JP5687064B2 - シリコーン自己接着剤、シリコーン自己接着剤の製造方法、シリコーン自己接着剤を用いた複合体、および、シリコーン自己接着剤の使用方法 - Google Patents
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Description
剥離強度はまた、UVまたは電子線放射による処理によって調節されてきた(特許文献1)。しかしながら、それらの処理は、UV放射を通す基材にしか適用できない。さらには、伝達するエネルギーの制御は、容易なものではない。
しかし、これらのタイプの樹脂は、製造が困難である。
少なくとも一部に非粘着コーティングが施された基材を用意するステップと、
大気圧下で、
H2、N2O、アセチレン、SiH4、CF4、CO2、O2、及びH2Oのいずれか1つ以上の成分が1重量%未満ドープ(添加)された窒素雰囲気において、
または、
H2、N2O、アセチレン、SiH4、CF4、N2、O2、H2Oから選択される1以上の成分が1重量%未満ドープされた二酸化炭素雰囲気において、
非粘着コーティングが施された基材をコールドプラズマで処理するステップと、
を含むことを特徴とする方法である。
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などのアルキル基(炭素原子数1〜8)およびそれらの異性体、
ビニル基、アリール基およびヘキセニル基などのアルケニル基(炭素原子数1〜8)、
フェニル基などのアリール基、あるいは、
アミノアルキル基、エポキシアルキル基、(メタ)アクリロキシアルキル基、イソシアノアルキル基、トリフルオロアルキル基(特定のトリフルオロプロピル中)、または、パーフルオロアルキル(特定のパーフルオロブチルエチル中)基などの官能基である。
(1)電気的な励起の放電は、マイクロ波放電であり、好ましくは1〜5GHz、好ましくは2.45GHz程度である。
(2)かかる非粘着シリコーン組成物に供給されるエネルギー量は、1〜100W/分/cm2、好ましくは10〜80W/分/cm2、特に、20〜60W/分/cm2、特には、25〜50W/分/cm2である。
(3)反応温度は、常温、すなわち、20℃程度から80℃まで、好ましくは20〜40℃の範囲であればよい。
つまり、上述の処理によって製品の品質維持性を向上させることができる。
(準備1)重付加によって表面架橋されたシリコーンコーティングの準備
シリコーン組成物は:
a)ポリ(ジメチルシロキシ)型ユニット:(Me2SiO2/2)およびポリ(メチルビニルシロキシ):(MeViSiO2/2)を含み、Vi 2.5重量%を有し、粘度450cpsである、α,ω−(ジメチルビニルシロキシ)ポリジメチルシロキサンオイル:(Me2ViSiO1/2)
b)ポリ(ジメチルシロキシ)型ユニット:(Me2SiO2/2)を含み、Vi 0.37重量%を有し、粘度600cpsである、α,ω−(ジメチルビニルシロキシ)末端:(Me2ViSiO1/2)を有する、ポリジメチルシロキサンオイル、
c)ポリ(メチルヒドロゲノシロキシ)型ユニット:(MeHSiO2/2)を含む、水素 1.5重量%を有し、粘度30cpsである、水添α,ω−(トリメチルシロキシ)ポリジメチルシロキサンオイル:(Me3SiO1/2)
をベースとして、以下のように準備される:
a)/b)の混合比が80/20である、a)およびb)の混合物1000gと、ポリマーc)70gとを攪拌することによって混合し、次いで、Karstedt(白金をベースとする触媒)50gを、
d)ポリ(ジメチルシロキシ)型ユニット:(Me2SiO2/2)を含み、Vi 0.5重量%を有し、粘度350cpsである、α,ω−(ジメチルビニルシロキシ)末端:(Me2ViSiO1/2)を有する、ポリジメチルシロキサンオイル
に添加し、白金2800ppmに希釈した。
実施例1では、準備1で用意した架橋シリコーン処理ポリエステルフィルムに対し、ALDYNE(登録商標)プロセスに従って、毎分75mのシリコーンの表面に20W/分/cm2の電気量を供給しつつプラズマ処理を行った。処理は、常温常圧下で行った。
実施例2では、準備1で用意したシリコーン処理ポリエステルフィルムに対し、ALDYNE(登録商標)プロセスに従って、毎分75mのシリコーンの表面に、20W/分/cm2の電気量を供給しつつプラズマ処理を行なった。
実施例3では、準備1で用意したシリコーン処理ポリエステルフィルムに対し、ALDYNE(登録商標)プロセスに従って、毎分75mのシリコーンの表面に、20W/分/cm2の電気量を供給しつつプラズマ処理を行なった。
準備1のシリコーン処理ポリエステルフィルムに対し、ALDYNE(登録商標)プロセスに従って、毎分75mのシリコーンの表面に、20W/分/cm2の電気量を供給しつつプラズマ処理を行なった。
準備1のシリコーン処理ポリエステルフィルム上へのプラズマ処理は、ALDYNE(登録商標)プロセスに従って、毎分75mのシリコーンの表面に、60W/分/cm2の電気量を供給しつつ行なわれる。
準備1のシリコーン処理ポリエステルフィルム上へのプラズマ処理は、ALDYNE(登録商標)プロセスに従って、毎分75mのシリコーンの表面に、60W/分/cm2の電気量を供給しつつ行なわれる。
コーティングマシンから出した後、そのフィルムにエージングテストを行った。このエージングテストでは、20時間20℃で、促進エージング試験としては、20時間70℃で、70g/cm2の圧力下に、接着複合体を保管した。
Claims (16)
- 少なくとも一部で架橋されたシリコーンオイルをベースとする非粘着シリコーン組成物から得られた非粘着コーティングを含む基材を用意して、その非粘着コーティングの粘着性を変える基材処理方法であって、
少なくとも一部に前記非粘着コーティングが施された基材を用意するステップと、
大気圧下で、
H2、N2O、アセチレン、SiH4、CF4、CO2、O2、及びH2Oの少なくともいずれか1つが1重量%未満ドープされた窒素雰囲気において、
または、H2、N2O、アセチレン、SiH4、CF4、N2、O2、H2Oの少なくともいずれか1つが1重量%未満ドープされた二酸化炭素雰囲気において、
前記基材をコールドプラズマで処理する処理ステップと、
を含むことを特徴とする基材処理方法。 - 前記非粘着シリコーン組成物は、1種類以上のポリオルガノシロキサンオイルを含み、 前記ポリオルガノシロキサンオイルは、MユニットとDユニットとを含み、重付加によっておよび/またはカチオンルートおよび/またはラジカルルートによって、化学線活性および/または熱活性下で、および/または電子線活性によって、架橋されることができ、
ここで、
前記Mユニットが、R3SiO1/2ユニットを表し、
前記Dユニットが、R2SiO2/2ユニットを表し、
さらにここで、Rラジカルが、それぞれ独立して、H、或いはOH、を表すか、
または、
Rラジカルが、0もしくは1の不飽和度を含む、置換もしくは非置換の、直鎖状もしくは分枝状の炭化水素ラジカルから選択された有機ラジカルであって、アルキル基、アルケニル基、アリール基、有機官能基、アミノアルキル基、エポキシアルキル基、(メタ)アクリロキシアルキル基、イソシアノアルキル基、トリフルオロアルキル基、または、パーフルオロアルキル基の何れかの有機ラジカルを表わす
ことを特徴とする請求項1に記載の基材処理方法。 - 前記Mユニットが、Me3SiO1/2ユニット、Me2ViSiO1/2ユニット、Me2エポキシSiO1/2ユニット、Me2アクリレートSiO1/2ユニット、ViMe2SiOユニットおよびMe2HSiO1/2ユニットから選択されることを特徴とする請求項2に記載の基材処理方法。
- 前記Dユニットが、Me2SiO2/2ユニット、MeViSiO2/2ユニット、MeHSiO2/2ユニット、MeエポキシSiO2/2ユニットおよびMeアクリレートSiO2/2ユニットから選択されることを特徴とする請求項2または3に記載の基材処理方法。
- 前記基材が、プラスチック材料および/または紙をベースとすることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の基材処理方法。
- 前記処理ステップでは、0.75〜1.5バールの気圧下で前記基材をコールドプラズマで処理することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の基材処理方法。
- 前記雰囲気が、0.0001重量%以上1重量%未満のドーパントを含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の基材処理方法。
- 前記雰囲気が、H2、C2H2またはN2Oがドープされた窒素をベースとすることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の基材処理方法。
- 前記非粘着シリコーン組成物に供給されるエネルギー量が、10〜80W/分/cm2であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の基材処理方法。
- 前記基材が、1〜1000m/分の線速度で連続的に処理されることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の基材処理方法。
- 少なくとも一部が架橋されたシリコーンオイルベースの非粘着シリコーン組成物を含む非粘着コーティングが少なくとも一部に施され、次いで、請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法によって処理されたことを特徴とする基材。
- 以下の非粘着シリコーン組成物の何れか一つを含む非粘着コーティングが少なくとも一部に施されたことを特徴とする請求項11に記載の基材。
少なくとも一部が架橋され、かつ、Me2SiO2/2ユニット、MeSi(-CH2-CH2-)1/2(O2/2)ユニット、MeSi(-CH(CH3))1/2(O2/2)Me3SiO1/2ユニット、Me2Si(-CH2-CH2-)1/2(O1/2)ユニット、Me2Si(-CH(CH3)-)1/2O1/2、および、SiO4/2ユニットをベースとする非粘着シリコーン組成物、
少なくとも一部が架橋され、Me2SiO2/2ユニット、-(CH2-CH-)n−COO-R-SiMe(O2/2)ユニット、Me3SiO1/2ユニット、-(CH2-CH-)n−COO-R-SiMe2(O1/2)ユニット、および、SiO4/2ユニットをベースとする非粘着シリコーン組成物、
または、
少なくとも一部が架橋され、Me2SiO2/2ユニット、Me3SiO1/2ユニット、SiO4/2ユニット、及び以下の2つの構造式で表わされるユニットをベースとする非粘着シリコーン組成物、
- 請求項11または12に記載の前記基材を第1基材として含み、更に、接着剤でコートされる別の基材を第2基材として含むことを特徴とするシリコーン自己接着複合体。
- 前記接着剤が、アクリル系接着剤またはゴム系接着剤であることを特徴とする請求項13に記載のシリコーン自己接着複合体。
- 請求項13または14に記載のシリコーン自己接着複合体を含むことを特徴とするラベル、粘着テープロール、サニタリーパッド、おむつ、または、瀝青質コーティング。
- 請求項13または14に記載のシリコーン自己接着複合体を含むことを特徴とする封筒。
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