JP5710508B2 - 有機リン化合物、該化合物を含む触媒系及び該触媒を使用するヒドロシアン化又はヒドロホルミル化方法 - Google Patents
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Description
・R1、R2、R3、R4、R5、R7及びZは、同一のもの又は異なるものであってよく、水素原子、ヘテロ原子を含有していてよい、1〜12個の炭素原子を有する直鎖又は分岐アルキル基、ヘテロ原子を含有していてよい置換又は非置換の芳香族又は脂環式基を有する基、カルボニル、アルコキシカルボニル又はアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトリル基又は1〜12個の炭素原子を有するハロアルキル基を表し、
・X、X1及びX2は、同一のもの又は異なるものであってよく、酸素、窒素、硫黄、炭素又は珪素原子を表し、
・R6は、共有結合、直鎖又は分岐脂肪族基、置換若しくは非置換の芳香族若しくは脂環式環又は結合により互いに縮合若しくは結合した数個の芳香族環を含む基を表し、
・n及びn1は、同一のもの又は異なるものであってよく、それぞれ、元素X1、X2の原子価を2で減じたものに等しい整数である。
・R1、R2、R3、R4は、同一のもの又は異なるものであってよく、水素原子、又はヘテロ原子を含有していてよい、1〜12個の炭素原子を有する直鎖若しくは分岐アルキル基を表し、
・Zは、ヘテロ原子を含有していてよい置換又は非置換の芳香族又は脂環式基、カルボニル、アルコキシカルボニル又はアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトリル基又は1〜12個の炭素原子を有するハロアルキル基を表し、
・R5は、共有結合、直鎖又は分岐脂肪族基、置換若しくは非置換の芳香族若しくは脂環式環又は結合により互いに縮合若しくは結合した数個の芳香族環を含む基を表す。
M[Lf]t(V)又は
HM[Lf]t+n(CO)4-n(VI)
式中、
Mは遷移金属であり、
Lfは、式(I)、(II)、(III)又は(IV)の少なくとも1個の有機リン配位子を表し、
tは1〜10の数を表し、
nは1〜4の数を表す。
・ニッケルが酸化度ゼロの化合物、例えばテトラシアノニッケル酸カリウムK4[Ni(CN)4]、ニッケル(ゼロ)ビス(アクリロニトリル)、ニッケルビス(シクロオクタジエン−1,5)(Ni(cod)2ともいう)及び誘導体テトラキス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(ゼロ)などの配位子を有する誘導体。
・カルボキシレート(特にアセテート)、カーボネート、ビカーボネート、ボレート、臭化物、塩化物、シトレート、チオシアネート、シアン化物、ホルメート、水酸化物、ヒドロホスフィット、ホスフィット、ホスフェート及びその誘導体、沃化物、ニトレート、スルフェート、スルフィット、アリールスルホネート及びアルキルスルホネートなどのニッケル化合物。
・acacはアセチルアセトンを表し
・CODはシクロオクタジエンを表す。)
の化合物を使用して製造できる。
使用した略語
・Ph:フェニル基
・Cod:シクロオクタジエン
・Ni(Cod)2:ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル
・Rh(acac)(CO)2:ロジウムジカルボニルアセチルアセトン
・3PN:3−ペンテンニトリル
・AdN:アジポニトリル
・ESN:エチルスクシノニトリル
・MGN:メチルグルタロニトリル
・DN:ジニトリル化合物(AdN、MGN又はESN)
・TIBAO:テトライソブチルジアルミノキサン
・TT(Y):転化されたYのモル数対Yの初期モル数の比に相当する、転化される生成物Yの転化率
・RR(DN):形成されたジニトリルのモル数対使用した3PNのモル数の比に相当する、真のジニトリル収率
・線状性(L):AdNのモル数対形成されたジニトリルのモル数(AdN、ESN及びMGNのモル数の合計)の比
次の化合物:3PN、Ni(Cod)2、ZnCl2、TIBAO、BPh3、ジフェニルボリン酸無水物(Ph2BOPh2)、Rh(acac)(CO)2は、既知の物質であり、市販されている。
第1工程において、Br2(3.5158g、0.022モル)のCH2Cl2(30mL)溶液を30分以内にCgPH(4.3243g、0.02モル)を60mLのジクロルメタン(CH2Cl2)に溶解してなる溶液に0℃で添加し、この温度で30分間撹拌し、次いで1時間にわたり室温で撹拌する。溶媒を蒸発させ、そして僅かに黄色の固形物を得た(CgPBr)。NMR31Pδ53.5(CH2Cl2中):
ブチルリチウム(BuLi)のヘキサン溶液(1.6M、0.02モル、12.5mL)をフェノール(1.8822g、0.02モル)のテトラヒドロフラン(THF)(20mL)溶液に0℃でゆっくりと添加する。この混合物を室温で1時間にわたり撹拌し、続いて30分以内にCgPBr(5.9022g、0.02モル)のTHF(60mL)溶液に0℃で添加する。得られた懸濁液を一晩撹拌してから溶媒を蒸発させる。この粗配位子のCH2Cl2溶液をシリカでろ過し、そして溶媒を蒸発させる。この配位子を、窒素圧力下で、溶媒としてCH2Cl2/ペンタン混合物(体積で1/3)を使用してシリカカラムクロマトグラフィーにより精製する。
得られた量:4.33g(収率:70%)
31P NMRδ79.3(CDCl3中)。
BuLiのヘキサン溶液(1.6M、0.02モル、12.5mL)を2,4,6−トリメチルフェノール(2.7238 g、0.02モル)のTHF(20mL)溶液に0℃でゆっくりと添加する。この混合物を室温で1時間にわたり撹拌し、続いて30分以内にCgPBr(5.9022g、0.02モル)のTHF(60mL)溶液に0℃で添加する。得られた懸濁液を一晩撹拌してから溶媒を蒸発させる。この粗配位子をCH2Cl2(60mL)に溶解させ、そして50mLの水を添加する。水性相をCH2Cl2(50mL)で抽出し、そして一緒にした有機相をNa2SO4で乾燥させ、ろ過し、そして溶媒を蒸発させる。この配位子を、窒素圧力下で、溶媒としてCH2Cl2/ペンタン混合物(体積で1/3)を使用してシリカカラムクロマトグラフィーにより精製する。
得られた量:4.21g(60%)
31P NMRδ82.0(CDCl3中)
BuLiのヘキサン溶液(1.6M、0.02モル、12.5mL)を2−メチルフェノール(2.1628g、0.02モル)のTHF(20mL)溶液に0℃でゆっくりと添加する。この混合物を室温で1時間にわたり撹拌し、続いて30分以内にCgPBr(5.9022g、0.02モル)のTHF(60mL)溶液に0℃で添加する。得られた懸濁液を一晩撹拌してから溶媒を蒸発させる。この粗配位子をCH2Cl2(60mL)に溶解させ、そして50mLの水を添加する。水性相をCH2Cl2(50mL)で抽出し、そして一緒にした有機相をNa2SO4で乾燥させ、ろ過し、そして溶媒を蒸発させる。この配位子を、窒素圧力下で、溶媒としてCH2Cl2/ペンタン混合物(体積で1/3)を使用してシリカカラムクロマトグラフィーにより精製する。
得られた量:5.01g(78%)
31P NMRδ76.0(CDCl3中)
BuLiのヘキサン溶液(1.6M、0.02モル、12.5mL)を2,4−ジ−t−ブチルフェノール(4.125g、0.02モル)のTHF(20mL)溶液に0℃でゆっくりと添加する。この混合物を室温で1時間にわたり撹拌し、続いて30分以内にCgPBr(5.9022g、0.02モル)のTHF(60mL)溶液に0℃で添加する。得られた懸濁液を一晩撹拌してから溶媒を蒸発させる。この粗配位子をCH2Cl2(60mL)に溶解させ、そして50mLの水を添加する。水性相をCH2Cl2(50mL)で抽出し、そして一緒にした有機相をNa2SO4で乾燥させ、ろ過し、そして溶媒を蒸発させる。この配位子を、窒素圧力下で、溶媒としてCH2Cl2/ペンタン混合物(体積で1/3)を使用してシリカカラムクロマトグラフィーにより精製する。
得られた量:6.24g(74%)
31P NMRδ68.8(CDCl3)
BuLiのヘキサン溶液(1.6M、0.02モル、12.5mL)をジフェノール(1.8621g、0.01モル)のTHF(20mL)溶液に0℃でゆっくりと添加する。この混合物を室温で1時間にわたり撹拌し、続いて30分以内にCgPBr(5.9022g、0.02モル)のTHF(60mL)溶液に0℃で添加する。得られた懸濁液を一晩撹拌してから溶媒を蒸発させる。この粗配位子をCH2Cl2(60mL)に溶解させ、そして50mLの水を添加する。水性相をCH2Cl2(50mL)で抽出し、そして一緒にした有機相をNa2SO4で乾燥させ、そしてろ過し、そして溶媒を蒸発させる。配位子5をCH2Cl2/ペンタン混合物(体積で1/5)から結晶化により精製する。
得られた量:3.0g(49%)
31P NMRδ82.8(CDCl3中)
BuLiのヘキサン溶液(1.6M、0.02モル、12.5mL)をメタノール(0.5768g、0.018モル)のTHF(20mL)溶液に0℃でゆっくりと添加する。この混合物を室温で1時間にわたり撹拌し、続いて30分以内にCgPBr(5.9022g、0.02モル)のTHF(60mL)溶液に0℃で添加する。得られた懸濁液を一晩撹拌してから溶媒を蒸発させる。この粗配位子をCH2Cl2(60mL)に溶解させ、そして50mLの水を添加する。水性相をCH2Cl2(50mL)で抽出し、そして一緒にした有機相をNa2SO4で乾燥させ、ろ過し、そして溶媒を蒸発させる。この配位子を、窒素圧力下で、溶媒としてCH2Cl2/ペンタン混合物(体積で1/3)を使用してシリカカラムクロマトグラフィーにより精製する。
得られた量:3.11g(70%)
31P NMRδ88.5(CDCl3中)
BuLiのヘキサン溶液(1.6M、0.02モル、12.5mL)を1,2−ベンゼンジメタノール(1.2711g、0.00092モル)のTHF(20mL)溶液に0℃でゆっくりと添加する。この混合物を室温で1時間にわたり撹拌し、続いて30分以内にCgPBr(5.9022g、0.02モル)のTHF(60mL)溶液に0℃で添加する。得られた懸濁液を一晩撹拌してから溶媒を蒸発させる。この粗配位子をCH2Cl2(60mL)に溶解させ、そして50mLの水を添加する。水性相をCH2Cl2(50mL)で抽出し、そして一緒にした有機相をNa2SO4で乾燥させ、ろ過し、そして溶媒を蒸発させる。この配位子を、窒素圧力下で、溶媒としてエチルアセテート/ヘキサン混合物(体積で1/6)を使用してシリカカラムクロマトグラフィーにより精製する。
得られた量:3.87g(74%)
31P NMRδ85.9及び86.0(CDCl3中)
BuLiのヘキサン溶液(1.6M、0.02モル、12.5mL)をトリフルオルエタノール(2.0008g、0.02モル)のTHF(20mL)溶液に0℃でゆっくりと添加する。この混合物を室温で1時間にわたり撹拌し、続いて30分以内にCgPBr(5.9022g、0.02モル)のTHF(60mL)溶液に0℃で添加する。得られた懸濁液を一晩撹拌してから溶媒を蒸発させる。この配位子を、窒素圧力下で、溶媒としてCH2Cl2/ペンタン混合物(体積で1/3)を使用してシリカカラムクロマトグラフィーにより精製する。
得られた量:4.81g、(77%)。
31P NMRδ97.2、4JP,F7.4Hz(CDCl3中)
19F NMRδ−75.1、4JF,P〜3JF,H7.3Hz(CDCl3中)
BuLiのヘキサン溶液(1.6M、0.01モル、6.25mL)を1,2−ベンゼン(ジメタノール)(2.0725g、0.015モル)のTHF(50mL)溶液に0℃でゆっくりと添加する。この混合物をゆっくりと室温にし、1時間撹拌する。次いで、CgPBr(2.9511g、0.01モル)のTHF(50mL)溶液を上記懸濁液に0℃で30分でゆっくりと添加し、そしてこの混合物を3時間にわたり室温で撹拌する。溶媒を蒸発させ、得られた固形物をCH2Cl2(50mL)に溶解させ、そして50mLの水を添加する。水性相を50mLのCH2Cl2で抽出し、そして一緒にした有機相をNa2SO4で乾燥させ、ろ過し、そして溶媒を蒸発させる。この化合物を、窒素圧力下で、溶媒としてエチルアセテート/ヘキサン混合物(体積で1/6)を使用してシリカカラムクロマトグラフィーにより精製する。
得られた量:2.89g(収率82%)
31P NMRδP87.9(CDCl3)
ブチルリチウム(BuLi)のヘキサン溶液(1.6M、0.01モル、6.25mL)をチオフェノール(1.11g、0.01モル)のテトラヒドロフラン(THF)(15mL)溶液に0℃でゆっくりと添加する。この混合物を室温で1時間にわたり撹拌し、続いて30分でCgPBr(2.95g、0.01モル)のTHF(50mL)溶液に0℃で添加する。得られた懸濁液を一晩撹拌してから溶媒を蒸発させる。この配位子を、窒素圧力下で、溶媒としてCH2Cl2/ペンタン混合物(体積で1/3)を使用してシリカカラムクロマトグラフィーにより精製する。
得られた量:2.76g(85%)
31P NMRδP 21.5(CDCl3)
次の手順を使用する:
不活性雰囲気下で、オートクレーブにRh(acac)(CO)2(6.2mg、0.024ミリモル)と、本発明に従う配位子(その性質及び量を表1に示す)と、5mLのトルエンとを装入する。続いて、この反応器をH2/CO混合物(1:1、モル比)を20barに加圧し、そして60℃で1時間にわたり加熱し、続いて室温にまで冷却し、脱気し、そして窒素でパージする。続いて1.2mLの1−ヘキサンを添加し、そしてオートクレーブをH2/CO混合物(1:1、モル比)で20barに再度加圧し、60℃に1時間にわたり加熱する。続いて、この反応器を室温にまで冷却し、脱気し、そして窒素でパージする。得られた生成物を1H NMR(核磁気共鳴による分析)により分析する。得られた生成物は、ヒドロホルミル化により生成物を含む混合物、例えばヘプタノール(線状生成物)及び2−メチルヘキサナール(分岐生成物)である。
次の手順を使用する:
アルゴン雰囲気下で、ストッパー隔壁を備える60mLのショット型ガラス管に次のものを連続的に充填する:
・配位子(1ミリモル、Pにおいて2当量)
・無水3PNを1.21g(15ミリモル、30当量)
・Ni(cod)2を138mg(0.5ミリモル、1当量)
・ルイス酸(量については表2参照)。
Claims (14)
- 次の一般式(II)に相当することを特徴とする有機リン化合物:
・R1、R2、R3、R4、R5、R7は、同一のもの又は異なるものであってよく、水素原子、ヘテロ原子を含有していてよい、1〜12個の炭素原子を有する直鎖又は分岐アルキル基、ヘテロ原子を含有していてよい置換又は非置換の芳香族又は脂環式基を有する基、アルコキシカルボニル又はアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトリル基又は1〜12個の炭素原子を有するハロアルキル基を表し、
・X1及びX2は、同一のもの又は異なるものであってよく、酸素、窒素、硫黄、又は珪素原子を表し、
・R6は、共有結合、直鎖又は分岐脂肪族基、置換若しくは非置換の芳香族若しくは脂環式環又は結合により互いに縮合若しくは結合した数個の芳香族環を含む基を表し、
・n及びn1は、同一のもの又は異なるものであってよく、それぞれ、元素X1、X2の原子価を2で減じたものに等しい整数である。 - 有機ホスフィナイトの群に属し、かつ、次の一般式(IV)に相当することを特徴とする請求項1に記載の化合物:
・R1、R2、R3、R4は、同一のもの又は異なるものであってよく、水素原子、又はヘテロ原子を含有していてよい、1〜12個の炭素原子を有する直鎖若しくは分岐アルキル基を表し、
・R5は、共有結合、直鎖又は分岐脂肪族基、置換若しくは非置換の芳香族若しくは脂環式環又は結合により互いに縮合若しくは結合した数個の芳香族環を含む基を表す。 - 次式を有する化合物よりなる群から選択されることを特徴とする、請求項1又は2に記載の化合物:
- 請求項1〜3のいずれかに記載の有機リン化合物と錯体を形成する金属元素を含む触媒系であって、該錯体が次の一般式(V)又は(VI)に相当することを特徴とする触媒系
M[Lf]t(V)
HM[Lf]t+nCO4-n(VI)
式中、
Mは遷移金属であり、
Lfは、式(II)又は(IV)の少なくとも1個の有機リン配位子を表し、tは1〜10の数を表し、
nは1〜4の数を表す。 - 前記金属元素Mがニッケル、コバルト、鉄、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀よりなる群から選択される、請求項4に記載の触媒系。
- 請求項4又は5に記載の触媒系の存在下に液体媒体中でシアン化水素と反応させることにより少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有する炭化水素化合物をヒドロシアン化させる方法であって、前記金属元素がニッケルであることを特徴とする方法。
- 前記少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有する有機化合物がジオレフィン、エチレン性不飽和脂肪族ニトリル、モノオレフィン並びにこれらの化合物の数種の混合物から選択されることを特徴とする、請求項6に記載の方法。
- 前記ニッケル化合物の量は、ヒドロシアン化又は異性化を受ける有機化合物1モル当たり、10-4〜1モルのニッケル又は使用する他の遷移金属となるように選択され、しかも有機リン化合物の使用量は、1モルの遷移金属に対するこれらの化合物のモル数が0.5〜100となるように選択されることを特徴とする、請求項6又は7に記載の方法。
- 前記エチレン性不飽和化合物がエチレン性不飽和ニトリル化合物であり、しかも前記方法を少なくとも1種の遷移金属化合物と、少なくとも1種の式(II)又は(IV)の化合物と、少なくとも1種のルイス酸からなる共触媒とを含む触媒系の存在下で実施することを特徴とする、請求項6〜8のいずれかに記載の方法。
- 前記エチレン性不飽和ニトリル化合物が線状ペンテンニトリルを含むエチレン性不飽和脂肪族ニトリルから選択されることを特徴とする、請求項9に記載の方法。
- 共触媒として使用するルイス酸が周期律表の第Ib、IIb、IIIa、IIIb、IVa、IVb、Va、Vb、VIb、VIIb及びVIII族の元素の化合物から選択されることを特徴とする、請求項9〜10のいずれかに記載の方法。
- 前記ルイス酸が塩化亜鉛、臭化亜鉛、沃化亜鉛、塩化マンガン、臭化マンガン、塩化カドミウム、臭化カドミウム、塩化第一錫、臭化第一錫、硫酸第一錫、酒石酸第一錫、トリフルオルメタンスルホン酸インジウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ハフニウム、エルビウム、タリウム、イッテルビウム及びルテチウムから選択される希土類元素の塩化物又は臭化物、塩化コバルト、塩化第一鉄、塩化イットリウム並びにそれらの混合物、有機金属化合物よりなる群から選択されることを特徴とする、請求項9〜11のいずれかに
記載の方法。 - ブタジエンのヒドロシアン化により得られる反応混合物中に存在するメチル−2−ブテン−3−ニトリルのペンテンニトリルへの異性化を、シアン化水素を存在させずに、少なくとも1種の式(II)又は(IV)の化合物と少なくとも1種の遷移金属化合物とを有する触媒の存在下で実施することを特徴とする、請求項6〜12のいずれかに記載の方法。
- 請求項4又は5に記載の触媒系の存在下でアルケンをヒドロホルミル化する方法であって、前記金属元素がロジウム又はコバルトであることを特徴とする方法。
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