JP5659876B2 - Manufacturing method of semiconductor laser driving device - Google Patents

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Description

本発明は、保護素子を備えた半導体レーザ駆動装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor laser driving device including a protection element.

一般に、レーザダイオードをサージ電流から保護するためにパッケージ内に保護素子を備えた半導体レーザ装置がある(例えば、特許文献1)。また、半導体レーザ装置を光ディスクの書き込み等に用いる場合には、パルス駆動させるために高速応答性が求められることがある。   In general, there is a semiconductor laser device including a protective element in a package in order to protect a laser diode from a surge current (for example, Patent Document 1). Further, when the semiconductor laser device is used for writing on an optical disk, high-speed response may be required to drive the pulse.

特開平05-102605号公報Japanese Patent Laid-Open No. 05-102605

半導体レーザ装置内に保護素子を備えることによって、サージ電流により半導体レーザ素子が壊れるのを防ぐことができる。しかし、保護素子を備える半導体レーザ装置は静電容量が増加する為、半導体レーザ素子の応答特性が低下するという問題がある。
そこで本願では、半導体レーザ素子のサージ電流からの保護と高い応答特性を両立する半導体レーザ駆動装置の製造方法を提供することを目的とする。
By providing the protective element in the semiconductor laser device, it is possible to prevent the semiconductor laser element from being broken by a surge current. However, the semiconductor laser device provided with the protection element has a problem that the response characteristic of the semiconductor laser element deteriorates because the capacitance increases.
Accordingly, an object of the present application is to provide a method of manufacturing a semiconductor laser driving device that achieves both protection from surge current of the semiconductor laser element and high response characteristics.

実施形態に係る半導体レーザ駆動装置の製造方法は、半導体レーザ素子と保護素子とを備える半導体レーザ装置をレーザ駆動回路に電気的に接続する工程と、前記保護素子を電気的に絶縁する保護素子絶縁工程とを順に備える。   A method of manufacturing a semiconductor laser driving device according to an embodiment includes a step of electrically connecting a semiconductor laser device including a semiconductor laser element and a protection element to a laser driving circuit, and protection element insulation for electrically insulating the protection element. Steps.

本願の半導体レーザ駆動装置の製造方法によれば、半導体レーザ素子のサージ電流からの保護と高い応答特性を両立することができる。   According to the manufacturing method of the semiconductor laser driving device of the present application, it is possible to achieve both protection from surge current and high response characteristics of the semiconductor laser element.

実施形態の半導体レーザ装置の構造を説明するための概略斜視図である。It is a schematic perspective view for demonstrating the structure of the semiconductor laser apparatus of embodiment. 実施形態の半導体レーザ駆動装置の製造方法を説明するための回路図である。It is a circuit diagram for demonstrating the manufacturing method of the semiconductor laser drive device of embodiment. 別の実施形態の半導体レーザ装置の構造を説明するための概略平面図である。It is a schematic plan view for demonstrating the structure of the semiconductor laser apparatus of another embodiment. 別の実施形態の半導体レーザ装置の構造を説明するための要部の概略平面図である。It is a schematic plan view of the principal part for demonstrating the structure of the semiconductor laser apparatus of another embodiment. 別の実施形態の半導体レーザ装置の構造を説明するための要部の概略平面図である。It is a schematic plan view of the principal part for demonstrating the structure of the semiconductor laser apparatus of another embodiment.

以下に図面を参照しながら実施形態を説明する。ただし、以下に示す形態は、本発明の技術思想を具体化するための半導体レーザ駆動装置の製造方法を例示するものであって、本発明を以下に限定するものではない。また、実施形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、特定的な記載がない限り、本発明の範囲をそれのみに限定する趣旨ではなく、単なる例示にすぎない。なお、各図面が示す部材の大きさや位置関係等は、説明を明確にするために誇張していることがある。   Embodiments will be described below with reference to the drawings. However, the form shown below illustrates the manufacturing method of the semiconductor laser drive device for actualizing the technical idea of this invention, Comprising: This invention is not limited to the following. In addition, the dimensions, materials, shapes, relative arrangements, and the like of the components described in the embodiments are not intended to limit the scope of the present invention only to the mere illustration unless otherwise specified. Only. Note that the size, positional relationship, and the like of the members shown in each drawing may be exaggerated for clarity of explanation.

(実施形態1)
図1は、実施形態の半導体レーザ装置の斜視図である。
実施形態の半導体レーザ装置1では、ステムのヒートシンク2b上にサブマウント6を介して半導体レーザ素子3が配置されている。半導体レーザ素子3は、上方にレーザ光を出射する。その半導体レーザ素子の後方であって、ステムのベース部2a上に保護素子4が配置されている。また、ステムのベース部2aを貫通するようにリード(21、22、23)が設けられている。半導体レーザ素子3はワイヤ5a及び5bによって、保護素子4はワイヤ5c及び5dによって、第1のリード21及び第2のリード22と電気的に接続されている。また、説明の便宜上部分的に図示しているが、半導体レーザ装置は、半導体レーザ素子3及び保護素子4を覆うようにキャップ7で封止されている。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a perspective view of the semiconductor laser device of the embodiment.
In the semiconductor laser device 1 of the embodiment, the semiconductor laser element 3 is arranged on the stem heat sink 2b via the submount 6. The semiconductor laser element 3 emits laser light upward. A protective element 4 is arranged behind the semiconductor laser element and on the base portion 2a of the stem. Leads (21, 22, 23) are provided so as to penetrate the base portion 2a of the stem. The semiconductor laser element 3 is electrically connected to the first lead 21 and the second lead 22 by wires 5a and 5b, and the protective element 4 is electrically connected by wires 5c and 5d. Further, although partially illustrated for convenience of explanation, the semiconductor laser device is sealed with a cap 7 so as to cover the semiconductor laser element 3 and the protection element 4.

本実施形態の半導体レーザ駆動装置の製造方法を説明する。まず、半導体レーザ装置を組み立てる工程である。
最初に、半導体レーザ素子3をステムに実装する。半導体レーザ素子の実装は、半導体レーザ素子とステムの接着面を合わせた後、所定の温度及び圧力下で保持することによって接着することができ、具体的には、熱圧着法、ダイレクトボンディング法等が挙げられる。半導体レーザ素子とステムの接合材としては、250℃以上の高融点材料、Au系低融点半田材(例えばAu/Sn、Ni/Au、Ni/Pd/Au等)、Ag系接合材料、接合樹脂を用いることができる。
A method for manufacturing the semiconductor laser driving device of this embodiment will be described. First, a process for assembling a semiconductor laser device.
First, the semiconductor laser element 3 is mounted on the stem. The semiconductor laser device can be mounted by aligning the bonding surfaces of the semiconductor laser device and the stem and then holding them under a predetermined temperature and pressure. Specifically, the thermocompression bonding method, the direct bonding method, etc. Is mentioned. As a bonding material between the semiconductor laser element and the stem, a high melting point material of 250 ° C. or higher, an Au-based low melting point solder material (for example, Au / Sn, Ni / Au, Ni / Pd / Au, etc.), an Ag-based bonding material, a bonding resin Can be used.

半導体レーザ素子は、半導体レーザ素子の半導体層側をステムに実装したフェイスダウン実装、半導体レーザ素子の基板側をステムに実装したフェイスアップ実装等いずれの構造であってもよい。   The semiconductor laser element may have any structure such as face-down mounting in which the semiconductor layer side of the semiconductor laser element is mounted on the stem, and face-up mounting in which the substrate side of the semiconductor laser element is mounted on the stem.

半導体レーザ素子3は、電圧が印加されてしきい値以上の電流が流れると、活性層及びその付近でレーザ発振が起こり、生成されたレーザ光が導波路領域を通って外部に放射されるものである。また、その半導体材料は、III−V族、II−VI族等の化合物を用いたもので、いずれの波長のレーザ光を出射するものであってもよい。例えば、GaNをはじめとする窒化物半導体からなる半導体レーザ素子を用いることができる。半導体レーザ素子の構造としては、例えば、導電性又は絶縁性の基板上にn型半導体層、活性層及びp型半導体層の順に積層され、半導体層の表面に絶縁膜や電極が形成されたものが挙げられる。また、半導体レーザ装置内には単数又は複数の半導体レーザ素子を有していてもよい。   In the semiconductor laser element 3, when a voltage is applied and a current exceeding a threshold value flows, laser oscillation occurs in the active layer and its vicinity, and the generated laser light is emitted to the outside through the waveguide region. It is. Further, the semiconductor material is a compound using a compound such as III-V group or II-VI group, and may emit laser light of any wavelength. For example, a semiconductor laser element made of a nitride semiconductor such as GaN can be used. As a structure of the semiconductor laser element, for example, an n-type semiconductor layer, an active layer, and a p-type semiconductor layer are sequentially stacked on a conductive or insulating substrate, and an insulating film or an electrode is formed on the surface of the semiconductor layer. Is mentioned. Further, the semiconductor laser device may have one or a plurality of semiconductor laser elements.

ステムは、半導体レーザ素子で発生する熱を効率的に外部に放出するためにも利用されるため、比較的熱伝導度が高い材料、例えば、20W/mK程度以上の材料によって形成されることが好ましい。具体的な材料としては、Cu、Al、Fe、Ni、Mo、CuW、CuMo等の金属や、AlN、SiC、アルミナなどのセラミックが挙げられる。これらの金属またはセラミックを母材とし、その表面の全面、または一部にAu、Ag、Al等でめっきが施されることで導電性が確保されていてもよい。なかでも、表面が金めっきされた銅又は銅合金により形成されているものが好ましい。   Since the stem is also used to efficiently release the heat generated in the semiconductor laser element to the outside, the stem may be formed of a material having a relatively high thermal conductivity, for example, a material of about 20 W / mK or more. preferable. Specific materials include metals such as Cu, Al, Fe, Ni, Mo, CuW, and CuMo, and ceramics such as AlN, SiC, and alumina. Conductivity may be ensured by using these metals or ceramics as a base material and plating the whole or part of the surface with Au, Ag, Al or the like. Especially, what is formed with the copper or copper alloy by which the surface was gold-plated is preferable.

ステムの形状、大きさは特に限定されるものではなく、半導体レーザ装置の最終的に望まれる形状及び大きさ等によって、適宜調整することができる。平面形状としては、円形、楕円形、矩形等の多角形又はこれらに近似する形状のものを用いることができる。例えば、3〜10mm程度の直径の円形で平板状のものが挙げられる。その厚みとしては、0.5〜5mm程度であることが好ましい。また、ステムは平板状のものには限定されず、その表面に凹部及び/又は凸部が設けられていてもよい。例えば半導体レーザ素子及び/又は保護素子が載置される領域に凹部又は凸部が設けられているものが挙げられる。具体的には、図1に示すように、略円形で平板状のベース部2aに、半導体レーザ素子を載置するための凸部状のヒートシンク2bを備えた形状が挙げられる。
また、ステムは外部電源と接続するためのリードが設けられていてもよい。リードとしては、ステムと同一の材料で形成されステムを貫通するように低融点ガラスで接着されたものなどが挙げられる。また、ステムの表面や内部に配線パターンを有していてもよい。
The shape and size of the stem are not particularly limited, and can be appropriately adjusted according to the final desired shape and size of the semiconductor laser device. As the planar shape, a circular shape, an elliptical shape, a polygonal shape such as a rectangle, or a shape similar to these can be used. For example, a circular and flat plate having a diameter of about 3 to 10 mm can be used. The thickness is preferably about 0.5 to 5 mm. Further, the stem is not limited to a flat plate shape, and a concave portion and / or a convex portion may be provided on the surface thereof. For example, the thing in which the recessed part or the convex part is provided in the area | region in which a semiconductor laser element and / or a protection element are mounted is mentioned. Specifically, as shown in FIG. 1, a shape in which a convex heat sink 2b for mounting a semiconductor laser element is provided on a substantially circular and flat base portion 2a can be mentioned.
The stem may be provided with a lead for connecting to an external power source. Examples of the lead include those formed of the same material as the stem and bonded with low-melting glass so as to penetrate the stem. Moreover, you may have a wiring pattern in the surface or inside of a stem.

次に、保護素子4をステムに実装する。保護素子の実装は、半導体レーザ素子の実装と同様の方法で行うことができる。保護素子とステムの接着面を合わせた後、所定の温度及び圧力下で保持することによって接着することができる。保護素子とステムの接合材としては、250℃以上の高融点材料、Au系低融点半田材(例えばAu/Sn、Ni/Au、Ni/Pd/Au等)、Ag系接合材料、接合樹脂を用いることができる。   Next, the protection element 4 is mounted on the stem. The protection element can be mounted by the same method as the mounting of the semiconductor laser element. After the bonding surfaces of the protective element and the stem are brought together, they can be bonded by being held under a predetermined temperature and pressure. As a bonding material for the protective element and the stem, a high melting point material of 250 ° C. or higher, an Au-based low melting point solder material (for example, Au / Sn, Ni / Au, Ni / Pd / Au, etc.), an Ag-based bonding material, and a bonding resin are used. Can be used.

保護素子を実装する位置は、ステムのベース部上には限定されない。例えば、半導体レーザ素子と同様に、ステムのヒートシンク上に配置してもよい。詳細は後述するが、保護素子はサブマウントを介してステムに実装されていてもよい。また、半導体レーザ素子がサブマウントを介してステムに実装されている場合には、保護素子を同じサブマウント上に配置してもよいし、異なるサブマウント上に配置してもよい。   The position where the protective element is mounted is not limited to the base portion of the stem. For example, it may be arranged on the heat sink of the stem as in the semiconductor laser element. Although details will be described later, the protection element may be mounted on the stem via a submount. When the semiconductor laser element is mounted on the stem via the submount, the protective element may be disposed on the same submount or on a different submount.

保護素子は、半導体レーザ素子をサージ電流による電気的破壊から保護するための部材である。保護素子は、半導体レーザ素子と逆方向に並列に接続され、半導体レーザ素子に逆方向に電圧がかかった場合や、順方向に過度の電圧がかかった場合に、保護素子に電流が流れて半導体レーザ素子には電流が流れないようにすることで半導体レーザ装置が故障するのを防止することができる。保護素子としては、例えばSiからなるツェナーダイオードを用いることができる。   The protection element is a member for protecting the semiconductor laser element from electrical breakdown due to a surge current. The protective element is connected in parallel to the semiconductor laser element in the opposite direction. When a voltage is applied to the semiconductor laser element in the reverse direction or when an excessive voltage is applied in the forward direction, a current flows through the protective element and the semiconductor laser element. By preventing current from flowing through the laser element, it is possible to prevent the semiconductor laser device from failing. For example, a Zener diode made of Si can be used as the protective element.

次に、半導体レーザ素子及び保護素子とリードをワイヤで接続し半導体レーザ装置を得る。
実施形態の半導体レーザ装置では、半導体レーザ素子の陽極側がワイヤ5aによって第1のリード21と接続され、陰極側がワイヤ5bによって第2のリード22と接続されている。また、保護素子の陽極側がワイヤ5cによって第2のリード22と接続され、陰極側がワイヤ5dによって第1のリード21と接続されている。
ワイヤは、通常用いられる材料を使用することができる。具体的には、Au、Ag、Cu等の材料の直径10〜50μm程度のものを用いることができる。その長さは、接続する部材間の距離によって適宜設定することができる。また、接続する部材間において1本で接続されることには限定されず、複数本用いて接続してもよい。
Next, a semiconductor laser device is obtained by connecting the semiconductor laser element, the protection element, and the leads with wires.
In the semiconductor laser device of the embodiment, the anode side of the semiconductor laser element is connected to the first lead 21 by the wire 5a, and the cathode side is connected to the second lead 22 by the wire 5b. The anode side of the protective element is connected to the second lead 22 by a wire 5c, and the cathode side is connected to the first lead 21 by a wire 5d.
As the wire, a commonly used material can be used. Specifically, a material such as Au, Ag, or Cu having a diameter of about 10 to 50 μm can be used. The length can be appropriately set according to the distance between the members to be connected. Moreover, it is not limited to connecting by one between the members to connect, You may connect using two or more.

以下、その他の工程について説明する。
半導体レーザ素子及び保護素子は、サブマウントを介してステムに実装されてもよい。サブマウントを用いる場合には、半導体レーザ素子をサブマウント上に載置して接着し、その後サブマウントをステムに接着する方法、ステム上にサブマウントを載置して接着し、その後半導体レーザ素子をサブマウントに接着する方法等が挙げられる。半導体レーザ素子のサブマウントへの実装及びサブマウントのステムへの実装も半導体レーザ素子のステムへの実装と同様にして行うことができる。保護素子についても同様のことが言える。また、半導体レーザ素子及び/又は保護素子を載置するための部材であるステムとサブマウントを包括して「支持体」と記載することがある。
Hereinafter, other steps will be described.
The semiconductor laser element and the protection element may be mounted on the stem via a submount. When a submount is used, the semiconductor laser element is mounted on the submount and bonded, and then the submount is bonded to the stem. The submount is mounted and bonded on the stem, and then the semiconductor laser element is mounted. And a method of adhering to the submount. The mounting of the semiconductor laser element on the submount and the mounting of the submount on the stem can be performed in the same manner as the mounting of the semiconductor laser element on the stem. The same can be said for the protective element. In addition, a stem and a submount, which are members for mounting the semiconductor laser element and / or the protection element, may be collectively referred to as a “support”.

サブマウントは放熱のために熱伝導性の高い部材が用いられることが好ましく、具体的には、AlN、CuW,ダイヤモンド,SiC、セラミックス等が挙げられる。その表面にTi/Pt/Au、Ni/Au等の金属の薄膜が形成され導電性が確保されていることが好ましい。   For the submount, a member having high thermal conductivity is preferably used for heat dissipation, and specific examples include AlN, CuW, diamond, SiC, ceramics, and the like. It is preferable that a thin film of metal such as Ti / Pt / Au or Ni / Au is formed on the surface to ensure conductivity.

また、本実施形態の半導体レーザ装置1は、半導体レーザ素子3及び保護素子4を被覆するようにキャップ7がステムに取り付けられ封止されていてもよい。発振波長が320〜530nm程度の短波長の半導体材料(例えば、窒化物半導体)を用いた半導体レーザ素子を用いる場合には、有機物や水分を集塵しやすいため、キャップを設けることでレーザ装置内の気密性を高め、防水性、防塵性を高めることができ好ましい。   In the semiconductor laser device 1 of this embodiment, the cap 7 may be attached to the stem and sealed so as to cover the semiconductor laser element 3 and the protection element 4. When a semiconductor laser element using a semiconductor material with a short wavelength of about 320 to 530 nm (for example, a nitride semiconductor) is used, it is easy to collect organic matter and moisture. This is preferable because it can improve the airtightness and improve the waterproofness and dustproofness.

また、半導体レーザ装置をキャップにより封止する場合は、抵抗溶接又は半田付け等でステムに接着することができる。封止する際は、露点−10℃以下の乾燥した大気中や窒素雰囲気中で封止することが好ましい。また、各部材をアッシング若しくは熱処理等の方法を用いて前処理し、各部材に付着した水分や有機物の除去を行ってもよい。   When the semiconductor laser device is sealed with a cap, it can be adhered to the stem by resistance welding or soldering. When sealing, it is preferable to seal in dry air or nitrogen atmosphere having a dew point of −10 ° C. or lower. In addition, each member may be pretreated using a method such as ashing or heat treatment to remove moisture and organic substances attached to each member.

キャップの形状は、有底の筒型(円柱又は多角形柱等)、錐台型(円錐台又は多角形錐台等)又はドーム型及びこれらの変形形状等が挙げられる。キャップは、熱伝導率が高い材料で形成されていることが好ましく、例えば、Ni、Co、Fe、Ni−Fe合金、コバール、真鍮等の材料を用いることができる。
キャップの上面や側面のレーザ光の光出射部位に対応する部分には、レーザ光を通過させる開口部を有している。具体的には、図1に示すように、ステムに接着されたキャップの頂部に開口部を有し、開口部にはレーザ光を取り出すための透光性部材が支持されているものを用いることができる。透光性部材は、例えば、ガラス、サファイア、セラミックス、樹脂等により形成することができる。また、その表面に、レーザ光を好適に透過させることができるように光透過膜が設けられていてもよい。また、透光性部材は、波長変換部材、光拡散材等を含有していてもよい。
Examples of the shape of the cap include a bottomed cylindrical shape (such as a cylinder or a polygonal column), a truncated cone shape (such as a truncated cone or a polygonal truncated cone), a dome shape, and a deformed shape thereof. The cap is preferably formed of a material having high thermal conductivity. For example, a material such as Ni, Co, Fe, Ni—Fe alloy, Kovar, or brass can be used.
A portion corresponding to the laser light emission part on the upper surface or side surface of the cap has an opening through which the laser light passes. Specifically, as shown in FIG. 1, a cap having an opening at the top of the cap bonded to the stem, and a transparent member for extracting laser light being supported in the opening, should be used. Can do. The translucent member can be formed of, for example, glass, sapphire, ceramics, resin, or the like. Further, a light transmissive film may be provided on the surface so that the laser light can be suitably transmitted. Moreover, the translucent member may contain the wavelength conversion member, the light-diffusion material, etc.

また、半導体レーザ素子の出力をモニタするために所望の位置にフォトダイオードを配置してもよい。   Further, a photodiode may be arranged at a desired position in order to monitor the output of the semiconductor laser element.

続いて、図2(a)に示すように、得られた半導体レーザ装置に電流を供給するためにレーザ駆動回路に接続する。
半導体レーザ装置において保護素子が電気的に接続されていると静電容量が増加する為、保護素子を備えない半導体レーザ装置と比較すると応答特性が悪い。しかし、この後の工程で、保護素子を電気的に絶縁することによって、半導体レーザ素子に電流を流しても保護素子には電流が流れないので、回路駆動時の応答性を向上させることができる。
また、レーザ駆動回路には、一定以上の電流や電圧が流れないようにするためにサージ保護回路が組み込まれていることが好ましい。レーザ駆動回路は、摩擦、周囲の装置や治具の帯電、取り扱う人体に由来する静電気等によってサージ電流が流れて半導体レーザ素子が故障してしまうことが考えられるが、サージ保護回路が組み込まれていることによって、半導体レーザ素子が壊れるのを防ぐことができる。サージ保護回路としては公知のものを用いることができ、例えばサージ電流をバイパスさせる回路を別途設ける方法を用いることができる。
このようなサージ保護回路を備えるレーザ駆動回路に組み込まれた半導体レーザ素子は、サージ保護回路によって保護されるので半導体レーザ装置内の保護素子は不要となる。
つまり、実施形態の製造方法によれば、半導体レーザ装置がレーザ駆動回路に組み込まれるまでの間は、半導体レーザ装置内に備えられた保護素子によってサージ電流から半導体レーザ素子を保護することができ、半導体レーザ装置がレーザ駆動回路に組み込まれ保護素子が絶縁された後には、半導体レーザ装置内の保護素子は電気的に絶縁されているので、応答特性は保護素子を備えない半導体レーザ装置と同等とすることができ、サージ電流からの保護と応答特性の維持を両立させた半導体レーザ駆動装置を製造することができる。さらに、レーザ駆動回路にサージ保護回路を備えることによって、半導体レーザ装置がレーザ駆動回路に組み込まれ、保護素子が絶縁された後にも半導体レーザ素子をサージ電流から保護することができる。
Subsequently, as shown in FIG. 2A, in order to supply current to the obtained semiconductor laser device, it is connected to a laser driving circuit.
When the protection element is electrically connected in the semiconductor laser device, the capacitance increases, so that the response characteristics are poor as compared with the semiconductor laser device not provided with the protection element. However, by electrically insulating the protection element in the subsequent steps, no current flows through the protection element even when a current is passed through the semiconductor laser element, so that the responsiveness during circuit driving can be improved. .
Further, it is preferable that a surge protection circuit is incorporated in the laser drive circuit so that a current or voltage exceeding a certain level does not flow. The laser drive circuit may cause a surge current to flow due to friction, charging of surrounding devices and jigs, static electricity derived from the handling human body, etc. Therefore, it is possible to prevent the semiconductor laser element from being broken. A known circuit can be used as the surge protection circuit. For example, a method of separately providing a circuit for bypassing the surge current can be used.
Since the semiconductor laser element incorporated in the laser driving circuit having such a surge protection circuit is protected by the surge protection circuit, the protection element in the semiconductor laser device is not necessary.
That is, according to the manufacturing method of the embodiment, the semiconductor laser device can be protected from the surge current by the protective element provided in the semiconductor laser device until the semiconductor laser device is incorporated in the laser drive circuit. After the semiconductor laser device is incorporated in the laser drive circuit and the protective element is insulated, the protective element in the semiconductor laser device is electrically insulated, so that the response characteristic is the same as that of the semiconductor laser device that does not include the protective element. Therefore, it is possible to manufacture a semiconductor laser driving device that achieves both protection from surge current and maintenance of response characteristics. Further, by providing the laser drive circuit with a surge protection circuit, the semiconductor laser device can be protected from surge current even after the semiconductor laser device is incorporated in the laser drive circuit and the protection element is insulated.

最後に保護素子を絶縁し、図2(b)に示すような回路図の半導体レーザ駆動装置を得る。保護素子とレーザ駆動回路を接続している半導体レーザ装置内のワイヤを切断することによって保護素子をレーザ駆動回路から絶縁することができる。保護素子とレーザ駆動回路を接続しているワイヤを切断するには、電流を印加すればよい。本実施形態では、保護素子と接続されている2本のワイヤ(ワイヤ5c及びワイヤ5d)のうち、電流経路の中で最も抵抗の高い箇所で熱が発生することによりをこのワイヤが切断される(以下、切断されるワイヤを第1のワイヤと記載し、保護素子と接続され切断されないワイヤを第2のワイヤと記載する)。また、第1のワイヤ及び第2のワイヤの材料が同じ場合には、第1のワイヤの直径及び長さによってワイヤの切断する電流値が決定される。例えば、第1のワイヤとしてAuからなる直径20μmのものを用いる場合には、700mA程度の電流を印加することでワイヤを切断することができる。この工程においては、半導体レーザ素子の逆方向耐圧よりも低い電圧を印加することで半導体レーザ素子の劣化を抑制することができる。   Finally, the protective element is insulated to obtain a semiconductor laser driving device having a circuit diagram as shown in FIG. The protection element can be insulated from the laser drive circuit by cutting the wire in the semiconductor laser device connecting the protection element and the laser drive circuit. In order to cut the wire connecting the protective element and the laser driving circuit, it is sufficient to apply a current. In the present embodiment, of the two wires (wire 5c and wire 5d) connected to the protection element, this wire is cut when heat is generated at a portion having the highest resistance in the current path. (Hereinafter, the wire to be cut is referred to as a first wire, and the wire that is connected to the protective element and is not cut is referred to as a second wire). When the materials of the first wire and the second wire are the same, the current value at which the wire is cut is determined by the diameter and length of the first wire. For example, when the first wire made of Au and having a diameter of 20 μm is used, the wire can be cut by applying a current of about 700 mA. In this step, deterioration of the semiconductor laser element can be suppressed by applying a voltage lower than the reverse breakdown voltage of the semiconductor laser element.

具体的には、図1のように接続された半導体レーザ装置では、ワイヤ5c及びワイヤ5dの材料及び直径が同じである場合には、より長いワイヤ5dが切断される。
つまり、保護素子が第1のワイヤ(5d)及び第2のワイヤ(5c)によってレーザ駆動回路と接続され、第1のワイヤ(5d)及び第2のワイヤ(5c)の直径が同じ場合には、第1のワイヤを第2のワイヤよりも長くすることで第1のワイヤが切断される。
また、第1のワイヤ(5d)及び第2のワイヤ(5c)の材料及び直径が同じ場合には、第2のワイヤ(5c)を複数本設けることによっても第1のワイヤ(5d)を切断することができる。
あるいは、第1のワイヤ(5d)及び第2のワイヤ(5c)の材料及び長さが同じ場合には、第1のワイヤ(5d)は第2のワイヤ(5c)よりも直径の小さいものを用いることで第1のワイヤ(5d)を切断することができる。
Specifically, in the semiconductor laser device connected as shown in FIG. 1, when the material and the diameter of the wire 5c and the wire 5d are the same, the longer wire 5d is cut.
That is, when the protective element is connected to the laser driving circuit by the first wire (5d) and the second wire (5c), and the diameters of the first wire (5d) and the second wire (5c) are the same. The first wire is cut by making the first wire longer than the second wire.
Further, when the materials and diameters of the first wire (5d) and the second wire (5c) are the same, the first wire (5d) is cut by providing a plurality of second wires (5c). can do.
Alternatively, when the material and length of the first wire (5d) and the second wire (5c) are the same, the first wire (5d) is smaller in diameter than the second wire (5c). By using it, the first wire (5d) can be cut.

(実施形態2)
実施形態2の半導体レーザ装置の平面図を図3Aに示す。図3Bはサブマウントの拡大平面図である。本実施形態では、半導体レーザ素子3と保護素子4とが同一のサブマウント6上に配置されている。
本実施形態の半導体レーザ装置では、半導体レーザ素子の陽極側がワイヤ5eによって第1のリード21と接続され、陰極側がワイヤ5fによって第2のリード22と接続されている。また、保護素子の陽極側は、半導体レーザ素子と同じワイヤ5fによって第2のリード22と接続され、陰極側はワイヤ5gによって第1のリード21と接続されている。
(Embodiment 2)
A plan view of the semiconductor laser device of Embodiment 2 is shown in FIG. 3A. FIG. 3B is an enlarged plan view of the submount. In the present embodiment, the semiconductor laser element 3 and the protection element 4 are disposed on the same submount 6.
In the semiconductor laser device of this embodiment, the anode side of the semiconductor laser element is connected to the first lead 21 by the wire 5e, and the cathode side is connected to the second lead 22 by the wire 5f. The anode side of the protection element is connected to the second lead 22 by the same wire 5f as the semiconductor laser element, and the cathode side is connected to the first lead 21 by the wire 5g.

本実施形態でも、実施形態1と同様にして半導体レーザ装置とレーザ駆動回路とを電気的に接続した後に、保護素子と接続されているワイヤを切断することによって保護素子を絶縁し、半導体レーザ素子のサージ電流からの保護と、応答特性悪化の抑制を両立させることができる。本実施形態では、保護素子とレーザ駆動回路を接続する2本のワイヤ(ワイヤ5f及びワイヤ5g)のうち、ワイヤ5fは、半導体レーザ素子をレーザ駆動回路と電気的に接続する役割があるので、ワイヤ5gを切断することによって保護素子を絶縁する。つまり、保護素子と直接接続されているワイヤ5gを切断すればよい。   Also in this embodiment, the semiconductor laser device and the laser drive circuit are electrically connected in the same manner as in the first embodiment, and then the protective element is insulated by cutting the wire connected to the protective element. It is possible to achieve both protection from surge current and suppression of deterioration of response characteristics. In the present embodiment, of the two wires (the wire 5f and the wire 5g) that connect the protection element and the laser drive circuit, the wire 5f serves to electrically connect the semiconductor laser element to the laser drive circuit. The protective element is insulated by cutting the wire 5g. That is, the wire 5g directly connected to the protection element may be cut.

具体的には、ワイヤ5gを切断するためには、ワイヤ5fとワイヤ5gに同じ材料及び直径のワイヤを用いた場合、ワイヤ5gをワイヤ5fよりも長くすることでワイヤ5gを切断することができる。あるいは、ワイヤ5fで図示されるリード22とサブマウントとを接続するワイヤの本数を増やしても同様にワイヤ5gを切断することができる。また、直径の異なるワイヤを用いる場合には、ワイヤ5fの直径をワイヤ5gの直径よりも太くすることでワイヤ5gを切断することができる。   Specifically, in order to cut the wire 5g, when wires of the same material and diameter are used for the wire 5f and the wire 5g, the wire 5g can be cut by making the wire 5g longer than the wire 5f. . Alternatively, the wire 5g can be similarly cut even if the number of wires connecting the lead 22 and the submount illustrated by the wire 5f is increased. When wires having different diameters are used, the wire 5g can be cut by making the diameter of the wire 5f larger than the diameter of the wire 5g.

このような半導体レーザ装置を用いると、実施形態1と比較して、ステムに実装する部材がサブマウント1つのみになるので、工程を簡略化し、歩留まりを向上させることができる。さらに、半導体レーザ素子の陰極側のワイヤと保護素子の陽極側のワイヤを兼用することができるので、使用するワイヤの本数が減ることによっても工程を削減することができる。
また、本実施形態は、サブマウントを用いた半導体レーザ装置を用いることに限定されず支持体上で同様の形態とすることが可能である。
When such a semiconductor laser device is used, the member to be mounted on the stem is only one submount as compared with the first embodiment, so that the process can be simplified and the yield can be improved. Furthermore, since the wire on the cathode side of the semiconductor laser element and the wire on the anode side of the protective element can be used together, the process can be reduced even if the number of wires used is reduced.
In addition, the present embodiment is not limited to using a semiconductor laser device using a submount, and can have the same form on a support.

(実施形態3)
実施形態3の半導体レーザ装置のサブマウントの拡大平面図を図4に示す。本実施形態では、実施形態2と同様に半導体レーザ素子3と保護素子4とが同一のサブマウント6上に配置され、ワイヤ(5e,5f,5g)によってリード(図示しない)と接続されている。
(Embodiment 3)
FIG. 4 shows an enlarged plan view of the submount of the semiconductor laser device according to the third embodiment. In the present embodiment, the semiconductor laser element 3 and the protection element 4 are arranged on the same submount 6 as in the second embodiment, and are connected to leads (not shown) by wires (5e, 5f, 5g). .

また、サブマウント6はその表面に導電性が確保されている。本実施形態は、サブマウントの表面に部分的に絶縁部Y1及びY2が形成されている点で実施形態2と異なる。例えば、図4に示すように、絶縁部Y1及びY2が設けられ、絶縁部Y1及びY2に挟まれることによって電流の経路が狭められた導電部Xが設けられている。
半導体レーザ装置に電流を印加した際、ワイヤ5f、保護素子4、ワイヤ5gという経路で電流が流れるが、絶縁部及び導電部は、ワイヤ5fと保護素子4の間あるいは保護素子4とワイヤ5gの間に形成されている。
このようなサブマウントの製造方法としては、サブマウントの母材に所望の絶縁部の形状のマスクを設けて上述したような金属の薄膜を設けることで表面に導電部を形成すればよい。
The submount 6 has conductivity on the surface thereof. The present embodiment is different from the second embodiment in that insulating portions Y1 and Y2 are partially formed on the surface of the submount. For example, as shown in FIG. 4, insulating portions Y1 and Y2 are provided, and a conductive portion X in which a current path is narrowed by being sandwiched between the insulating portions Y1 and Y2 is provided.
When a current is applied to the semiconductor laser device, a current flows through a path of the wire 5f, the protection element 4, and the wire 5g. It is formed between.
As a method of manufacturing such a submount, a conductive portion may be formed on the surface by providing a mask having a desired insulating portion shape on the base material of the submount and providing a metal thin film as described above.

本実施形態では、他の実施形態と同様にして半導体レーザ装置とレーザ駆動回路とを電気的に接続した後に、絶縁部Y1及びY2の間を通る導電部Xを破断することによって保護素子を絶縁し、半導体レーザ素子のサージ電流からの保護と、応答特性悪化の抑制を両立させることができる。   In the present embodiment, after electrically connecting the semiconductor laser device and the laser driving circuit in the same manner as in the other embodiments, the protective element is insulated by breaking the conductive portion X passing between the insulating portions Y1 and Y2. Thus, it is possible to achieve both protection from the surge current of the semiconductor laser element and suppression of deterioration in response characteristics.

他の実施形態と同様に、電流経路の中で最も抵抗の高い箇所で熱が発生することにより導電部を切断し、保護素子を絶縁することができる。導電部Xを破断するためには、導電部の幅及び長さを調整すればよい。具体的には、導電部Xの幅を10〜100μm程度、長さを30〜300μm程度とすることで導電部Xを破断することができる。例えば、導電部の材料がTi/Pt/Au(厚みが0.1μm/0.2μm/0.6μm)からなり、導電部の幅が50μm、長さが120μmである場合には、500mA程度の電流を印加することで導電部を切断することができる。このとき、ワイヤ5gは、600mA以上の電流が印加できることが好ましい。具体的には、ワイヤの直径20μm以上で、長さが1000μm以下とすればよい。   As in the other embodiments, heat is generated at a location with the highest resistance in the current path, whereby the conductive portion can be cut and the protection element can be insulated. In order to break the conductive part X, the width and length of the conductive part may be adjusted. Specifically, the conductive portion X can be broken by setting the width of the conductive portion X to about 10 to 100 μm and the length to about 30 to 300 μm. For example, when the material of the conductive part is Ti / Pt / Au (thickness is 0.1 μm / 0.2 μm / 0.6 μm), the width of the conductive part is 50 μm, and the length is 120 μm, the current is about 500 mA. The conductive portion can be cut by applying a current. At this time, it is preferable that a current of 600 mA or more can be applied to the wire 5g. Specifically, the wire may have a diameter of 20 μm or more and a length of 1000 μm or less.

このような半導体レーザ装置を用いると、所望の位置で保護素子を絶縁することが可能になり、確実に保護素子が絶縁されているかどうかを確認することが容易になる。詳細に説明すると、ワイヤを破断させる場合には、ワイヤは通常その全長にわたって略同じ太さなので、保護素子絶縁工程の前に第1のワイヤ中のどの位置で破断されるのかを特定することは困難である。しかし本実施形態では、サブマウントに所望のパターンを設けて導電部を形成することで、破断位置をある程度特定することが可能になる。さらに、サブマウント上に設けられた導電部を破断するので、破断時の飛び散りが少なく、半導体レーザ装置内の汚染を抑制することができる。
また本実施形態はサブマウントを用いた半導体レーザ装置を用いることに限定されず、支持体上で同様の形態とすることが可能である。
When such a semiconductor laser device is used, it becomes possible to insulate the protective element at a desired position, and it is easy to confirm whether or not the protective element is insulated reliably. In detail, when breaking a wire, the wire is usually about the same thickness over its entire length, so identifying where in the first wire it will break before the protective element insulation process is Have difficulty. However, in the present embodiment, the fracture position can be specified to some extent by forming a conductive pattern by providing a desired pattern on the submount. Furthermore, since the conductive portion provided on the submount is broken, there is little scattering at the time of breakage, and contamination in the semiconductor laser device can be suppressed.
Further, the present embodiment is not limited to using a semiconductor laser device using a submount, and the same form can be used on a support.

本発明の半導体レーザ駆動装置の製造方法は、光ディスク、光通信システム、プロジェクタ、ディスプレイ、印刷機又は測定器等全てのデバイスを製造するために利用することができる。   The manufacturing method of the semiconductor laser driving device of the present invention can be used for manufacturing all devices such as an optical disk, an optical communication system, a projector, a display, a printing machine, or a measuring instrument.

1:半導体レーザ装置
2a:ステム(ベース部)
2b:ステム(ヒートシンク)
21、22、23:リード
3:半導体レーザ素子
4:保護素子
5a、5b、5c、5d、5e、5f、5g:ワイヤ
6:サブマウント
7:キャップ
X:導電部
Y1、Y2:絶縁部
1: Semiconductor laser device 2a: Stem (base part)
2b: Stem (heat sink)
21, 22, 23: Lead 3: Semiconductor laser element 4: Protection elements 5a, 5b, 5c, 5d, 5e, 5f, 5g: Wire 6: Submount 7: Cap X: Conductive part Y1, Y2: Insulating part

Claims (7)

半導体レーザ素子とツェナーダイオードとを備える半導体レーザ装置をレーザ駆動回路に電気的に接続する工程と、
前記ツェナーダイオードを電気的に絶縁するツェナーダイオード絶縁工程とを順に備える半導体レーザ駆動装置の製造方法であって、
前記ツェナーダイオードは、第1のワイヤと、前記第1のワイヤと直径が同じで且つ前記第1のワイヤよりも長さが短い第2のワイヤと、により前記レーザ駆動回路と電気的に接続されており、
前記ツェナーダイオード絶縁工程において、電流を印加することで前記第1のワイヤを切断し、前記ツェナーダイオードを電気的に絶縁する、半導体レーザ駆動装置の製造方法。
Electrically connecting a semiconductor laser device comprising a semiconductor laser element and a Zener diode to a laser driving circuit;
A method of manufacturing a semiconductor laser driving device comprising a Zener diode insulating step for electrically insulating the Zener diode,
The Zener diode is electrically connected to the laser drive circuit by a first wire and a second wire having the same diameter as the first wire and a shorter length than the first wire. And
A method of manufacturing a semiconductor laser driving device, wherein, in the Zener diode insulating step, the first wire is cut by applying a current to electrically insulate the Zener diode.
半導体レーザ素子とツェナーダイオードとを備える半導体レーザ装置をレーザ駆動回路に電気的に接続する工程と、
前記ツェナーダイオードを電気的に絶縁するツェナーダイオード絶縁工程とを順に備える半導体レーザ駆動装置の製造方法であって、
前記ツェナーダイオードは、第1のワイヤと、前記第1のワイヤと直径が同じ複数本の第2のワイヤと、により前記レーザ駆動回路と電気的に接続されており、
前記ツェナーダイオード絶縁工程において、電流を印加することで前記第1のワイヤを切断し、前記ツェナーダイオードを電気的に絶縁する、半導体レーザ駆動装置の製造方法。
Electrically connecting a semiconductor laser device comprising a semiconductor laser element and a Zener diode to a laser driving circuit;
A method of manufacturing a semiconductor laser driving device comprising a Zener diode insulating step for electrically insulating the Zener diode,
The Zener diode is electrically connected to the laser driving circuit by a first wire and a plurality of second wires having the same diameter as the first wire,
A method of manufacturing a semiconductor laser driving device, wherein, in the Zener diode insulating step, the first wire is cut by applying a current to electrically insulate the Zener diode.
半導体レーザ素子とツェナーダイオードとを備える半導体レーザ装置をレーザ駆動回路に電気的に接続する工程と、
前記ツェナーダイオードを電気的に絶縁するツェナーダイオード絶縁工程とを順に備える半導体レーザ駆動装置の製造方法であって、
前記ツェナーダイオードは、第1のワイヤと、前記第1のワイヤと長さが同じで且つ第1のワイヤよりも直径が大きい第2のワイヤと、により前記レーザ駆動回路と電気的に接続されており、
前記ツェナーダイオード絶縁工程において、電流を印加することで前記第1のワイヤを切断し、前記ツェナーダイオードを電気的に絶縁する、半導体レーザ駆動装置の製造方法。
Electrically connecting a semiconductor laser device comprising a semiconductor laser element and a Zener diode to a laser driving circuit;
A method of manufacturing a semiconductor laser driving device comprising a Zener diode insulating step for electrically insulating the Zener diode,
The Zener diode is electrically connected to the laser driving circuit by a first wire and a second wire having the same length as the first wire and having a diameter larger than that of the first wire. And
A method of manufacturing a semiconductor laser driving device, wherein, in the Zener diode insulating step, the first wire is cut by applying a current to electrically insulate the Zener diode.
前記レーザ駆動回路は、サージ保護回路を備える請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体レーザ駆動装置の製造方法。   4. The method of manufacturing a semiconductor laser driving device according to claim 1, wherein the laser driving circuit includes a surge protection circuit. 5. 前記半導体レーザ素子及び前記ツェナーダイオードは、同一のサブマウント上に設けられる請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体レーザ駆動装置の製造方法。   5. The method of manufacturing a semiconductor laser driving device according to claim 1, wherein the semiconductor laser element and the Zener diode are provided on the same submount. 6. 前記第1のワイヤは、前記ツェナーダイオードに直接接続されている請求項1乃至5に記載の半導体レーザ駆動装置の製造方法。   6. The method of manufacturing a semiconductor laser driving device according to claim 1, wherein the first wire is directly connected to the Zener diode. 半導体レーザ素子とツェナーダイオードとを備える半導体レーザ装置をレーザ駆動回路に電気的に接続する工程と、
前記ツェナーダイオードを電気的に絶縁するツェナーダイオード絶縁工程とを順に備え、
前記ツェナーダイオードは、表面に導電部を有する支持体上に載置され、前記導電部によって前記レーザ駆動回路と電気的に接続されており、
前記ツェナーダイオード絶縁工程において、電流を印加することで前記導電部を切断し、前記ツェナーダイオードを電気的に絶縁する半導体レーザ駆動装置の製造方法。
Electrically connecting a semiconductor laser device comprising a semiconductor laser element and a Zener diode to a laser driving circuit;
And a Zener diode insulating step for electrically insulating the Zener diode in order,
The Zener diode is mounted on a support having a conductive portion on the surface, and is electrically connected to the laser driving circuit by the conductive portion,
A method of manufacturing a semiconductor laser driving device, wherein, in the Zener diode insulating step, the conductive portion is cut by applying a current to electrically insulate the Zener diode.
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