JP5665369B2 - 撮像装置 - Google Patents
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Description
また、本発明の別の撮像装置は、光源手段と、該光源手段からの光を被照射面に導く照明光学系と、標本ステージにより前記被照射面に載置される物体の像を形成する撮像光学系と、該撮像光学系の光軸と直交する同一面に配置され、前記撮像光学系を介して前記物体を撮像する複数の撮像素子を含む撮像部と、を有し、前記照明光学系は、前記光源手段からの光を前記被照射面における前記複数の撮像素子の有効受光領域に対応する領域のみに導く回折光学素子を含むことを特徴とする。
図1は、本発明の実施例1の透過型の顕微鏡を用いた撮像装置の概要図である。図1において、撮像装置1は光源(光源手段)10、照明光学系20、標本部30、撮像光学系40、撮像部50を有している。撮像装置1は、標本32を撮像素子53で撮像している。
X方向が 8.6X=8.6×24=206.4(mm)
Y方向が 5.8Y=5.8×36=208.8(mm)
となる。
本発明の顕微鏡を用いた撮像装置においては、遮光手段を用いずに複数の撮像素子のみに光束が入射するように照明光学系20を構成しても良い。照明光学系20で撮像素子の配列に合わせた照明を行っても良い。
また、回折光学素子22の回折効率や、結像光学系24・26の収差などにより、標本部30に入射する光が若干ボケる場合がある。その場合、実施例1で示した遮光手段60と組み合わせてもよい。図10は光源手段10からの光をコリメータ21で平行光とする。そして、回折光学素子22に入射させる。回折光学素子22は、中間像面27に複数の矩形を照明する面を形成する。結像光学系24・26は、中間像面27の光分布で標本32に照明している。このとき、光学系の収差の影響や、回折光学素子22の製造誤差等のために、標本32の照度分布は、例えば図11に示すようなぼけが発生している場合がある。その場合、標本32には、遮光手段60を配置し、ぼけによる不要光を遮光すればよい。そして、標本32から撮像光学系40を通った光は、撮像部50で撮像素子53にのみ光が来る。そうすることで、より確実に撮像に不要な光を抑制することができる。
31 標本ステージ 32 標本 33 検体 40 撮像光学系
50 撮像部 52 電気基盤 53 撮像素子 60 遮光手段
Claims (7)
- 光源手段と、
該光源手段からの光を被照射面に導く照明光学系と、
標本ステージにより前記被照射面に載置される物体の像を形成する撮像光学系と、
該撮像光学系の光軸と直交する同一面に配置され、前記撮像光学系を介して前記物体を撮像する複数の撮像素子を含む撮像部と、
前記複数の撮像素子の有効受光領域に入射する光が通過する複数の開口が設けられ、該複数の開口以外の領域が遮光部であって、前記撮像部における前記有効受光領域以外に入射する光を前記遮光部により遮光する遮光板と、
を有することを特徴とする撮像装置。 - 前記遮光板は、前記被照射面、前記撮像部の像面、及び前記被照射面と共役な面、の少なくとも1つに配置されていることを特徴する請求項1に記載の撮像装置。
- 前記撮像光学系の光軸に垂直な断面内において、前記被照射面、前記撮像部、及び前記遮光板、の少なくとも1つの位置を変えて、前記物体を複数回撮像することにより得られた複数の画像を合成する画像処理手段と、該画像処理手段により処理された画像を表示する画像表示手段と、を有することを特徴とする請求項1又は2の撮像装置。
- 前記画像処理手段により処理された前記画像を記憶する記憶手段を有することを特徴とする請求項3の撮像装置。
- 前記照明光学系は、前記被照射面における前記有効受光領域に対応する領域のみを照明することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項の撮像装置。
- 前記照明光学系は、前記光源手段からの光を前記被照射面における前記有効受光領域に対応する領域のみに導く回折光学素子を含むことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項の撮像装置。
- 光源手段と、
該光源手段からの光を被照射面に導く照明光学系と、
標本ステージにより前記被照射面に載置される物体の像を形成する撮像光学系と、
該撮像光学系の光軸と直交する同一面に配置され、前記撮像光学系を介して前記物体を撮像する複数の撮像素子を含む撮像部と、を有し、
前記照明光学系は、前記光源手段からの光を前記被照射面における前記複数の撮像素子の有効受光領域に対応する領域のみに導く回折光学素子を含むことを特徴とする撮像装置。
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