JP5674871B2 - 誘導結合プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
2;誘電体壁(誘電体部材)
3;アンテナ室
4;処理室
13;高周波アンテナ
13a;外側アンテナ部
13b;内側アンテナ部
13c;中間アンテナ部
14;整合器
15;高周波電源
16a,16b,16c;給電部材
20;処理ガス供給系
21a,21c;可変ンサコンデンサ
23;載置台
30;排気装置
50;制御部
51;ユーザーインターフェース
52;記憶部
61a;外側アンテナ回路
61b;内側アンテナ回路
61c;中間アンテナ回路
G;基板
Claims (4)
- 矩形状の被処理体を収容してプラズマ処理を施す処理室と、
前記処理室内で被処理体が載置される載置台と、
前記処理室内に処理ガスを供給する処理ガス供給系と、
前記処理室内を排気する排気系と、
前記処理室の外部に誘電体部材を介して配置され、高周波電力が供給されることにより前記処理室内に誘導電界を形成する同心状に設けられた3以上のアンテナ部を有する高周波アンテナと、
前記各アンテナ部を含むアンテナ回路のうち少なくとも一つのインピーダンスを調節し、これにより前記アンテナ部の電流値を制御するインピーダンス調節手段と
を具備し、
前記各アンテナ部は、該アンテナ部自体が略矩形状になるように複数のアンテナ線が渦巻き状に配置されてなる多重アンテナを構成し、かつその配置領域において均一な電界が形成されるようにその巻き方が設定され、
各アンテナ部の配置領域間で電界の均一化が可能なように、内側のアンテナ部から外側のアンテナ部に向かって、前記各アンテナ部の各辺の中央部において巻き数が少なくなるように各アンテナ線の巻き数が設定されることを特徴とする誘導結合プラズマ処理装置。 - 前記インピーダンス調節手段は、前記各アンテナ部を含むアンテナ回路のうち少なくとも一つに接続され、その接続されたアンテナ回路のインピーダンスを調節することを特徴とする請求項1に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記インピーダンス調節手段は、可変コンデンサを有することを特徴とする請求項2に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- アプリケーションごとに最適なプラズマ密度分布が得られる前記インピーダンス調節手段の調節パラメータが予め設定され、所定のアプリケーションが選択された際にそのアプリケーションに対応する前記インピーダンス調節手段の調節パラメータが予め設定された最適な値になるように前記インピーダンス調節手段を制御する制御手段をさらに有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
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