JP5669799B2 - 画像処理装置、放射線画像撮影システム、画像処理プログラム、及び画像処理方法 - Google Patents
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Description
このような構成によれば、全領域について再構成を行う場合に比べて、マスクの生成処理が高速化する。
上記目的を達成するために、請求項3に記載の画像処理装置は、放射線照射部を移動させながら放射線検出器と前記放射線照射部との間の被写体に対して複数の方向から放射線を照射し、前記放射線検出器で放射線を検出して撮影された複数の投影画像を取得する取得手段と、前記取得された複数の投影画像から再構成して前記被写体の断層画像を生成する断層画像生成手段と、前記複数の投影画像の各々の、前記被写体の画像を含む被写体領域と前記被写体の画像を含まない直接線領域とを分離するための複数の投影画像マスクを生成する投影画像マスク生成手段と、前記断層画像の前記被写体領域と前記直接線領域とを分離するための断層画像マスクを、前記複数の投影画像マスクから再構成して生成する断層画像マスク生成手段と、前記断層画像に前記断層画像マスクを適用してマスク処理を行うマスク処理手段と、を備え、前記断層画像マスク生成手段は、前記複数の投影画像マスクが被写体領域である部分を被写体領域とし、前記複数の投影画像マスクの少なくとも1つの投影画像マスクが直接線領域である部分を直接線領域として演算して断層画像マスクの再構成を行う。
このような構成によれば、加算処理を行って再構成を行う場合に比べて、断層画像マスクの生成処理が高速化する。
なお、請求項4に記載の発明のように、前記断層画像に対して前記マスク処理以外の画像処理を行う場合に、前記マスク処理が行われる前に前記画像処理を行う画像処理手段を更に備えていてもよい。
請求項9の発明は、コンピュータを、放射線照射部を移動させながら放射線検出器と前記放射線照射部との間の被写体に対して複数の方向から放射線を照射し、前記放射線検出器で放射線を検出して撮影された複数の投影画像を取得する取得手段、前記被写体の断層画像を、前記取得された複数の投影画像から再構成して生成する断層画像生成手段、前記複数の投影画像の各々の、前記被写体の画像を含む被写体領域と前記被写体の画像を含まない直接線領域とを分離するための複数の投影画像マスクを生成する投影画像マスク生成手段、前記断層画像の前記被写体領域と前記直接線領域とを分離するための断層画像マスクを、前記複数の投影画像マスクから再構成して生成する断層画像マスク生成手段、及び前記断層画像に前記断層画像マスクを適用してマスク処理を行うマスク処理手段、として機能させるための画像処理プログラムであって、前記断層画像マスク生成手段は、前記断層画像マスクの全領域のうち、前記複数の方向から照射される放射線の各々の照射領域が重なる領域を、前記投影画像マスクから再構成して生成する画像処理プログラムである。
請求項10の発明は、コンピュータを、放射線照射部を移動させながら放射線検出器と前記放射線照射部との間の被写体に対して複数の方向から放射線を照射し、前記放射線検出器で放射線を検出して撮影された複数の投影画像を取得する取得手段、前記被写体の断層画像を、前記取得された複数の投影画像から再構成して生成する断層画像生成手段、前記複数の投影画像の各々の、前記被写体の画像を含む被写体領域と前記被写体の画像を含まない直接線領域とを分離するための複数の投影画像マスクを生成する投影画像マスク生成手段、前記断層画像の前記被写体領域と前記直接線領域とを分離するための断層画像マスクを、前記複数の投影画像マスクから再構成して生成する断層画像マスク生成手段、及び前記断層画像に前記断層画像マスクを適用してマスク処理を行うマスク処理手段、として機能させるための画像処理プログラムであって、前記断層画像マスク生成手段は、前記複数の投影画像マスクが被写体領域である部分を被写体領域とし、前記複数の投影画像マスクの少なくとも1つの投影画像マスクが直接線領域である部分を直接線領域として演算して断層画像マスクの再構成を行う画像処理プログラムである。
請求項12の発明は、放射線照射部を移動させながら放射線検出器と前記放射線照射部との間の被写体に対して複数の方向から放射線を照射し、前記放射線検出器で放射線を検出して撮影された複数の投影画像を取得する取得工程と、前記被写体の断層画像を、前記取得された複数の投影画像から再構成して生成する断層画像生成工程と、前記複数の投影画像の各々の、前記被写体の画像を含む被写体領域と前記被写体の画像を含まない直接線領域とを分離するための複数の投影画像マスクを生成する投影画像マスク生成工程と、前記断層画像の前記被写体領域と前記直接線領域とを分離するための断層画像マスクを、前記複数の投影画像マスクから再構成して生成する断層画像マスク生成工程と、前記断層画像に前記断層画像マスクを適用してマスク処理を行うマスク処理工程と、を備えた画像処理方法であって、前記断層画像マスク生成工程において、前記断層画像マスクの全領域のうち、前記複数の方向から照射される放射線の各々の照射領域が重なる領域を、前記投影画像マスクから再構成して生成する画像処理方法である。
請求項13の発明は、放射線照射部を移動させながら放射線検出器と前記放射線照射部との間の被写体に対して複数の方向から放射線を照射し、前記放射線検出器で放射線を検出して撮影された複数の投影画像を取得する取得工程と、前記被写体の断層画像を、前記取得された複数の投影画像から再構成して生成する断層画像生成工程と、前記複数の投影画像の各々の、前記被写体の画像を含む被写体領域と前記被写体の画像を含まない直接線領域とを分離するための複数の投影画像マスクを生成する投影画像マスク生成工程と、前記断層画像の前記被写体領域と前記直接線領域とを分離するための断層画像マスクを、前記複数の投影画像マスクから再構成して生成する断層画像マスク生成工程と、前記断層画像に前記断層画像マスクを適用してマスク処理を行うマスク処理工程と、を備えた画像処理方法であって、前記断層画像マスク生成工程において、前記複数の投影画像マスクが被写体領域である部分を被写体領域とし、前記複数の投影画像マスクの少なくとも1つの投影画像マスクが直接線領域である部分を直接線領域として演算して断層画像マスクの再構成を行う画像処理方法である。
10 放射線画像撮影装置
42 放射線検出器
50 画像処理装置
62 画像表示指示部
64 指示受付部
66 断層画像生成部
68 投影画像マスク生成部
70 断層画像マスク生成部
72 マスク処理部
74 記憶部
80 表示装置
N 乳房
Claims (13)
- 放射線照射部を移動させながら放射線検出器と前記放射線照射部との間の被写体に対して複数の方向から放射線を照射し、前記放射線検出器で放射線を検出して撮影された複数の投影画像を取得する取得手段と、
前記取得された複数の投影画像から再構成して前記被写体の断層画像を生成する断層画像生成手段と、
前記複数の投影画像の各々の、前記被写体の画像を含む被写体領域と前記被写体の画像を含まない直接線領域とを分離するための複数の投影画像マスクを生成する投影画像マスク生成手段と、
前記断層画像の前記被写体領域と前記直接線領域とを分離するための断層画像マスクを、前記複数の投影画像マスクから再構成して生成する断層画像マスク生成手段と、
前記断層画像に前記断層画像マスクを適用してマスク処理を行うマスク処理手段と、
を備え、
前記断層画像マスク生成手段は、前記断層画像生成手段により生成された複数の断層画像を、前記放射線照射部側の第1断層画像群と前記放射線検出器側の第2断層画像群とに分けたときの、前記第1断層画像群に含まれる複数の断層画像の各々に対応する複数の断層画像マスクを生成し、
前記マスク処理手段は、前記第2断層画像群に対してマスク処理を行う場合には、前記第2断層画像群に対する前記複数の断層画像マスクの対応順序を、前記第1断層画像群に対する前記複数の断層画像マスクの対応順序と逆にして各断層画像マスクを適用し、マスク処理を行う
画像処理装置。 - 放射線照射部を移動させながら放射線検出器と前記放射線照射部との間の被写体に対して複数の方向から放射線を照射し、前記放射線検出器で放射線を検出して撮影された複数の投影画像を取得する取得手段と、
前記取得された複数の投影画像から再構成して前記被写体の断層画像を生成する断層画像生成手段と、
前記複数の投影画像の各々の、前記被写体の画像を含む被写体領域と前記被写体の画像を含まない直接線領域とを分離するための複数の投影画像マスクを生成する投影画像マスク生成手段と、
前記断層画像の前記被写体領域と前記直接線領域とを分離するための断層画像マスクを、前記複数の投影画像マスクから再構成して生成する断層画像マスク生成手段と、
前記断層画像に前記断層画像マスクを適用してマスク処理を行うマスク処理手段と、
を備え、
前記断層画像マスク生成手段は、前記断層画像マスクの全領域のうち、前記複数の方向から照射される放射線の各々の照射領域が重なる領域を、前記投影画像マスクから再構成して生成する
画像処理装置。 - 放射線照射部を移動させながら放射線検出器と前記放射線照射部との間の被写体に対して複数の方向から放射線を照射し、前記放射線検出器で放射線を検出して撮影された複数の投影画像を取得する取得手段と、
前記取得された複数の投影画像から再構成して前記被写体の断層画像を生成する断層画像生成手段と、
前記複数の投影画像の各々の、前記被写体の画像を含む被写体領域と前記被写体の画像を含まない直接線領域とを分離するための複数の投影画像マスクを生成する投影画像マスク生成手段と、
前記断層画像の前記被写体領域と前記直接線領域とを分離するための断層画像マスクを、前記複数の投影画像マスクから再構成して生成する断層画像マスク生成手段と、
前記断層画像に前記断層画像マスクを適用してマスク処理を行うマスク処理手段と、
を備え、
前記断層画像マスク生成手段は、前記複数の投影画像マスクが被写体領域である部分を被写体領域とし、前記複数の投影画像マスクの少なくとも1つの投影画像マスクが直接線領域である部分を直接線領域として演算して断層画像マスクの再構成を行う
画像処理装置。 - 前記断層画像に対して前記マスク処理以外の画像処理を行う場合に、前記マスク処理が行われる前に前記画像処理を行う画像処理手段を更に備えた
請求項1から請求項3の何れか1項記載の画像処理装置。 - 前記断層画像マスク生成手段は、前記複数の投影画像マスクの各々を縮小した複数の縮小マスクから前記断層画像マスクを再構成して生成し、
前記マスク処理手段は、前記断層画像マスクを元のサイズに復元して前記マスク処理を行う
請求項1から請求項4の何れか1項記載の画像処理装置。 - 前記断層画像マスク生成手段により生成された断層画像マスクを、一次元状の形式又は関数形式のデータで記憶する記憶手段を更に設け、
前記マスク処理手段は、前記記憶手段に記憶されたデータにより表わされた断層画像マスクを用いて前記マスク処理を行う
請求項1から請求項5の何れか1項記載の画像処理装置。 - 放射線照射部を移動させながら放射線検出器と前記放射線照射部との間の被写体に対して複数の方向から放射線を照射し、前記放射線検出器で放射線を検出して複数の投影画像を撮影する放射線画像撮影装置と、
前記放射線画像撮影装置で撮影された複数の投影画像から断層画像を生成してマスク処理を行う、前記請求項1から前記請求項6の何れか1項に記載の画像処理装置と、
を備えた放射線画像撮影システム。 - コンピュータを、
放射線照射部を移動させながら放射線検出器と前記放射線照射部との間の被写体に対して複数の方向から放射線を照射し、前記放射線検出器で放射線を検出して撮影された複数の投影画像を取得する取得手段、
前記被写体の断層画像を、前記取得された複数の投影画像から再構成して生成する断層画像生成手段、
前記複数の投影画像の各々の、前記被写体の画像を含む被写体領域と前記被写体の画像を含まない直接線領域とを分離するための複数の投影画像マスクを生成する投影画像マスク生成手段、
前記断層画像の前記被写体領域と前記直接線領域とを分離するための断層画像マスクを、前記複数の投影画像マスクから再構成して生成する断層画像マスク生成手段、及び
前記断層画像に前記断層画像マスクを適用してマスク処理を行うマスク処理手段、
として機能させるための画像処理プログラムであって、
前記断層画像マスク生成手段は、前記断層画像生成手段により生成された複数の断層画像を、前記放射線照射部側の第1断層画像群と前記放射線検出器側の第2断層画像群とに分けたときの、前記第1断層画像群に含まれる複数の断層画像の各々に対応する複数の断層画像マスクを生成し、
前記マスク処理手段は、前記第2断層画像群に対してマスク処理を行う場合には、前記第2断層画像群に対する前記複数の断層画像マスクの対応順序を、前記第1断層画像群に対する前記複数の断層画像マスクの対応順序と逆にして各断層画像マスクを適用し、マスク処理を行う
画像処理プログラム。 - コンピュータを、
放射線照射部を移動させながら放射線検出器と前記放射線照射部との間の被写体に対して複数の方向から放射線を照射し、前記放射線検出器で放射線を検出して撮影された複数の投影画像を取得する取得手段、
前記被写体の断層画像を、前記取得された複数の投影画像から再構成して生成する断層画像生成手段、
前記複数の投影画像の各々の、前記被写体の画像を含む被写体領域と前記被写体の画像を含まない直接線領域とを分離するための複数の投影画像マスクを生成する投影画像マスク生成手段、
前記断層画像の前記被写体領域と前記直接線領域とを分離するための断層画像マスクを、前記複数の投影画像マスクから再構成して生成する断層画像マスク生成手段、及び
前記断層画像に前記断層画像マスクを適用してマスク処理を行うマスク処理手段、
として機能させるための画像処理プログラムであって、
前記断層画像マスク生成手段は、前記断層画像マスクの全領域のうち、前記複数の方向から照射される放射線の各々の照射領域が重なる領域を、前記投影画像マスクから再構成して生成する
画像処理プログラム。 - コンピュータを、
放射線照射部を移動させながら放射線検出器と前記放射線照射部との間の被写体に対して複数の方向から放射線を照射し、前記放射線検出器で放射線を検出して撮影された複数の投影画像を取得する取得手段、
前記被写体の断層画像を、前記取得された複数の投影画像から再構成して生成する断層画像生成手段、
前記複数の投影画像の各々の、前記被写体の画像を含む被写体領域と前記被写体の画像を含まない直接線領域とを分離するための複数の投影画像マスクを生成する投影画像マスク生成手段、
前記断層画像の前記被写体領域と前記直接線領域とを分離するための断層画像マスクを、前記複数の投影画像マスクから再構成して生成する断層画像マスク生成手段、及び
前記断層画像に前記断層画像マスクを適用してマスク処理を行うマスク処理手段、
として機能させるための画像処理プログラムであって、
前記断層画像マスク生成手段は、前記複数の投影画像マスクが被写体領域である部分を被写体領域とし、前記複数の投影画像マスクの少なくとも1つの投影画像マスクが直接線領域である部分を直接線領域として演算して断層画像マスクの再構成を行う
画像処理プログラム。 - 放射線照射部を移動させながら放射線検出器と前記放射線照射部との間の被写体に対して複数の方向から放射線を照射し、前記放射線検出器で放射線を検出して撮影された複数の投影画像を取得する取得工程と、
前記被写体の断層画像を、前記取得された複数の投影画像から再構成して生成する断層画像生成工程と、
前記複数の投影画像の各々の、前記被写体の画像を含む被写体領域と前記被写体の画像を含まない直接線領域とを分離するための複数の投影画像マスクを生成する投影画像マスク生成工程と、
前記断層画像の前記被写体領域と前記直接線領域とを分離するための断層画像マスクを、前記複数の投影画像マスクから再構成して生成する断層画像マスク生成工程と、
前記断層画像に前記断層画像マスクを適用してマスク処理を行うマスク処理工程と、
を備えた画像処理方法であって、
前記断層画像マスク生成工程において、前記断層画像生成工程により生成された複数の断層画像を、前記放射線照射部側の第1断層画像群と前記放射線検出器側の第2断層画像群とに分けたときの、前記第1断層画像群に含まれる複数の断層画像の各々に対応する複数の断層画像マスクを生成し、
前記マスク処理工程において、前記第2断層画像群に対してマスク処理を行う場合には、前記第2断層画像群に対する前記複数の断層画像マスクの対応順序を、前記第1断層画像群に対する前記複数の断層画像マスクの対応順序と逆にして各断層画像マスクを適用し、マスク処理を行う
画像処理方法。 - 放射線照射部を移動させながら放射線検出器と前記放射線照射部との間の被写体に対して複数の方向から放射線を照射し、前記放射線検出器で放射線を検出して撮影された複数の投影画像を取得する取得工程と、
前記被写体の断層画像を、前記取得された複数の投影画像から再構成して生成する断層画像生成工程と、
前記複数の投影画像の各々の、前記被写体の画像を含む被写体領域と前記被写体の画像を含まない直接線領域とを分離するための複数の投影画像マスクを生成する投影画像マスク生成工程と、
前記断層画像の前記被写体領域と前記直接線領域とを分離するための断層画像マスクを、前記複数の投影画像マスクから再構成して生成する断層画像マスク生成工程と、
前記断層画像に前記断層画像マスクを適用してマスク処理を行うマスク処理工程と、
を備えた画像処理方法であって、
前記断層画像マスク生成工程において、前記断層画像マスクの全領域のうち、前記複数の方向から照射される放射線の各々の照射領域が重なる領域を、前記投影画像マスクから再構成して生成する
画像処理方法。 - 放射線照射部を移動させながら放射線検出器と前記放射線照射部との間の被写体に対して複数の方向から放射線を照射し、前記放射線検出器で放射線を検出して撮影された複数の投影画像を取得する取得工程と、
前記被写体の断層画像を、前記取得された複数の投影画像から再構成して生成する断層画像生成工程と、
前記複数の投影画像の各々の、前記被写体の画像を含む被写体領域と前記被写体の画像を含まない直接線領域とを分離するための複数の投影画像マスクを生成する投影画像マスク生成工程と、
前記断層画像の前記被写体領域と前記直接線領域とを分離するための断層画像マスクを、前記複数の投影画像マスクから再構成して生成する断層画像マスク生成工程と、
前記断層画像に前記断層画像マスクを適用してマスク処理を行うマスク処理工程と、
を備えた画像処理方法であって、
前記断層画像マスク生成工程において、前記複数の投影画像マスクが被写体領域である部分を被写体領域とし、前記複数の投影画像マスクの少なくとも1つの投影画像マスクが直接線領域である部分を直接線領域として演算して断層画像マスクの再構成を行う
画像処理方法。
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