JP5687743B1 - 紫外線照射装置 - Google Patents

紫外線照射装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5687743B1
JP5687743B1 JP2013188749A JP2013188749A JP5687743B1 JP 5687743 B1 JP5687743 B1 JP 5687743B1 JP 2013188749 A JP2013188749 A JP 2013188749A JP 2013188749 A JP2013188749 A JP 2013188749A JP 5687743 B1 JP5687743 B1 JP 5687743B1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ultraviolet
ultraviolet irradiation
sludge
treatment tank
sensor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013188749A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015054281A (ja
Inventor
小林 伸次
伸次 小林
法光 阿部
法光 阿部
健志 出
健志 出
昭彦 城田
昭彦 城田
竹内 賢治
賢治 竹内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2013188749A priority Critical patent/JP5687743B1/ja
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to AU2014319794A priority patent/AU2014319794B2/en
Priority to CA2923013A priority patent/CA2923013C/en
Priority to SG11201601632TA priority patent/SG11201601632TA/en
Priority to CN201480044549.9A priority patent/CN105473512B/zh
Priority to US14/916,549 priority patent/US20160214872A1/en
Priority to PCT/JP2014/056459 priority patent/WO2015037257A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5687743B1 publication Critical patent/JP5687743B1/ja
Publication of JP2015054281A publication Critical patent/JP2015054281A/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/30Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
    • C02F1/32Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/52Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/76Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with halogens or compounds of halogens
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/28Treatment of water, waste water, or sewage by sorption
    • C02F1/283Treatment of water, waste water, or sewage by sorption using coal, charred products, or inorganic mixtures containing them
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F2001/007Processes including a sedimentation step
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/007Contaminated open waterways, rivers, lakes or ponds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/06Contaminated groundwater or leachate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/322Lamp arrangement
    • C02F2201/3225Lamps immersed in an open channel, containing the liquid to be treated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/322Lamp arrangement
    • C02F2201/3227Units with two or more lamps
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/326Lamp control systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2303/00Specific treatment goals
    • C02F2303/04Disinfection

Landscapes

  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)

Abstract

【課題】紫外線センサと紫外線照射部材との間にスラッジが溜まるのを抑制することが可能な紫外線照射装置を提供する。【解決手段】実施形態による紫外線照射装置は、処理槽と、紫外線照射部材と、紫外線センサと、スラッジ排出部とを備える。処理槽は、処理対象の処理水を給水するための給水口と、処理水を排水するための排水口とを含む。紫外線照射部材は、処理槽の内部に設けられ、処理槽の内部を通過する処理水に対して紫外線を照射する。紫外線センサは、処理槽の内部に設けられ、紫外線照射部材からの紫外線照射量を測定する。スラッジ排出部は、紫外線センサを通る水平面よりも低い位置に設けられた排出孔に接続されており、処理槽の内部を処理水が通過する際に処理槽の内部に溜まるスラッジを排出孔を介して処理槽の外部に排出するために設けられている。【選択図】図3

Description

本発明の実施形態は、紫外線照射装置に関する。
従来、処理水が通過する処理槽と、処理槽の内部に設けられ、処理槽の内部を通過する処理水に対して紫外線を照射する紫外線照射部材と、処理槽の内部に設けられ、紫外線照射部材からの紫外線照射量を測定する紫外線センサとを備えた紫外線照射装置が知られている(たとえば、特許文献1参照)。
特開2002−263645号公報
上記のような従来の紫外線照射装置では、処理槽の内部を処理水が通過する際に、処理水に含まれるスラッジ(汚泥、沈殿物、懸濁物)が処理槽の内部(下部)に溜まる場合がある。この場合には、紫外線センサと紫外線照射部材との間にスラッジが溜まることに起因して、紫外線センサの紫外線受光面にスラッジが付着する場合があるため、紫外線センサによる紫外線照射量の測定精度が低下するおそれがある。
本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、本発明の1つの目的は、紫外線センサと紫外線照射部材との間にスラッジが溜まるのを抑制することが可能な紫外線照射装置を提供することである。
実施形態による紫外線照射装置は、処理槽と、紫外線照射部材と、紫外線センサと、スラッジ排出部と、弁駆動部と、制御部とを備える。処理槽は、処理対象の処理水を給水するための給水口と、処理水を排水するための排水口とを含む。紫外線照射部材は、処理槽の内部に設けられ、処理槽の内部を通過する処理水に対して紫外線を照射する。紫外線センサは、処理槽の内部に設けられ、紫外線照射部材からの紫外線照射量を測定する。スラッジ排出部は、紫外線センサを通る水平面よりも低い位置に設けられた排出孔に接続されており、処理槽の内部を処理水が通過する際に処理槽の内部に溜まるスラッジを排出孔を介して処理槽の外部に排出するために設けられている。スラッジ排出部は、排出孔を構成する内周面を有する筒状部材と、排出孔を開閉可能に塞ぐ弁部材とを含む。紫外線センサは、処理槽のうちスラッジが比較的溜まりやすい下部に設けられた第1紫外線センサと、処理槽のうち下部以外のスラッジが比較的溜まりにくい他の部分に設けられた第2紫外線センサとを含む。弁駆動部は、弁部材を駆動する。制御部は、下部にスラッジが溜まった場合における第1紫外線センサによる紫外線照射量の測定結果と第2紫外線センサによる紫外線照射量の測定結果との関係を予め記憶するとともに、下部にスラッジが溜まった場合に弁部材が排出孔を開くように、第1紫外線センサおよび第2紫外線センサによる紫外線照射量の測定結果に基づいて弁駆動部を制御する。
図1は、第1実施形態による紫外線照射装置を用いた上水処理システムによる上水の処理手順を示したフローチャートである。 図2は、第1実施形態による紫外線照射装置の外観を示した斜視図である。 図3は、図2に示した紫外線照射装置のX−Z平面に沿った断面図である。 図4は、図2に示した紫外線照射装置のY−Z平面に沿った断面図である。 図5は、第1実施形態の変形例による紫外線照射装置を示した断面図である。 図6は、第2実施形態による紫外線照射装置の外観を示した斜視図である。 図7は、図6に示した紫外線照射装置のX−Z平面に沿った断面図である。 図8は、図6に示した紫外線照射装置のY−Z平面に沿った断面図である。
以下、実施形態を図面に基づいて説明する。
(第1実施形態)
まず、図1を参照して、第1実施形態による紫外線照射装置100(図2〜図4参照)を用いた上水処理システム1000による上水の処理手順の一例について説明する。
この上水処理システム1000では、まず、図1に示すように、ステップS1において、川、湖または地下水などから原水が取水される。そして、ステップS2に進む。
次に、ステップS2において、上記ステップS1の工程により取水された原水が凝集沈殿槽に導入され、導入された原水に凝集剤が添加される。そして、ステップS3に進む。
次に、ステップS3において、上記ステップS2の工程(凝集沈殿工程)を経た原水のうちの上澄み水が活性炭濾過槽に送られて、上澄み水から異物が濾過される。そして、ステップS4に進む。
次に、ステップS4において、上記ステップS3の工程(活性炭濾過工程)を経た濾過水(処理水W:図3および図4参照)が紫外線照射装置100に送られて、処理水Wに対して紫外線(UV:Ultra Violet)による殺菌、消毒および脱色処理などが行われる。そして、ステップS5に進む。
次に、ステップS5において、上記ステップS4の工程(UV消毒工程)を経た処理水W(UV消毒処理水W)が塩素注入槽に送られて、UV消毒処理水Wに塩素が注入される。そして、このステップS5の工程(塩素注入工程)を経た処理水Wが、一般家庭や事業所などに配水される。
次に、図2〜図4を参照して、第1実施形態による紫外線照射装置100の構成の一例について説明する。
図2〜図4に示すように、紫外線照射装置100は、処理対象の処理水W(図3および図4参照)を一時的に貯めるための処理槽(反応槽、リアクタ)10と、処理槽10の内部に貯まった処理水Wに紫外線を照射するための複数(第1実施形態では、6個)の紫外線照射部材20とを備える。処理槽10は、2個の槽部10aに分割可能な中空の直方体形状(箱形状)を有する。なお、図3は、図2に示した紫外線照射装置100を後述する紫外線モニタ70を通るX−Z平面に沿って切断した断面図である。また、図4は、図2に示した紫外線照射装置100を後述するスラッジ排出部80(図2には図示せず)を通るY−Z平面に沿って切断した断面図である。
また、図3に示すように、処理槽10は、処理水Wを給水するための給水口11と、処理を施した処理水Wを排出するための排水口12とを含む。給水口11および排水口12は、それぞれ、処理槽10の互いに対向する表面部(水平面内の所定の方向(X方向)に対向する側面部13aおよび13b)に設けられている。具体的には、給水口11は、図3において左側に配置された槽部10aの側面部13aの中央部近傍に設けられている。また、排水口12は、図3において右側に配置された槽部10aの側面部13bの中央部近傍に設けられている。
なお、処理槽10には、処理槽10の内部の圧力が上昇することによって処理槽10が変形するのを抑制するためのリブ16が設けられている。このリブ16は、処理槽10(槽部10a)の側面部13aおよび13b以外の表面部(側面部13c、13d、上面部14および下面部15)に設けられている。具体的には、リブ16は、図3において左側に配置された槽部10aの左側の端部と、図3において右側に配置された槽部10aの右側の端部と、これら2個の槽部10aの境界部分(処理槽10全体の左右方向(X方向)の中央部)とに設けられている。
図2〜図4に示すように、複数の紫外線照射部材20は、互いに離間するように配置されている。具体的には、図3に示すように、紫外線照射部材20は、処理槽10の内部において、上下方向(Z方向)に間隔を隔てて2個ずつ設けられている。また、このように2個ずつ設けられた紫外線照射部材20は、左右方向(X方向)に間隔を隔てて配置されている。
図4に示すように、複数の紫外線照射部材20は、それぞれ、水平面内でX方向と直交する方向(Y方向)に沿って直線状に延びるように設けられている。また、複数の紫外線照射部材20は、それぞれ、紫外線を照射する紫外線ランプ21と、紫外線ランプ21を覆う管状の保護管22とを含む。保護管22は、紫外線を透過する材料により構成されている。たとえば、保護管22は、石英ガラスなどの透明な誘電体により構成されている。
なお、紫外線ランプ21のY方向の両端部は、処理槽10の外部に設けられた電子安定器30に配線40を介して接続されている。なお、電子安定器30は、紫外線ランプ21に電力を供給するとともに放電の安定性を維持する機器である。また、保護管22のY方向の両端部は、処理槽10の側面部13cおよび13dから外側に突出するように設けられている。そして、保護管22の処理槽10から突出した部分は、処理槽10のY方向の両端部に取り付けられたカバー部材50により覆われている。カバー部材50は、遮光機能や、感電防止機能や、電磁シールド機能や、結露抑制機能などを有する。なお、図2では、カバー部材50の図示を省略している。
ここで、第1実施形態では、処理槽10の側面部13aおよび13bにそれぞれ設けられた給水口11および排水口12は、互いに異なる内径を有する。具体的には、図3に示すように、給水口11の内径D1は、排水口12の内径D2よりも小さい。また、図2および図3に示すように、給水口11および排水口12には、それぞれ、X方向に沿って直線状に延びる円筒形状の給水ポート61および排水ポート62が接続されている。これにより、処理水Wは、処理槽10の内部を給水口11(給水ポート61)から排水口12(排水ポート62)に向かって(X方向に沿って)通過する。
また、第1実施形態では、第1実施形態では、処理槽10(槽部10a)の下面部15には、紫外線モニタ70と、スラッジ排出部(ドレインポート)80とが設けられている。具体的には、紫外線モニタ70は、処理槽10を構成する2個の槽部10aの下面部15にそれぞれ1個ずつ設けられている。また、スラッジ排出部80は、図3において右側に配置された槽部10aの下面部15に設けられている。なお、紫外線モニタ70は、処理槽10の下面部15以外の表面部(上面部14、側面部13aおよび13b)にも設けられている。
紫外線モニタ70は、紫外線照射部材20からの紫外線照射量を監視するために設けられている。また、紫外線モニタ70は、処理槽10の内部の6個の紫外線照射部材20に対応するように複数(第1実施形態では、6個)設けられている。これら6個の紫外線モニタ70は、それぞれ、処理槽10の表面部から紫外線照射部材20側に直線状に延びるように設けられている。
具体的には、図3に示すように、6個の紫外線モニタ70のうちの2個の紫外線モニタ70は、処理槽10の内部の下側の領域に配置された2個の紫外線照射部材20にそれぞれ対応するように、処理槽10(槽部10a)の下面部15から上方に延びるように設けられている。また、6個の紫外線モニタ70のうちの他の2個の紫外線モニタ70は、処理槽10の内部の上側の領域に配置された2個の紫外線照射部材20にそれぞれ対応するように、処理槽10の上面部14から下方に延びるように設けられている。また、6個の紫外線モニタ70のうちの残りの2個の紫外線モニタ70は、処理槽10の内部の上下方向の中央の領域に配置された2個の紫外線照射部材20にそれぞれ対応するように、処理槽10の側面部13aおよび13bから内側に延びるように設けられている。
なお、6個の紫外線モニタ70の各々の紫外線照射部材20側の先端部には、紫外線照射部材20からの紫外線(図3および図4の矢印付きの一点鎖線参照)を受光して紫外線照射量を測定する紫外線センサ71が設けられている。そして、各紫外線センサ71は、各紫外線照射部材20の紫外線照射面(保護管22の外周面)に対向するように設けられている。具体的には、各紫外線センサ71は、各紫外線ランプ21の中心部に向けて配置されている。また、各紫外線センサ71は、各紫外線照射部材20に対して所定の間隔を隔てて離間するように設けられている。各紫外線センサ71の配置位置は、一例として、処理槽10の内部(下部、下面部15)に後述するスラッジSが溜まっていない状態において、各紫外線センサ71による紫外線照射量の測定結果が互いに略等しくなるように設定されている。
ここで、スラッジ排出部80は、処理槽10の下面部15に設けられている。具体的には、スラッジ排出部80は、処理槽10の下面部15に設けられた紫外線モニタ70の紫外線センサ71の紫外線受光面(上面)を通る水平面P1(図3および図4の二点鎖線参照)よりも低い位置に設けられた排出孔81aに接続されている。この排出孔81aは、処理槽10の内部を処理水Wが通過する際に処理槽10の内部に溜まる汚泥などのスラッジSを処理槽10の外部に排出するために設けられている。なお、排出孔81aは、給水口11の下端11aよりも低い位置で、かつ、排水口12の下端12aよりも低い位置に設けられている。これにより、処理槽10の内部を給水口11から排水口12に向かって通過する処理水Wの流れが、排出孔81aを構成する部材(後述する筒状部材81)によって妨げられるのを抑制することができる。
図3および図4に示すように、スラッジ排出部80は、排出孔81aを構成する内周面を有する筒状部材81と、排出孔81aを開閉可能に塞ぐバルブ82とを含む。筒状部材81は、処理槽10の下面部15から下方に直線状に延びるように設けられている。また、バルブ82は、筒状部材81のZ方向の中央部に設けられている。また、バルブ82は、ユーザ(水道局の作業員など)の手動により開閉する手動弁などにより構成されている。なお、バルブ82は、「弁部材」の一例である。
以上説明したように、第1実施形態では、紫外線センサ71の紫外線受光面を通る水平面P1よりも低い位置に排出孔81aが設けられており、この排出孔81aに、処理槽10の内部を処理水Wが通過する際に処理槽10の下部に溜まるスラッジSを処理槽10の外部に逃がすためのスラッジ排出部80が接続されている。これにより、スラッジ排出部80によって処理槽10の内部のスラッジSを排出することができるので、処理槽10の下面部15に設けられた紫外線センサ71と、その紫外線センサ71に対応する紫外線照射部材20との間にスラッジSが溜まるのを抑制することができる。その結果、紫外線センサ71の紫外線受光面にスラッジSが付着するのを抑制することができるので、紫外線センサ71による紫外線照射量の測定精度が低下するのを抑制することができる。
特に、処理槽10に設けられた給水口11および排水口12が互いに異なる内径を有する第1実施形態のような構造(いわゆる異径配管構造)では、処理槽10の内部における処理水Wの流速が遅くなるため、処理槽10の内部に処理水Wが溜まっている時間が長くなり、処理槽10の内部にスラッジSが溜まりやすい。この場合において、第1実施形態では、スラッジ排出部80によって、処理槽10の内部のスラッジSを排出することができるので、紫外線センサ71と紫外線照射部材20との間にスラッジSが溜まるのを有効に抑制することができる。
また、紫外線照射部材20からの紫外線照射量は、紫外線モニタ70の指示値がフィードバックされることにより決定される。たとえば、紫外線モニタ70の指示値が小さく不安定な場合には、紫外線照射部材20からの紫外線照射量が不足していると判断されて、紫外線照射部材20からの紫外線照射量を増やす制御が行われる。しかしながら、紫外線照射部材20からの紫外線照射量が不足していると判断された場合でも、実際には紫外線照射部材20からの紫外線照射量が十分に足りている場合があり、この場合には、紫外線照射部材20からの紫外線照射量を増やす制御を行う必要がない。
上記を踏まえて、紫外線照射部材20からの紫外線照射量が不必要に大きくなるなどといった紫外線照射装置100の誤作動(誤制御)を抑制するためには、紫外線センサ71による紫外線照射量の測定精度を高める必要がある。そこで、第1実施形態では、上記のように、処理槽10にスラッジ排出部80を設けることによって、紫外線センサ71による紫外線照射量の測定精度が低下するのを抑制している。このため、第1実施形態によれば、紫外線照射装置100の誤作動を抑制することができる。
(第1実施形態の変形例)
なお、上記第1実施形態では、ユーザ(水道局の作業員)の手動により開閉される手動のバルブ82を用いてスラッジ排出部80を構成する例を示したが、図5に示す変形例のように、制御部182bの制御に基づいて排出孔81aを自動で開閉する電磁弁182を用いてスラッジ排出部180を構成することも可能である。なお、電磁弁182は、「弁部材」の一例である。
この変形例では、図5に示すように、電磁弁182には、電磁弁182を駆動するモータなどからなる弁駆動部182aが接続されている。また、弁駆動部182aには、弁駆動部182aを制御する制御部182bが接続されている。この制御部182bは、たとえば、電磁弁182が排出孔81aを所定の時間間隔で定期的に開閉するように弁駆動部182aを制御するように構成されている。このように構成すれば、処理槽10の内部に溜まったスラッジSを定期的に自動で抜くことができる。
なお、上記変形例では、処理槽10の内部にスラッジSが溜まったと判断された場合に排出孔81aを開くように電磁弁182の開閉動作を制御してもよい。ここで、処理槽10の内部にスラッジSが溜まったか否かの判断は、処理槽10のうちスラッジSが比較的溜まりやすい下部(下面部15)に設けられた紫外線モニタ70の紫外線センサ71(以下、第1紫外線センサという)と、処理槽10の下部以外のスラッジSが比較的溜まりにくい他の部分(側面部13a、13bおよび上面部14)に設けられた紫外線モニタ70の紫外線センサ71(以下、第2紫外線センサという)と、による紫外線照射量の測定結果の比較結果に基づいて行うことができる。
すなわち、処理槽10の下部に設けられた第1紫外線センサにより測定された紫外線照射量が、処理槽10の下部以外の他の部分に設けられた第2紫外線センサにより測定された紫外線照射量よりも所定値以上小さくなった場合には、処理槽10の下部にスラッジSが溜まることにより、第1紫外線センサの紫外線受光面にスラッジSが付着したと判断することができる。したがって、処理槽10の下部にスラッジSが溜まった場合における第1紫外線センサの測定結果と第2紫外線センサの測定結果との関係を予め記憶しておけば、現在の第1紫外線センサおよび第2紫外線センサの測定結果に基づいて、処理槽10の下部にスラッジSが溜まった場合に弁部材182が排出孔81aを開くように、制御部182bにより弁駆動部182aを制御することができる。このように制御部182bの制御内容を設定すれば、処理槽10の内部に溜まったスラッジSを適切なタイミングで外部に排出することができる。
(第2実施形態)
次に、図6〜図8を参照して、第2実施形態による紫外線照射装置200の構成の一例について説明する。この第2実施形態では、処理槽10が中空の直方体形状(箱形状)を有する上記第1実施形態と異なり、処理槽210が中空の円柱形状(円筒形状)を有する例について説明する。
図6〜図8に示すように、第2実施形態による紫外線照射装置200は、Y方向に沿って延びる円筒形状を有する処理槽210と、Y方向に沿って延びる複数(第2実施形態では、4個)の紫外線照射部材20とを備える。また、図6および図8に示すように、処理槽210のY方向の両端部には、遮光機能や、感電防止機能や、電磁シールド機能や、結露抑制機能などを有するカバー部材250が取り付けられている。なお、図7は、図6に示した紫外線照射装置200を、紫外線モニタ70を通るX−Z平面に沿って切断した断面図である。また、図8は、図6に示した紫外線照射装置200を、スラッジ排出部180(図5には図示せず)を通るY−Z平面に沿って切断した断面図である。
図7に示すように、処理槽210のX方向に互いに対向する部分(側部)には、それぞれ、互いに異なる内径を有する給水口211(内径D3)および排水口212(内径D4)が設けられている。そして、給水口211および排水口212には、それぞれ、X方向に沿って直線状に延びる円筒形状を有する給水ポート261および排水ポート262が接続されている。
また、複数の紫外線照射部材20は、互いに離間するように配置されている。具体的には、図7に示すように、紫外線照射部材20は、処理槽210の内部の上側の領域と下側の領域とにそれぞれ2個ずつ設けられている。このように2個ずつ設けられた紫外線照射部材20は、X方向に間隔を隔てて配置されている。
ここで、第2実施形態では、処理槽210の下部213(スラッジSが比較的溜まりやすい部分)に、紫外線モニタ70と、スラッジ排出部80とが設けられている。なお、紫外線モニタ70は、処理槽210の下部213のみならず、処理槽210の上部214(スラッジSが比較的溜まりにくい部分)にも設けられている。
紫外線モニタ70は、処理槽210の内部の各紫外線照射部材20に対応するように複数(第2実施形態では、4個)設けられている。具体的には、図7に示すように、処理槽210の下部213に設けられた2個の紫外線モニタ70は、処理槽210の内部の下側の領域に配置された2個の紫外線照射部材20に対応するように設けられている。また、処理槽210の上部214に設けられた2個の紫外線モニタ70は、処理槽210の内部の上側の領域に配置された2個の紫外線照射部材20に対応するように設けられている。なお、処理槽210の下部213に設けられた2個の紫外線モニタ70は、互いに交差する方向に延びるように設けられている。同様に、処理槽の210の上部214に設けられた2個の紫外線モニタ70も、互いに交差する方向に延びるように設けられている。
詳細には、図7において右下に配置された紫外線モニタ70は、図7において左下に配置された紫外線照射部材20に向かって、処理槽210の下部213から左上方向に延びるように設けられている。また、図7において左下に配置された紫外線モニタ70は、図7において右下に配置された紫外線照射部材20に向かって、処理槽210の下部213から右上方向に延びるように設けられている。また、図7において右上に配置された紫外線モニタ70は、図7において左上に配置された紫外線照射部材20に向かって、処理槽210の上部214から左下方向に延びるように設けられている。また、図7において左上に配置された紫外線モニタ70は、図7において右上に配置された紫外線照射部材20に向かって、処理槽210の上部214から右下方向に延びるように設けられている。
なお、第2実施形態においても、上記第1実施形態と同様に、スラッジ排出部80が接続された排出孔81a(図8参照)は、処理槽210の下部213に設けられた紫外線モニタ70の紫外線センサ71の紫外線受光面(上端部)を通る水平面P2(図7の二点鎖線参照)よりも低い位置に設けられている。また、排出孔281aは、給水口211の下端211aよりも低い位置で、かつ、排水口212の下端212aよりも低い位置に設けられている。
以上説明したように、第2実施形態においても、上記第1実施形態と同様に、紫外線センサ71の紫外線受光面を通る水平面P2よりも低い位置に排出孔81aが設けられており、この排出孔81aに、処理槽210の内部を処理水Wが通過する際に処理槽210の下部に溜まるスラッジSを処理槽210の外部に逃がすためのスラッジ排出部80が接続されている。これにより、第2実施形態においても、処理槽210の下部213に設けられた紫外線センサ71と、その紫外線センサ71に対応する紫外線照射部材20との間にスラッジSが溜まるのを抑制することができるので、紫外線センサ71による紫外線照射量の測定精度が低下するのを抑制することができる。
以上、本発明の実施形態を説明したが、上記実施形態はあくまで一例であって、発明の範囲を限定することは意図していない。上記実施形態は、様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの省略、置き換え、変更は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
たとえば、上記実施形態の各構成要素の形状や個数などは、適宜に変更して実施することが可能である。すなわち、上記実施形態および変形例では、処理槽が箱形状または円筒形状に形成された例を示したが、処理槽が箱形状および円筒形状以外の形状に形成されていてもよい。また、上記実施形態では、スラッジ排出部が筒状部材と弁部材とからなる例を示したが、処理槽の下部に溜まるスラッジを排出可能であれば、スラッジ排出部が上記以外の構造を有していてもよい。
また、上記実施形態および変形例では、紫外線照射部材および紫外線モニタの個数が6個または4個である例を示したが、紫外線照射部材および紫外線モニタの個数が7個以上であってもよいし、5個であってもよいし、3個以下であってもよい。また、紫外線照射部材および紫外線モニタの個数が同数でなくてもよい。また、上記実施形態および変形例では、スラッジ排出部の個数が1個である例を示したが、スラッジ排出部の個数が2個以上であってもよい。
10、210 処理槽
11、211 給水口
12、212 排水口
20 紫外線照射部材
71 紫外線センサ
80、180 スラッジ排出部
81 筒状部材
81a 排出孔
82 バルブ(弁部材)
182 電磁弁(弁部材)
182a 弁駆動部
182b 制御部
100、200 紫外線照射装置
S スラッジ
W 処理水

Claims (3)

  1. 処理対象の処理水を給水するための給水口と、前記処理水を排水するための排水口とを含む処理槽と、
    前記処理槽の内部に設けられ、前記処理槽の内部を通過する前記処理水に対して紫外線を照射する紫外線照射部材と、
    前記処理槽の内部に設けられ、前記紫外線照射部材からの紫外線照射量を測定する紫外線センサと、
    前記紫外線センサを通る水平面よりも低い位置に設けられた排出孔に接続され、前記処理槽の内部を前記処理水が通過する際に前記処理槽の内部に溜まるスラッジを前記排出孔を介して前記処理槽の外部に排出するためのスラッジ排出部とを備え
    前記スラッジ排出部は、前記排出孔を構成する内周面を有する筒状部材と、前記排出孔を開閉可能に塞ぐ弁部材とを含み、
    前記紫外線センサは、前記処理槽のうち前記スラッジが比較的溜まりやすい下部に設けられた第1紫外線センサと、前記処理槽のうち前記下部以外の前記スラッジが比較的溜まりにくい他の部分に設けられた第2紫外線センサとを含み、
    前記弁部材を駆動する弁駆動部と、
    前記下部に前記スラッジが溜まった場合における前記第1紫外線センサによる紫外線照射量の測定結果と前記第2紫外線センサによる紫外線照射量の測定結果との関係を予め記憶するとともに、前記下部に前記スラッジが溜まった場合に前記弁部材が前記排出孔を開くように、前記第1紫外線センサおよび前記第2紫外線センサによる紫外線照射量の測定結果に基づいて前記弁駆動部を制御する制御部とをさらに備える、紫外線照射装置。
  2. 前記給水口および前記排水口は、互いに異なる内径を有するとともに、水平方向に互いに対向する位置に設けられており、
    前記排出孔は、前記給水口の下端よりも低い位置に設けられ、かつ、前記排水口の下端よりも低い位置に設けられている、請求項1に記載の紫外線照射装置。
  3. 前記弁部材を駆動する弁駆動部と、
    前記弁部材が前記排出孔を定期的に開閉するように前記弁駆動部を制御する制御部とをさらに備える、請求項1または2に記載の紫外線照射装置。
JP2013188749A 2013-09-11 2013-09-11 紫外線照射装置 Active JP5687743B1 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013188749A JP5687743B1 (ja) 2013-09-11 2013-09-11 紫外線照射装置
CA2923013A CA2923013C (en) 2013-09-11 2014-03-12 Ultraviolet irradiation apparatus for treating water
SG11201601632TA SG11201601632TA (en) 2013-09-11 2014-03-12 Ultraviolet irradiation apparatus
CN201480044549.9A CN105473512B (zh) 2013-09-11 2014-03-12 紫外线照射装置
AU2014319794A AU2014319794B2 (en) 2013-09-11 2014-03-12 UV-irradiation apparatus
US14/916,549 US20160214872A1 (en) 2013-09-11 2014-03-12 Ultraviolet irradiation apparatus
PCT/JP2014/056459 WO2015037257A1 (ja) 2013-09-11 2014-03-12 紫外線照射装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013188749A JP5687743B1 (ja) 2013-09-11 2013-09-11 紫外線照射装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP5687743B1 true JP5687743B1 (ja) 2015-03-18
JP2015054281A JP2015054281A (ja) 2015-03-23

Family

ID=52665386

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013188749A Active JP5687743B1 (ja) 2013-09-11 2013-09-11 紫外線照射装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20160214872A1 (ja)
JP (1) JP5687743B1 (ja)
CN (1) CN105473512B (ja)
AU (1) AU2014319794B2 (ja)
CA (1) CA2923013C (ja)
SG (1) SG11201601632TA (ja)
WO (1) WO2015037257A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6509748B2 (ja) * 2016-01-04 2019-05-08 株式会社東芝 紫外線照射ユニット及び紫外線照射装置
JP7030147B2 (ja) * 2020-02-19 2022-03-04 日機装株式会社 流体殺菌装置
JP7486997B2 (ja) * 2020-04-08 2024-05-20 株式会社東芝 紫外線照射装置

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3566105A (en) * 1968-08-16 1971-02-23 Ultra Dynamics Corp System for ultraviolet irradiation of fluids with fail safe monitoring means
JPH06254548A (ja) * 1993-03-02 1994-09-13 Hikari Dento Kogyosho:Yugen シアン排水の処理方法及びシアン排水処理装置
JPH0760244A (ja) * 1993-08-26 1995-03-07 Nippondenso Co Ltd 水質浄化装置
JP2000140888A (ja) * 1998-11-16 2000-05-23 Miyaji Kaken:Kk 汚水の浄化・殺菌処理方法及び装置
JP2000279987A (ja) * 1999-03-29 2000-10-10 Taiyo Kagaku Kogyo Kk 有機物含有廃水の処理方法及びその装置
US6940075B2 (en) * 2001-03-15 2005-09-06 Christopher R. Schulz Ultraviolet-light-based disinfection reactor
JP2004267855A (ja) * 2003-03-06 2004-09-30 Japan Organo Co Ltd 光触媒を利用する水処理装置
JP2004358373A (ja) * 2003-06-05 2004-12-24 Toray Ind Inc 生物難分解性有機物含有液の処理装置および処理方法
JP2006231444A (ja) * 2005-02-23 2006-09-07 Noritake Co Ltd 水溶性クーラント光浄化装置
JP4468221B2 (ja) * 2005-03-29 2010-05-26 株式会社東芝 紫外線照射を利用した水処理システム
JP2006341229A (ja) * 2005-06-10 2006-12-21 Sumitomo Precision Prod Co Ltd シアン化合物含有排水の高度処理方法
JP2007144386A (ja) * 2005-11-02 2007-06-14 Toshiba Corp 紫外線照射水処理装置
JP2008062203A (ja) * 2006-09-08 2008-03-21 Toshiba Corp 水処理システム
JP2009118918A (ja) * 2007-11-12 2009-06-04 Yukio Hirose 流動体の滅菌装置
JP2009220042A (ja) * 2008-03-17 2009-10-01 Toshiba Corp 紫外線消毒装置
JP2010125417A (ja) * 2008-11-28 2010-06-10 Toshiba Corp 紫外線照射水処理装置
JP5259562B2 (ja) * 2009-12-22 2013-08-07 株式会社東芝 紫外線照射システム
JP5263898B2 (ja) * 2010-03-31 2013-08-14 宇部興産株式会社 排水処理装置
JP5575077B2 (ja) * 2011-09-14 2014-08-20 株式会社東芝 紫外線照射装置
JP6058262B2 (ja) * 2011-12-28 2017-01-11 株式会社西原環境 紫外線処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
SG11201601632TA (en) 2016-04-28
AU2014319794A1 (en) 2016-03-24
WO2015037257A1 (ja) 2015-03-19
JP2015054281A (ja) 2015-03-23
US20160214872A1 (en) 2016-07-28
CA2923013C (en) 2019-01-22
CN105473512B (zh) 2017-07-28
CN105473512A (zh) 2016-04-06
CA2923013A1 (en) 2015-03-19
AU2014319794B2 (en) 2017-09-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5687743B1 (ja) 紫外線照射装置
EP3544930B1 (en) Sensor system for a system allowing for purification and recycling of water or separation of water
JP5687742B1 (ja) 紫外線照射装置
NZ609160A (en) An effluent treatment unit
JP6276525B2 (ja) ろ過砂を用いる水処理装置
JP2011072901A (ja) 紫外線照射装置
KR102374212B1 (ko) 물배출구조 및 이를 포함하는 수처리장치
KR20150026904A (ko) 방전 가공기의 여과 필터
CN108002575A (zh) 一种高效污水净化装置
KR200250053Y1 (ko) 물통
JP2009150784A (ja) 液位センサ内蔵容器及び保護具付液位センサ
KR102076674B1 (ko) 선박용 슬러지 탱크의 슬러지 순환장치 및 그 순환방법
KR101635643B1 (ko) 정수기
ES2570404T3 (es) Máquina para lavar la vajilla que comprende un dispositivo de filtración de agua de lavado de la vajilla
KR102401191B1 (ko) 물배출장치
KR101373057B1 (ko) 수처리장치의 살균수 공급장치
CN103195137A (zh) 生活饮用水储水罐
KR101501819B1 (ko) 유지보수가 용이한 자외선 리액터
KR101368425B1 (ko) 수처리장치의 살균수 공급장치
CN107875702A (zh) 一种污水处理装置
JP4833896B2 (ja) 排ガス処理装置
KR101276435B1 (ko) 이물질 배출이 용이한 가이드부를 구비하는 필터 하우징
JP5100155B2 (ja) 水処理装置
KR20140065919A (ko) 공기배출장치가 구비된 음용수 저장체
JP2015013223A (ja) ろ過砂を用いる水処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20141224

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150122

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5687743

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151