整可能に制限するリフト量制限部を有する薬液吐出弁。
前記ピストンは、前記シリンダ室をOリングで封止する摺動部を有する手段1記載の薬液吐出弁。
手段1乃至3のいずれか1項に記載の薬液吐出弁と、
前記第1開度と前記第2開度の連続的な調整によって、前記作動ガスの供給圧力を操作して前記薬液の供給量を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記閉弁状態で維持させる閉弁維持操作と、前記閉弁状態から前記最大リフト量となるように前記リフト量を増大させる開弁操作と、前記リフト量を前記最大リフト量に維持する開弁維持操作と、前記最大リフト量から前記閉弁状態となるように前記リフト量を減少させる閉弁操作とを順に前記アクチュエータ部に実行させることによって間欠的に前記薬液を吐出する薬液供給システム。
前記第2比例制御弁は、非通電で閉状態となる弁であり、
前記制御部は、前記開弁維持操作においては前記第2比例制御弁を非通電とする薬液供給システム。
図1は、本発明の実施形態の薬液供給システム90とスピンコータ60とを示す回路図である。薬液供給システム90は、スピンコータ60に薬液としてのレジスト液Rを供給するシステムである。スピンコータ60は、半導体ウェハW上にレジスト液Rで薄膜を形成する装置である。スピンコータ60は、回転板61と、回転板61上に載置された半導体ウェハWの中心位置に薬液としてのレジスト液Rを供給(滴下)する薬液吐出ノズル62と、薬液吐出ノズル62に薬液を供給する薬液流路63とを備えている。
図5は、実施形態における薬液吐出バルブ100の制御ブロック図である。サブコントローラ190は、エアオペレートバルブ120への作動エアの供給圧力を圧力指令値Ptに近づけるように制御する。本制御は、第1比例制御弁51と第2比例制御弁52とのバルブ開度を連続的に操作することによって行なわれる。コントローラ10及びサブコントローラ190は制御部とも呼ばれる。
図7は、比較例における薬液の吐出状態を高速度カメラで撮影した様子を示す図である。図8は、実施例における薬液の吐出状態を高速度カメラで撮影した様子を示す図である。図6(a)は比較例の薬液吐出バルブの閉弁開始時の状態を示している。図6(b)(c)(d)は、順に薬液の供給流量がゼロ(液切れ時)になるまでの過程を示している。図7(a)は実施例の薬液吐出バルブの閉弁開始時の状態を示している。図7(b)(c)(d)は、順に薬液の供給流量がゼロ(液切れ時)になるまでの過程を示している。
(1)上記の実施形態では、(イ)作動エアの圧力制御に起因する脈動抑制、(ロ)作動エアの供給流路のオリフィス59による脈動低減、および(ハ)ピストンロッド123のスティックスリップ現象の予防といった様々な観点から対策を施しているが、必ずしも全てを装備する必要はなく、少なくとも一つを実装すればよい。
(2)上記実施の形態では、フォトリソグラフィにおいて、薬液としてレジスト液Rを半導体ウェハWに塗布する例が示されているが、プロセスや薬液の種類はこれに限られず、薬液の供給が行われるシステムに適用することができる。
(3)上記実施の形態では、作動エアによって駆動されているが、たとえば窒素ガスで駆動するようにしてもよく、一般に作動ガスで駆動されるものであれば良い。
Claims (6)
- 回転するウェハ上に薬液を供給するための薬液吐出弁であって、
前記薬液が供給される薬液供給口と、前記薬液を吐出する薬液吐出口とが形成されている弁室を有するバルブ本体と、
前記薬液吐出口における前記弁室側の端部との距離であるリフト量を閉弁状態と最大リフト量との間で操作することによって、前記薬液供給口と前記薬液吐出口との間の流通状態を変化させる当接部を有するダイアフラム弁と、
作動ガスの供給量を操作するための第1開度を連続的に調整可能な第1比例制御弁と、作動ガスの排出量を操作するための第2開度を連続的に調整可能な第2比例制御弁と、前記第1比例制御弁と前記第2比例制御弁とを接続する中間流路に接続されている作動ガス供給口とを有する作動ガス供給部と、
前記作動ガス供給口から供給された作動ガスの供給圧力に応じて前記当接部を駆動し、前記当接部の駆動によって前記リフト量を操作するアクチュエータ部と、
を備え、
前記アクチュエータ部は、前記最大リフト量を調整可能に制限するリフト量制限部を有する薬液吐出弁。 - 前記作動ガス供給口に供給される前記作動ガスの脈動を抑制するオリフィスを備える請求項1記載の薬液吐出弁。
- 前記アクチュエータ部は、前記作動ガスの供給圧力に応じて前記当接部を駆動するためのピストンと、前記ピストンを収容するシリンダ室が形成されているシリンダとを有し、
前記ピストンは、前記シリンダ室をOリングで封止する摺動部を有する請求項1又は2記載の薬液吐出弁。 - 前記薬液は、フォトリソグラフィープロセスに使用されるレジスト液である請求項1乃至3のいずれか1項に記載の薬液吐出弁。
- 薬液供給システムであって、
請求項1乃至4のいずれか1項に記載の薬液吐出弁と、
前記第1開度と前記第2開度の連続的な調整によって、前記作動ガスの供給圧力を操作して前記薬液の供給量を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記閉弁状態で維持させる閉弁維持操作と、前記閉弁状態から前記最大リフト量となるように前記リフト量を一定速度で増大させる開弁操作と、前記リフト量を前記最大リフト量に維持する開弁維持操作と、前記最大リフト量から前記閉弁状態となるように前記リフト量を一定速度で減少させる閉弁操作とを順に前記アクチュエータ部に実行させることによって間欠的に前記薬液を吐出する薬液供給システム。 - 請求項5記載の薬液供給システムであって、
前記第2比例制御弁は、非通電で閉状態となる弁であり、
前記制御部は、前記開弁維持操作においては、前記第1比例制御弁を開状態に制御し、前記第2比例制御弁を非通電とする薬液供給システム。
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