JP5671892B2 - 廃液処理装置 - Google Patents
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Description
廃液処理装置100を用いて、8質量%メタノール水溶液を処理した。このとき、光照射装置41として、波長が0.8〜1μmの近赤外線を照射するハロゲンランプ、減圧容器42を構成する材料として、石英、環状反射板45を構成する材料として、金メッキされているガラスを用いた。また、反応器10の有機物が酸化した廃液が排出される側の端部の近傍にMnO25gを充填した。
減圧容器42を構成する材料として、蛍石を用いた以外は、実施例1と同様にして、8質量%メタノール水溶液を処理した。その結果、内部の温度が400℃になるまで昇温するのに必要な時間は3分間であり、消費電力を小さくすることができた。
光照射装置41として、波長が1.2μmの近赤外線を照射する短波長赤外線ヒーターを用いた以外は、実施例1と同様にして、8質量%メタノール水溶液を処理した。その結果、内部の温度が400℃になるまで昇温するのに必要な時間は3分間であり、消費電力を小さくすることができた。
光照射装置41として、波長が2.6μmの近赤外線を照射する中波長赤外線ヒーターを用いた以外は、実施例1と同様にして、8質量%メタノール水溶液を処理した。その結果、内部の温度が400℃になるまで昇温するのに必要な時間は3分間であり、消費電力を小さくすることができた。
光照射装置41として、波長が60〜400nmの可視光線を照射するキセノンフラッシュランプを用いた以外は、実施例1と同様にして、8質量%メタノール水溶液を処理した。その結果、内部の温度が400℃になるまで昇温するのに必要な時間は5分間であり、消費電力を小さくすることができた。
真空ポンプ43を用いて減圧容器42を減圧しなかった以外は、実施例1と同様にして、8質量%メタノール水溶液を処理した。その結果、内部の温度が400℃になるまで昇温するのに必要な時間は15分間であり、消費電力を小さくすることができた。
加熱部40の代わりに、炉体としてのセラミクス成形品で覆われた管状電気炉を用いた以外は、実施例1と同様にして、8質量%メタノール水溶液を処理した。その結果、内部の温度が400℃になるまで昇温するのに必要な時間は60分間であり、消費電力が大きくなった。
10 反応器
20 廃液供給部
21 タンク
21a 廃液
21b 撹拌羽根
22 プランジャーポンプ
23 開閉弁
30 過酸化水素水供給部
31 タンク
31a 過酸化水素水
32 シリンジポンプ
33 開閉弁
40 加熱部
41 光照射装置
42 減圧容器
43 真空ポンプ
44 開閉弁
45 環状反射板
46 筐体
50 熱交換器
60 気液分離部
61 背圧弁
62 気液分離器
T 温度センサ
P1、P2 圧力センサ
Claims (4)
- 水及び有機物を含む廃液を処理する廃液処理装置であって、
前記水を亜臨界水、過熱水蒸気又は超臨界水に変化させると共に、前記有機物を酸化させる反応器と、前記反応器に前記廃液を供給する廃液供給手段と、前記反応器に酸化剤を供給する酸化剤供給手段と、前記反応器を加熱する加熱手段を有し、
前記加熱手段は、前記反応器を内部に収容する減圧容器と、前記減圧容器内を減圧する減圧手段と、前記減圧容器の外部から前記反応器に赤外線又は可視光線を照射する光照射手段を有し、
前記減圧容器は、石英又は蛍石を含むことを特徴とする廃液処理装置。 - 前記減圧容器は、前記光照射手段により照射された赤外線又は可視光線の光路を含む領域のみが石英又は蛍石を含むことを特徴とする請求項1に記載の廃液処理装置。
- 前記光照射手段は、前記反応器に赤外線を照射することを特徴とする請求項1又は2に記載の廃液処理装置。
- 前記加熱手段は、前記光照射手段により照射された赤外線又は可視光線を反射して前記反応器に照射する反射部材をさらに有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の廃液処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010196133A JP5671892B2 (ja) | 2010-09-01 | 2010-09-01 | 廃液処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010196133A JP5671892B2 (ja) | 2010-09-01 | 2010-09-01 | 廃液処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012050937A JP2012050937A (ja) | 2012-03-15 |
JP5671892B2 true JP5671892B2 (ja) | 2015-02-18 |
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ID=45904945
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2010196133A Expired - Fee Related JP5671892B2 (ja) | 2010-09-01 | 2010-09-01 | 廃液処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP5671892B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108455720A (zh) * | 2018-04-04 | 2018-08-28 | 南通市华安超临界萃取有限公司 | 一种超临界双氧水污水处理设备 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04338282A (ja) * | 1991-05-15 | 1992-11-25 | Mitsubishi Corp | 半導体製造装置 |
JP2715238B2 (ja) * | 1993-04-16 | 1998-02-18 | 三菱化工機株式会社 | 遠心力場を利用した化学反応処理方法 |
JP3354438B2 (ja) * | 1996-06-04 | 2002-12-09 | 株式会社荏原製作所 | 有機物を含有する水媒体の処理方法及び水熱反応装置 |
JPH11156379A (ja) * | 1997-09-25 | 1999-06-15 | Japan Organo Co Ltd | 含窒素有機化合物の超臨界水酸化分解方法および処理装置 |
JP2002263634A (ja) * | 2001-03-06 | 2002-09-17 | Toshiba Eng Co Ltd | 超臨界水製造装置および超臨界水有機物処理設備 |
JP2002309035A (ja) * | 2001-04-13 | 2002-10-23 | Advantest Corp | 回路部材処理方法および装置 |
JP2003323971A (ja) * | 2002-05-07 | 2003-11-14 | Thermo Riko:Kk | 超高温・超高速・均一加熱装置 |
JP4334298B2 (ja) * | 2003-08-19 | 2009-09-30 | 株式会社東芝 | 有機廃棄物の処理装置および処理方法 |
JP2005152806A (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-16 | Electric Power Dev Co Ltd | 排水の処理方法 |
JP2005243667A (ja) * | 2004-02-24 | 2005-09-08 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 熱処理装置 |
JP2006095475A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高含水有機物の処理方法及び処理装置 |
JP2006265635A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 微粒子製造方法及びその装置 |
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- 2010-09-01 JP JP2010196133A patent/JP5671892B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
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JP2012050937A (ja) | 2012-03-15 |
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