JP5687064B2 - シリコーン自己接着剤、シリコーン自己接着剤の製造方法、シリコーン自己接着剤を用いた複合体、および、シリコーン自己接着剤の使用方法 - Google Patents

シリコーン自己接着剤、シリコーン自己接着剤の製造方法、シリコーン自己接着剤を用いた複合体、および、シリコーン自己接着剤の使用方法 Download PDF

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Description

本発明は、シリコーン自己接着剤、シリコーン自己接着剤の製造方法、シリコーン自己接着剤を用いた複合体、および、シリコーン自己接着剤の使用方法に関する。
様々な分野において、2つの基材を剥離可能に接着させるため、一方の基材に非粘着シリコーンコーティングを施し、他方の基材に粘着コーティングを施し、次いで、表面を互いに向かい合うように配置し、最後に、互いを加圧することが行われている。関連するシステムとして、例えば、感圧ラベルまたは粘着テープが挙げられる。製品の用途やマーケティング状況に応じて、剥離を困難にするためには、より強い剥離強度の製品が望まれ、剥離を容易にするためには、より弱い剥離強度の製品が望まれる。
剥離強度を調節するため、コロナ処理の使用が提案されている。しかし、得られる効果は、均一なものではなく、また、一時的なものに過ぎない。
剥離強度はまた、UVまたは電子線放射による処理によって調節されてきた(特許文献1)。しかしながら、それらの処理は、UV放射を通す基材にしか適用できない。さらには、伝達するエネルギーの制御は、容易なものではない。
上記システムにおける剥離強度を調節する別の手段として、シリコーンコーティングの組成物に、MQシリコーン樹脂、MMViQシリコーン樹脂、MDViQシリコーン樹脂、MM’Qシリコーン樹脂またはMD’Qシリコーン樹脂を導入することが知られている。ここで、一般的に、Mは、“酸素原子が一置換したシロキシユニット(RSiO1/2)”を表す。Dは、“酸素原子が二置換したシロキシユニット(RSiO2/2)”を表す。Qは、“酸素原子が四置換したシロキシユニット(SiO4/2)”を表す。M’は、“酸素原子が一置換し、珪素原子に結合したH基を含むシロキシユニット(HRSiO1/2)”を表す。D’は、“酸素原子が二置換し、珪素原子に結合したH基を含むシロキシユニット(HRSiO2/2)”を表す。MViは、“酸素原子が一置換し、珪素原子に結合したビニル基HC=CH-を含むシロキシユニット(ViRSiO1/2)”を表す。DViは、“酸素原子が二置換し、珪素原子に結合したビニル基を含むシロキシユニット(ViRSiO2/2)”を表す。
しかし、これらのタイプの樹脂は、製造が困難である。
特許文献2では、真空下で、プラズマからシリコーンコーティングを得ることが目的とされているが、かかる方法は、高速で、しかも、大きな表面積で非粘着コーティングを直接的に得るということが困難であった。
加えて、特許文献3においては、常圧下におけるコールドプラズマ処理方法が開示されている。この方法は、順次続くポリオレフィンとの結合を促進させるため、ポリエステル表面またはポリアミド(PA)表面を処理する方法である。この方法においては、処理の対象となる基材表面に特定のアミン型窒素機能性基をグラフトするように、常圧オーダーの圧力下で、50ppm未満の酸素を有する窒素ベースのプラズマ形成ガス中で放電することによって作られるコールドプラズマにその基材表面をさらす。そうすると、かかる基材表面にグラフトされた窒素原子が、炭素、酸素および窒素を含む表面原子組成中、角度75度のESCA測定で得られる値で、0.5〜10%、好ましくは1.5〜4%を示す。
特許文献4は、ポリマー基材(ポリオレフィン、ビニルポリマー、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリアクリロニトリルまたはポリカーボネート)のプラズマ表面処理の方法に関するものである。かかる表面処理は、常圧下で、キャリアガス(N)ならびに還元ガス(H 50〜30000体積ppm)および/または酸化ガス(CO 50〜2000体積ppm)を含むガス状混合物中で、誘電体バリア放電に基材をさらす。かかる処理によって、表面エネルギーおよび表面粘着力が向上する。
欧州特許出願公開第1278809号明細書 国際公開第02/28548号パンフレット 仏国特許出願公開第2873705号明細書 国際公開第01/58992号パンフレット
しかしながら、すべての従来技術は、非粘着シリコーンコーティングの接着性を調整するという問題を解決するには十分な解決策とは言えなかった。
また、MQシリコーン樹脂、MMViQシリコーン樹脂、MDViQ、シリコーン樹脂、MM’Qシリコーン樹脂またはMD’Qシリコーン樹脂は、高価格であるため、これらを非粘着シリコーン組成物における剥離強度を調整することを目的として使用することは望ましくない。
また、剥離強度を10cN/cm〜300cN/cmの間で線形に調節できることが要求される。
さらに、大規模な形態でも使用できるように、真空下でのプラズマ処理に比較して実施が容易であることが望まれる。つまり基材を高速で移動させながら、処理することが望ましい。
さらに理想的には、そのような処理によって、ほぼ永遠に高い均一性を維持できることが望ましい。
今や、出願人の鋭意研究によって、シリコーンオイルをベースとする、上記の要望を満足する、新規なシリコーン組成物を生成する方法を開発した。
すなわち、本発明は、少なくとも一部が架橋されたシリコーンオイルをベースとした“非粘着”シリコーン組成物から得られた非粘着コーティングを含む基材を実現するための方法であって、
少なくとも一部に非粘着コーティングが施された基材を用意するステップと、
大気圧下で、
、NO、アセチレン、SiH、CF、CO、O、及びHOのいずれか1つ以上の成分が1重量%未満ドープ(添加)された窒素雰囲気において、
または、
、NO、アセチレン、SiH、CF、N、O、HOから選択される1以上の成分が1重量%未満ドープされた二酸化炭素雰囲気において、
非粘着コーティングが施された基材をコールドプラズマで処理するステップと、
を含むことを特徴とする方法である。
本願明細書において、「“非粘着”シリコーン組成物」は、MシロキシユニットおよびDシロキシユニットを含む、1以上のポリオルガノシロキサンオイルをベースとする組成物を称するものである。かかるポリオルガノシロキサンオイルは、重付加、および/または、カチオンルートおよび/またはラジカルルートによって、架橋されてもよく、好ましくは、化学線活性下(例えば、UV)および/または熱活性下および/または電子線活性下で架橋されてもよい。この場合、架橋のために、白金ベースの触媒、光開始剤または開始剤が使用される。
Mは、RSiO1/2を表し、Dは、RSiOを表す。ここでRラジカルは、それぞれ独立して、-H、-OH、あるいは、0または1の不飽和度を含む、置換または非置換の、直鎖状または分枝状の炭化水素ラジカルから選択される有機ラジカルである。そしてこの有機ラジカルは、好ましくは:
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などのアルキル基(炭素原子数1〜8)およびそれらの異性体、
ビニル基、アリール基およびヘキセニル基などのアルケニル基(炭素原子数1〜8)、
フェニル基などのアリール基、あるいは、
アミノアルキル基、エポキシアルキル基、(メタ)アクリロキシアルキル基、イソシアノアルキル基、トリフルオロアルキル基(特定のトリフルオロプロピル中)、または、パーフルオロアルキル(特定のパーフルオロブチルエチル中)基などの官能基である。
これらの生成物中で、Rラジカルは、低級のC-Cアルキルラジカル、より特には、メチルラジカル、フェニルラジカル、または、トリフルオロプロピルラジカルであることが好ましい。
Mユニットは、例えば、MeSiO1/2ユニット、MeViSiO1/2ユニット、MeエポキシSiO1/2ユニット、MeアクリレートSiO1/2ユニット、ViMeSiOユニットまたはMeHSiO1/2ユニットであり、Meは、本明細書のすべての式において、メチル基を示す。
Dユニットは、例えば、MeSiO2/2ユニット、MeViSiO2/2ユニット、MeHSiO2/2ユニット、MeエポキシSiO2/2ユニットまたはMeアクリレートSiO2/2ユニットを示す。
これらは、例えば、MeSiO2/2、MeViSiO2/2、MeSiO1/2、MeViSiO1/2、MeHSiO1/2、MeHSiO2/2、および、SiO4/2をベースとする組成物である。
Si 10モル%未満の、MeSiO2/2、MeViSiO2/2、MeSiO1/2、MeViSiO1/2、MeHSiO1/2、MeHSiO2/2、および、SiO4/2をベースとする組成物が好ましい。
特に、Si 5モル%未満の、MeSiO2/2、MeViSiO1/2、MeViSiO2/2、MeHSiO2/2、MeHSiO1/2、MeSiO1/2、および、SiO4/2をベースとする組成物である。
特には、Si 0モル%の、MeSiO2/2、MeViSiO1/2、MeHSiO2/2、MeHSiO1/2、MeSiO1/2およびSiO4/2をベースとする組成物である。
また、これらは、例えば、MeSiO2/2、MeSiO1/2、MeエポキシSiO1/2、MeエポキシSiO2/2、および、SiO4/2をベースとする組成物である。
好ましくは、Si 10モル%未満の、MeSiO2/2、MeSiO1/2、MeエポキシSiO1/2、MeエポキシSiO2/2、および、SiO4/2をベースとする組成物である。
特に、5モル%未満の、MeSiO2/2、MeSiO1/2、MeエポキシSiO1/2、MeエポキシSiO2/2、および、SiO4/2をベースとする組成物である。
特には、Si 0モル%の、MeSiO2/2、MeSiO1/2、MeエポキシSiO1/2、MeエポキシSiO2/2、および、SiO4/2をベースとする組成物である。
また、これらは、例えば、MeSiO1/2、MeアクリレートSiO1/2をベースとする組成物であり、MeSiO2/2、MeアクリレートSiO2/2、および、SiO4/2をベースとする組成物である。
好ましくは、Si 10モル%未満の、MeSiO1/2、MeアクリレートSiO1/2、MeSiO2/2、MeアクリレートSiO2/2、および、SiO4/2をベースとする組成物である。
特に、Si 5モル%未満の、MeSiO1/2、MeアクリレートSiO1/2、MeSiO2/2、MeアクリレートSiO2/2およびSiO4/2をベースとする組成物であり、特には、Si 0モル%の、MeSiO1/2、MeアクリレートSiO1/2、MeSiO2/2、MeアクリレートSiO2/2およびSiO4/2をベースとする組成物である。
コーティングが施された基材は、紙類および/またはプラスチック材料のような様々な種類でもよい。
例えば、基材は、グラシン紙、または、コート紙、あるいはまた、クラフト紙でもよい。
基材は、例えば熱可塑性プラスチックといった1以上のプラスチック材料から生成されうる。ここで、熱可塑性プラスチックとしては、例えば、ポリエチレンおよびポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリビニルクロライド、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタラート)、ポリメタアクリレート、ポリエポキシド、ポリスルホン、ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂またはメラミン−ホルムアルデヒド樹脂が含まれる。
また、基材は、例えば、ステンレス、非ステンレススチール、アルミニウムまたは銅のような金属フィルム、好ましくは金属薄フィルムによって形成されうる。
コーティングが施される基材の厚さとしては、用途にもよるが、0.001〜10mm、好ましくは0.01〜1mm、特に、0.05〜0.5mm、特には、0.02〜0.2mmの範囲でもよい。
かかる基材は、金属シート、織布もしくは不織布、フィルム、紙、カード、テープのようなフラットな形態でもよいし、管状のようなフラットでない形態でもよい。
さらには、基材は、天然または合成の(織布もしくは不織)繊維でもよい。
特に、実質的に、あるいは、完全に、上記化合物から構成される複合材料でもよい。
「コーティングが施される」とは、基材表面の全部または一部が、想定される用途に応じて、非粘着シリコーン組成物で覆われることを意味する。例えば、基材がシートの場合、表面の片面または両面の、小面積、中面積または大面積が覆われることを意味する。
非熱プラズマとも称されるコールドプラズマは、高くない圧力下で現れるプラズマである。かような条件下では、電子衝突によってのみ、粒子間の顕著なエネルギー伝達が発生する。つまり、熱平衡が起こらない。よって、かかるシステムは、巨視的レベルでは、常温でコールドプラズマと称される。しかしながら、微視的レベルでは、電極で放出される電子は、気体分子と衝突して、それらを活性化する。その結果、ラジカルを生み出す、イオン化または解離が発生する。これらの励起種は、リアクタチャンバで拡散し、基材表面に到達する。次いで、様々なタイプの表面反応、つまり注入、エネルギー移動、結合形成、または、結合脱離、が起こりうる。プラズマ媒質は、フリーラジカルおよびイオン種の存在によって、特には、緩やかな条件で、基材表面の特性を変化させることができる。
“大気圧で”との用語は、例えば、0.5〜2バール、好ましくは0.75〜1.5バール、特に、0.75〜1.25バール、特には、0.9〜1.1バールの圧力を示す。
特に、ALDYNE(登録商標)の方法を採用してもよいが、この方法は、常圧において、調整された組成のガス状混合物に、均一に分散されるフィラメント状放電を使用し、空気中から酸素のいずれの形跡をも排除する。このプロセスは、コロナステーションおよび/または初期のコーティングステーションに換えて、オートノーマスファッションで(autonomous fashion)、あるいは、インラインで、ドライコーティングを実行することが可能となる。これは、広く文献に、特に、国際公開第01/58992号および仏国特許出願公開第2873705号明細書に記載されている。
シリコーンはかかる雰囲気に含まれているのではなく、かかる基材に既に存在している。よって、シリコーンは、プラズマによって、基材に積層するのではない。
コールドプラズマが使用される雰囲気は、中性であるが、好ましくは、窒素をベースとするものである。
ドーパントを用いなくても処理可能である。
ドーパントを用いる場合、それは還元剤であっても酸化剤であってもよく、使用される雰囲気中、好適には、0.0001〜5重量%、好ましくは0.0001〜1重量%、特に、0.0001〜0.1重量%、特には、0.0001〜0.05重量%である。
使用されるドーパントは、CまたはNOであることが好ましい。
またはNO、特にはCがドープされた窒素ベースの雰囲気が好ましい。
本発明を実施するために好ましい条件下において、コールドプラズマ処理は、以下の条件(1)〜(3)で実施される。
(1)電気的な励起の放電は、マイクロ波放電であり、好ましくは1〜5GHz、好ましくは2.45GHz程度である。
(2)かかる非粘着シリコーン組成物に供給されるエネルギー量は、1〜100W/分/cm2、好ましくは10〜80W/分/cm2、特に、20〜60W/分/cm2、特には、25〜50W/分/cm2である。
(3)反応温度は、常温、すなわち、20℃程度から80℃まで、好ましくは20〜40℃の範囲であればよい。
また、本発明を実施するための、他の好ましい条件下においては、静的ではなく、連続的または半連続的に、プラズマリアクタを移動させながら、基材を処理する。かかる移動は、1〜1000m/分、特には、10〜500m/分、好ましくは、20〜250m/分の線速度で行われる。
好ましくは少なくとも一部が(例えば、全部が)架橋され、次いで、上記プロセスに従って処理されるシリコーンオイルをベースとする“非粘着”シリコーン組成物のコーティングが少なくとも一部に施された基材は、新規な生成物である。
よって、本発明はまた、好ましくは少なくとも一部(理想的には全部)が架橋され、次いで、上記プロセスに従って処理されるシリコーンオイルをベースとする非粘着シリコーン組成物を含むコーティングが少なくとも一部に施された基材である。
上述の処理により、少なくとも一部(理想的には全部)が架橋された非粘着シリコーン組成物は、改質された構造を有する。それにより、例えば、架橋が、白金触媒の存在下、重付加によって、MVi(D)Viオイルおよび/またはM(D)(D) ViMオイルおよび/またはMVi(D)(D) ViVi+M’DM’オイルまたはMD’MオイルまたはMDD’MオイルまたはM’DD’Mオイルに行われる場合は、本発明に係るコールドプラズマ処理は、架橋ネットワークを生み出し、MeSi(-CH-CH-)1/2(O2/2)(DVi+D’もしくはM’から出発またはD’+DViもしくはMViから出発)ユニット、MeSi(-CH(CH)-)1/2(O2/2)(DVi+D’もしくはM’から出発またはD’+DViもしくはMViから出発)ユニット;MeSi(-CH-CH-)1/2(O1/2)(M’+DViもしくはMViから出発またはMVi+D’もしくはM’から出発)ユニット、MeSi(-CH(CH)-)1/21/2(M’+DViもしくはMViから出発またはMVi+D’もしくはM’から出発)ユニットを生み出す。
よって、本発明のより特有な主題は、下記の非粘着シリコーン組成物を含む非粘着コーティングが少なくとも一部に施された基材である。
非粘着シリコーン組成物の1例は、少なくとも一部が架橋され(理想的には、全体的に架橋され)、かつ、MeSiO2/2ユニット、MeSi(-CH-CH-)1/2(O2/2)ユニット、MeSi(-CH(CH))1/2(O2/2)MeSiO1/2ユニット、MeSi(-CH-CH-)1/2(O1/2)ユニット、MeSi(-CH(CH)-)1/21/2ユニット、および、SiO4/2ユニットをベースとするものである。
非粘着シリコーン組成物は、少なくとも一部が架橋され(理想的には、全体的に架橋され)、MeSiO2/2ユニット、-(CH-CH-)−COO-R-SiMe(O2/2)ユニット、MeSiO1/2ユニット、-(CH-CH-)−COO-R-SiMe(O1/2)ユニット、および、SiO4/2ユニットをベースとする。
非粘着シリコーン組成物は、少なくとも一部が架橋され(理想的には、全体的に架橋され)、Me2SiO2/2ユニット、Me3SiO1/2ユニット、SiO4/2ユニット、及び以下の2つの構造式で表わされるユニットをベースとする。
Figure 0005687064
または、
Figure 0005687064
一般的な接着剤と比較して低い、例えば、10cN/cm未満の剥離強度(いわゆる“プレミアムリリース”)を有する非粘着シリコーンコーティングを少なくとも一部に施されて基材を製造することが望ましい場合、例えば、80モル%を超える有意量のDユニットを有し、例えば、5モル%未満の少量の機能ユニットを有する1以上のシリコーンオイルの使用が好適である。
中くらいの剥離強度、例えば、10〜30cN/cm(いわゆる“ミディアムリリース”)を有する基材を製造することが望ましい場合、例えば、80モル%を超える有意量のDユニットを有し、例えば、5モル%の機能ユニットを有する1以上のシリコーンオイルが好適に使用される。
高い剥離強度、例えば、30cN/cm超(いわゆる“タイトリリース”)を有する基材を製造することが望ましい場合、例えば、5モル%を超える有意量のSiOユニットを有し、例えば、80モル%未満の少量のDユニットを有する1以上のシリコーンオイルが好適に使用される。
“機能”ユニットは、本明細書中では、例えば、珪素のR置換基の少なくとも1つが例えば、上記で規定する有機官能基である、Mシロキシユニット、DシロキシユニットまたはTシロキシユニットを意味する。
剥離強度を測定するため方法としては、例えば、FINAT3またはFINAT10に記載されているFINATが知られている。角度180°、300mm/分における低い剥離速度の剥離強度は、目盛付き動力計を使って測定される。
剥離試験片は、70g/cm2の圧力で、23℃で20時間(FINAT3)および70℃20時間(FINAT10)に維持される。これら加圧の後、少なくとも4時間、23℃ 相対湿度50%の大気中に放置した後、測定される。
試験片は、幅2.54cmであり、少なくとも175mmの長さである。結果は、cN/cmで表される。
本発明にかかる非粘着シリコーン組成物は、非常に有用な性質および利点を有する。特に、本発明によれば、その剥離強度を有用な範囲で変化させることができる。
剥離強度は、シリコーンの表面に供給されるエネルギー量に応じて、10〜300cN/cmの間で調節可能となる。
本発明の第1の利点は、MQ樹脂、MMviQ樹脂、MDviQ樹脂、MM’Q樹脂またはMD’Q樹脂の使用を回避又は最低限に抑えることができる点にある。これらの樹脂は、製造が困難であるにもかかわらず、非粘着組成物において、剥離強度を調整する力を得ることを期待して標準的に導入されていたからである。
真空下でのプラズマ処理と比較して、本発明の方法は実施が容易であり、大規模な実施においても、1〜1000m/分、好ましくは10〜250m/分の基材の移動速度で、処理することができる。これは、本発明の更なる利点となる。
上述の処理による効果はほぼ永遠であり、処理されたシリコーンフィルムは、非粘着性を維持しつつ、常温で低い湿度(<50%相対湿度)で数ヶ月もの間、保存が可能であるという更なる利点を有する。
つまり、上述の処理によって製品の品質維持性を向上させることができる。
これらの特性や品質は、後述の実施例において、詳説される。実施例においては、いわゆる“タイトリリース”力または“ミディアムリリース”力を得るように剥離強度を高める目的で、上記の非粘着シリコーン組成物を使用することが正当であるということを立証する。
よって、本発明の主題はまた、いわゆる“タイトリリース”力または“ミディアムリリース”力を得ることを目的とし、一般的な接着剤よりも基材の剥離強度を高くするため、上記非粘着シリコーン組成物のコーティングを施す方法である。
同様に、“ローリリース”力を“ミディアムリリース”力または“タイトリリース”力に、あるいは、“ミディアムリリース”力をタイトリリース”力に変換することもできる。
本発明の主題はまた、上記非粘着シリコーン組成物のコーティングを施した第1基材と、接着剤のコーティングを施した第2基材と、を含むシリコーン自己接着複合体である。
ここで第2基材をコーティングする接着剤としては、例えば、アクリル系接着剤を用いることができ、特に、油性アクリルもしくは水性アクリルまたは光架橋性アクリルを用いることができる。この中でも、水性アクリルまたは油性アクリルを用いることは好適である。また、TESA(登録商標)7475や、特に、BASF Acronal(登録商標)との商標の下でBASFから販売される水性アクリル系接着剤であって、粘着性を高めたもの或いは高めていないものを用いることも好適である。さらに、Acronal(登録商標)v210を用いることも好適である。
第2基材をコーティングする接着剤としては、また、ゴム系接着剤、具体的には、特には、市販の接着剤であるTESA(登録商標)7476、TESA(登録商標)4154またはTESA(登録商標)4651であってもよい。
第2基材をコーティングする接着剤は、また、“熱溶融性”接着剤でも、UV熱溶融性接着剤でもよく、特には、米国特許第6,720,399号明細書に記載されているいずれか、あるいは、商標AC−Resin(登録商標)、例えば、AC−Resin(登録商標)258UVとの商標で知られているBASF社の光重合性接着剤でもよい。
これらの中でも、やはり、アクリル系接着剤またはゴム系接着剤が好ましい。
上述のような複合体は、様々な用途で利用され、例えば、ラベル、特には梱包のための粘着テープロール、サニタリーパッド、おむつの接着テープ、瀝青質コーティングなどで利用される。
従って、上記シリコーン自己接着複合体を含む、ラベル、特には、梱包に使われる粘着テープロール、サニタリーパッド、おむつ、特には、使い捨ておむつ、および、瀝青質コーティングもまた、本発明の対象に含まれる。
いわゆる“クリア・オン・クリア”ラベルもまた本発明の対象である。このラベルは、透明接着支持体と、シリコーンとを含む。
本発明の特別な対象は、上記複合体を備える封筒である。封筒の折込部または袋部のいずれかには、接着剤および他の非粘着シリコーン組成物が使用できる。
上記の方法を実施する好ましい条件はまた、上記の本発明の他の対象、特に、非粘着シリコーン組成物および複合体にも適用できる。
以下、本願の実施例を説明する。
(準備1)重付加によって表面架橋されたシリコーンコーティングの準備
シリコーン組成物は:
a)ポリ(ジメチルシロキシ)型ユニット:(MeSiO2/2)およびポリ(メチルビニルシロキシ):(MeViSiO2/2)を含み、Vi 2.5重量%を有し、粘度450cpsである、α,ω−(ジメチルビニルシロキシ)ポリジメチルシロキサンオイル:(MeViSiO1/2
b)ポリ(ジメチルシロキシ)型ユニット:(MeSiO2/2)を含み、Vi 0.37重量%を有し、粘度600cpsである、α,ω−(ジメチルビニルシロキシ)末端:(MeViSiO1/2)を有する、ポリジメチルシロキサンオイル、
c)ポリ(メチルヒドロゲノシロキシ)型ユニット:(MeHSiO2/2)を含む、水素 1.5重量%を有し、粘度30cpsである、水添α,ω−(トリメチルシロキシ)ポリジメチルシロキサンオイル:(MeSiO1/2
をベースとして、以下のように準備される:
a)/b)の混合比が80/20である、a)およびb)の混合物1000gと、ポリマーc)70gとを攪拌することによって混合し、次いで、Karstedt(白金をベースとする触媒)50gを、
d)ポリ(ジメチルシロキシ)型ユニット:(MeSiO2/2)を含み、Vi 0.5重量%を有し、粘度350cpsである、α,ω−(ジメチルビニルシロキシ)末端:(MeViSiO1/2)を有する、ポリジメチルシロキサンオイル
に添加し、白金2800ppmに希釈した。
フィルム上にコーティングするためコーティングスロットに注入する前に、かかる調製物を再度攪拌した。
5つのシリンダヘッドを備えるパイロットスケールコーティング機を使って、得られたシリコーン組成物を、0.8g/m2になるようにToray社製のポリエステル基材(Lumirror(登録商標)60.01)に積層した。
かかるシリコーン組成物を100m/分の速度で、オーブン内を走らせつつ加熱し、架橋を行なった。
その後、オーブンに放置して、基材温度を140℃とした。
(実施例1)
実施例1では、準備1で用意した架橋シリコーン処理ポリエステルフィルムに対し、ALDYNE(登録商標)プロセスに従って、毎分75mのシリコーンの表面に20W/分/cm2の電気量を供給しつつラズマ処理を行った。処理は、常温常圧下で行った。
ALDYNE(登録商標)プロセスは、常圧において、調整された組成のガス状混合物に、均一に分散されるフィラメント状放電を行ない、空気中から酸素を排除する。このような方法を用いることにより、コロナステーションおよび/または初期のコーティングステーションとは異なり、自律的な方法で(autonomous fashion)、あるいは、インラインで、ドライコーティングを実行することが可能となった。
使用された処理ガスは精製窒素に対して500ppmの水素を添加したものであり、かかる雰囲気は、還元性である。
インラインコーティングには、天然ゴム系接着剤TESA(登録商標)4651およびアクリル系接着剤TESA(登録商標)7475を用いた。
(実施例2)
実施例2では、準備1で用意したシリコーン処理ポリエステルフィルムに対し、ALDYNE(登録商標)プロセスに従って、毎分75mのシリコーンの表面に、20W/分/cm2の電気量を供給しつつプラズマ処理を行なった。
使用された処理ガスは精製窒素に500ppmの亜酸化窒素を添加したものであり、かかる雰囲気は、酸化性である。
インラインコーティングでは、天然ゴム系接着剤TESA(登録商標)4651およびアクリル系接着剤TESA(登録商標)7475を用いた。
(実施例3)
実施例3では、準備1で用意したシリコーン処理ポリエステルフィルムに対し、ALDYNE(登録商標)プロセスに従って、毎分75mのシリコーンの表面に、20W/分/cm2の電気量を供給しつつプラズマ処理を行なった。
使用された処理ガスは精製窒素に500ppmのアセチレンを添加したものであり、かかる雰囲気は、有機性である。
インラインコーティングでは、天然ゴム系接着剤TESA(登録商標)4651およびアクリル系接着剤TESA(登録商標)7475を用いた。
(実施例4)
準備1のシリコーン処理ポリエステルフィルムに対し、ALDYNE(登録商標)プロセスに従って、毎分75mのシリコーンの表面に、20W/分/cm2の電気量を供給しつつプラズマ処理を行なった。
使用される処理ガスは非ドープの精製窒素であるため、かかる雰囲気は、中性である。
インラインコーティングでは、天然ゴム系接着剤TESA(登録商標)4651およびアクリル系接着剤TESA(登録商標)7475を用いた。
(実施例5)
準備1のシリコーン処理ポリエステルフィルム上へのプラズマ処理は、ALDYNE(登録商標)プロセスに従って、毎分75mのシリコーンの表面に、60W/分/cm2の電気量を供給しつつ行なわれる。
使用される処理ガスは精製窒素に500ppmの水素が添加されたものであり、かかる雰囲気は、中性である。
インラインコーティングは、天然ゴム系接着剤TESA(登録商標)4651およびアクリル系接着剤TESA(登録商標)7475を使って行った。
(実施例6)
準備1のシリコーン処理ポリエステルフィルム上へのプラズマ処理は、ALDYNE(登録商標)プロセスに従って、毎分75mのシリコーンの表面に、60W/分/cm2の電気量を供給しつつ行なわれる。
使用される処理ガスは非ドープの精製窒素であるため、かかる雰囲気は、中性である。
24時間後、天然ゴム系接着剤TESA(登録商標)4651およびアクリル系接着剤TESA(登録商標)7475を使ってコーティングを行った。
(特性の検査)
コーティングマシンから出した後、そのフィルムにエージングテストを行った。このエージングテストでは、20時間20℃で、促進エージング試験としては、20時間70℃で、70g/cm2の圧力下に、接着複合体を保管した。
次いで、各生成物の剥離強度を、FINAT3(20時間 23℃)およびFINAT10(20時間 70℃)のFINAT試験に従って測定した。
得られた結果は以下のとおりである:
Figure 0005687064
Figure 0005687064
60W/分/cm2(実施例5および実施例6)は、アクリル接着剤TESA(登録商標)7475との組合せでは、供給するエネルギー量として、高すぎることが分かる。60W/分/cm2未満のエネルギー量を供給しつつ行なう、ドープ系、あるいは、非ドープ系のNプラズマ処理によれば、非常に効果的に剥離強度を調整できた。

Claims (16)

  1. 少なくとも一部で架橋されたシリコーンオイルをベースとする非粘着シリコーン組成物から得られた非粘着コーティングを含む基材を用意して、その非粘着コーティングの粘着性を変える基材処理方法であって、
    少なくとも一部に前記非粘着コーティングが施された基材を用意するステップと、
    大気圧下で、
    2、N2O、アセチレン、SiH4、CF4、CO2、O2、及びH2Oの少なくともいずれか1つが1重量%未満ドープされた窒素雰囲気において
    または、H2、N2O、アセチレン、SiH4、CF4、N2、O2、H2Oの少なくともいずれか1つが1重量%未満ドープされた二酸化炭素雰囲気において
    前記基材をコールドプラズマで処理する処理ステップと、
    を含むことを特徴とする基材処理方法。
  2. 前記非粘着シリコーン組成物は、1種類以上のポリオルガノシロキサンオイルを含み、 前記ポリオルガノシロキサンオイルは、MユニットとDユニットとを含み、重付加によっておよび/またはカチオンルートおよび/またはラジカルルートによって、化学線活性および/または熱活性下で、および/または電子線活性によって、架橋されることができ、
    ここで、
    前記Mユニットが、R3SiO1/2ユニットを表し、
    前記Dユニットが、R2SiO2/2ユニットを表し、
    さらにここで、Rラジカルが、それぞれ独立して、H、或いはOH、を表すか、
    または、
    Rラジカルが、0もしくは1の不飽和度を含む、置換もしくは非置換の、直鎖状もしくは分枝状の炭化水素ラジカルから選択された有機ラジカルであって、アルキル基、アルケニル基、アリール基、有機官能基、アミノアルキル基、エポキシアルキル基、(メタ)アクリロキシアルキル基、イソシアノアルキル基、トリフルオロアルキル基、または、パーフルオロアルキル基の何れかの有機ラジカルを表わす
    ことを特徴とする請求項1に記載の基材処理方法。
  3. 前記Mユニットが、Me3SiO1/2ユニット、Me2ViSiO1/2ユニット、Me2エポキシSiO1/2ユニット、Me2アクリレートSiO1/2ユニット、ViMe2SiOユニットおよびMe2HSiO1/2ユニットから選択されることを特徴とする請求項2に記載の基材処理方法。
  4. 前記Dユニットが、Me2SiO2/2ユニット、MeViSiO2/2ユニット、MeHSiO2/2ユニット、MeエポキシSiO2/2ユニットおよびMeアクリレートSiO2/2ユニットから選択されることを特徴とする請求項2または3に記載の基材処理方法。
  5. 前記基材が、プラスチック材料および/または紙をベースとすることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の基材処理方法。
  6. 前記処理ステップでは、0.75〜1.5バールの気圧下で前記基材をコールドプラズマで処理することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の基材処理方法。
  7. 前記雰囲気が、0.0001重量%以上1重量%未満のドーパントを含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の基材処理方法。
  8. 前記雰囲気が、H2、C22またはN2Oがドープされた窒素をベースとすることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の基材処理方法。
  9. 前記非粘着シリコーン組成物に供給されるエネルギー量が、10〜80W/分/cm2であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の基材処理方法。
  10. 前記基材が、1〜1000m/分の線速度で連続的に処理されることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の基材処理方法。
  11. 少なくとも一部が架橋されたシリコーンオイルベースの非粘着シリコーン組成物を含む非粘着コーティングが少なくとも一部に施され、次いで、請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法によって処理されたことを特徴とする基材。
  12. 以下の非粘着シリコーン組成物の何れか一つを含む非粘着コーティングが少なくとも一部に施されたことを特徴とする請求項11に記載の基材。
    少なくとも一部が架橋され、かつ、Me2SiO2/2ユニット、MeSi(-CH2-CH2-)1/2(O2/2)ユニット、MeSi(-CH(CH3))1/2(O2/2)Me3SiO1/2ユニット、Me2Si(-CH2-CH2-)1/2(O1/2)ユニット、Me2Si(-CH(CH3)-)1/21/2、および、SiO4/2ユニットをベースとする非粘着シリコーン組成物、
    少なくとも一部が架橋され、Me2SiO2/2ユニット、-(CH2-CH-)n−COO-R-SiMe(O2/2)ユニット、Me3SiO1/2ユニット、-(CH2-CH-)n−COO-R-SiMe2(O1/2)ユニット、および、SiO4/2ユニットをベースとする非粘着シリコーン組成物、
    または、
    少なくとも一部が架橋され、Me2SiO2/2ユニット、Me3SiO1/2ユニット、SiO4/2ユニット、及び以下の2つの構造式で表わされるユニットをベースとする非粘着シリコーン組成物、
    Figure 0005687064
    Figure 0005687064
  13. 請求項11または12に記載の前記基材を第1基材として含み、更に、接着剤でコートされる別の基材を第2基材として含むことを特徴とするシリコーン自己接着複合体。
  14. 前記接着剤が、アクリル系接着剤またはゴム系接着剤であることを特徴とする請求項13に記載のシリコーン自己接着複合体。
  15. 請求項13または14に記載のシリコーン自己接着複合体を含むことを特徴とするラベル、粘着テープロール、サニタリーパッド、おむつ、または、瀝青質コーティング。
  16. 請求項13または14に記載のシリコーン自己接着複合体を含むことを特徴とする封筒。
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