JP5651723B2 - 光学装置、空間フィルタ、遮光方法、及び空間フィルタの設定方法 - Google Patents

Description

本発明は、検査装置及び、検査方法に関する。例えば、半導体デバイスなどパターンを有するウェハ，液晶基板およびメディア等の欠陥および異物の検査方法とその装置に関する。

異物検査装置において、空間フィルタがドットマトリクスからなる画素により任意のパターンが形成される液晶フィルタからなるものは、画素のＯＮ／ＯＦＦ（透過／遮光）によりフーリエ変換面に投影される回折光の遮光パターンを形成するため、形成することができる遮光パターンの多様性に優れる。しかし、液晶フィルタは遮光性が完全でないため、本来遮光しなければならないフーリエ変換面に投影される回折光を透過させる不具合が発生する。すなわち、これは検出精度の低下である。この不具合を解決するものとして、液晶フィルタを複数枚重ねることにより遮光率を向上させたものが提案されている。この特許に関連するものとして、例えば、特開平１１−３５２０７５号公報（特許文献１）がある。

また、遮光材とコイルばねから構成された機械式空間フィルタにおいては、遮光板はコイルばねと接続されているから、遮光材と遮光材との間隔はコイルばねの伸縮により等間隔に配置制御することができるので、規則性のあるパターンを持つ検査対象に対しては有効である。この特許に関連するものとして、例えば、特開平１０−６８６９８号公報（特許文献２）がある。

特開平１１−３５２０７５号公報 特開平１０−６８６９８号公報

液晶フィルタは数十μｍサイズのピクセルから形成されたものであるため、フーリエ変換面に投影される回折光の遮光パターンの生成を高精度で配置することができないため、高分解能なフィルタリングを行うことができない。また、フーリエ変換面に投影される回折光はレンズを通過しているためレンズ収差による歪みが生じるが、液晶フィルタの遮光パターンでは微小なレンズ収差を補正することはできないということから、高精度な異物信号の検出に問題がある。

ＤＲＡＭ（Dynamic Random Access Memory）を代表するメモリセル部のパターンなど、繰り返し性のある部分からのフーリエ変換面に投影される回折光は、広いピッチで投影され、周辺部などの繰り返し性の強くない部分からの回折光は狭いピッチあるいは連続分布で投影されるため、間隔の異なる回折光がフーリエ変換面に投影される。機械式フィルタは、遮光板がコイルばねに等間隔に接続されたものであるから、微小な遮光板の位置制御ができず、間隔の異なるフーリエ変換面に投影される回折光の遮光パターンには対応することができない。この解決手段として、遮光板をコイルばねに不等間隔に配置する空間フィルタが考えられるが、各種遮光パターンに対応するためには多数の空間フィルタを用意しなければならず、コストの上昇および空間フィルタ部の大型化となり現実的ではない。

本発明の目的は、高精度な異物検出方法および異物検査装置を提供することにある。

また、本発明の他の目的は、多様な空間フィルタの遮光パターンを提供することにある。

本発明の第１の特徴は、検査対象基板に光を照射する照射光学系と、前記検査対照基板からの光を検出する検出光学系と、前記検査対象基板からの回折光を遮光する空間フィルタとを有する検査装置において、前記空間フィルタは、複数の遮光材と、前記遮光材の形状，角度、または間隔の少なくとも１つを変化させる制御部材と、前記制御部材を制御する制御部と、を有することにある。

本発明の第２の特徴は、前記制御部は、前記制御部材に印加する電圧，磁界、または流体の流量の少なくとも１つを制御することを特徴とすることにある。

本発明の第３の特徴は、前記制御部材は、圧電部材であることにある。

本発明の第４の特徴は、前記制御部材は、伸縮材であることにある。

本発明の第５の特徴は、前記制御部材は、前記遮光材に接続された少なくとも２つ以上の回転部材であることにある。

本発明の第６の特徴は、前記遮光材は、少なくとも２つ以上の部材で構成され、前記材料の１つは圧電材料であり、前記圧電部材に電圧を印加する電圧制御部を有することにある。

本発明の第７の特徴は、前記制御部材は、前記遮光材の両端に配置されたモーターであることにある。

本発明の第８の特徴は、前記制御部材は、磁性体を有することにある。

本発明の第９の特徴は、圧電効果，流体，磁気力，静電気力の少なくとも１つを使用して、回折光を遮光することにある。

本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。

（１）高精度な異物検出方法および異物検査装置を提供することができる。

（２）多様な空間フィルタの遮光パターンを提供することができる。

本発明の第１の実施形態である空間フィルタの説明図である。 遮光材の間隔、角度を変化させる場合の説明図。 遮光材の間隔をそれぞれ独立して変化させる場合の説明図。 遮光材の間隔を等間隔として遮光材１０１に対して角度を持たせた場合の説明図。 遮光材１０１と１０２の角度と遮光材１０２と遮光材１０３との角度が異なる場合の説明図。 異物検査装置の装置概略を説明する図である。 従来の空間フィルタ（液晶フィルタ）の遮光を説明する図である。 従来の空間フィルタ（コイルばね式機械フィルタ）の遮光を説明する図である。 本発明の第１の実施形態である空間フィルタの遮光を説明する図である。 本発明の第１の実施形態である空間フィルタの検査画像を説明する図である。 本発明の第１の実施形態である空間フィルタを調整する際のＧＵＩ画面である 本発明の第１の実施形態である空間フィルタを調整する際のフローチャートである。 本発明の第２の実施形態である空間フィルタの説明図である。 本発明の第３の実施形態である空間フィルタの説明図である。 ネジの回転量を変えることにより遮光材の角度を変える場合の説明図。 本発明の第４の実施形態である空間フィルタの説明図である。 本発明の第４の実施形態である空間フィルタの検査画像を説明する図である。 本発明の第５の実施形態である空間フィルタの説明図である。 本発明の第５の実施形態である空間フィルタの遮光を説明する図である。 本発明の第６の実施形態である空間フィルタの説明図である。 本発明の第７の実施形態である空間フィルタの説明図である。

以下、本発明の実施形態について図を参考にして詳細に説明するが、これらの実施例は本発明を限定するものではない。
〔第１の実施形態〕
本実施形態にかかる異物検査装置の全体構成を図２に示す。

第１の実施形態の異物検査装置は、レーザー１およびステージ３を備え、検出レンズ４，空間フィルタ５，空間フィルタ制御装置８，空間フィルタ制御用ケーブル９，ハーフミラー１１，ＣＣＤ（Charge Coupled Device）カメラ１２，集光レンズ系６，検出器７，データ入力および装置操作用のキーボード１３，モニタ１４，制御パソコン１５，制御およびデータ取得ケーブル１６で構成される。ステージ３にはウェハ２が保持されその表面にレーザー１よりレーザー光１０が照射され、ステージ３がｘｙ方向（２次元的）に移動することによりウェハ２がスキャニングされるようになっている。

レーザー光１０が照射されると、基板に形成されているデバイスや配線により、回折光が生じ、また、異物が付着している場合には散乱光が生じる。回折光は、フーリエ変換面に投影されるため、ハーフミラー１１とＣＣＤカメラ１２により、フーリエ変換面に投影される回折光および空間フィルタの状態を画像データとして取得し、モニタ１４に表示することができる。ここでハーフミラーによる回折光および散乱光の減衰が影響する場合は、光軸上から移動させる機構としてもよい。また、空間フィルタ５の配置する角度を規定していないが、レーザー１の配置によりフーリエ変換面に投影される回折光の角度もかわるため、空間フィルタ１７に回転機構を具備して調整を行っても良い。

ＣＣＤカメラ１２でフーリエ変換面に投影される回折光の遮光状態をモニタしながら最適な遮光パターンに空間フィルタ５を制御しても良いが、通常は過去に測定したデータや設計データを基にシミュレーションにより事前に判明している遮光パターンに空間フィルタ５を制御する。これらの工程により回折光を空間フィルタ５により効果的に除去し、検出器７により取り込まれた画像では規則性のある基板に形成されているデバイスや配線の画像が除去され異物を検査することができる。

空間フィルタ１７について説明する。図１は本実施形態の空間フィルタ１７を示し、図１（ａ）が上面図、図１（ｂ）が断面図である。

空間フィルタ１７は遮光材１８と、圧電素子１９と、反射防止材２０と、制御装置より構成される。棒状の遮光材１８の表面（検出レンズ４に面する表面）は反射防止材２０が形成され、遮光材１８と隣接する遮光材１８とは、圧電素子１９を介して接着固定されている。圧電素子１９は制御装置に夫々独立に接続（全ての配線を図示していない）されている。

本発明の空間フィルタ１７の特徴について説明する。図３，図４は従来の空間フィルタを示す。図３が液晶フィルタ、図４がコイルばね式機械フィルタである。図３では液晶フィルタのドットマトリクス状に配置された画素より構成されるが、画素と画素の隙間が発生し遮光率が１００％ではないから、遮光したいフーリエ変換面に投影される回折光が透過する。

図４では遮光材２３がコイルばね２４に等間隔で接着固定されているから、コイルばね２４を伸縮させても遮光材間隔は等間隔のままで不等間隔にはならない。すなわちこれらは検出精度の低下である。

この不具合を解決するために、図５に示すように、本発明では、ステンレス材に反射防止材２０を塗布した遮光材１８を用いた。これにより、フーリエ変換面に投影される回折光は１００％遮光することが可能となる。また、伸縮量が印加電圧に比例する圧電素子１９を用い、圧電素子１９は制御装置に夫々独立に接続する構成とした。これにより、圧電素子１９への印加電圧を夫々独立に制御することにより遮光材間隔２１を等間隔および不等間隔に配置することが可能となる。

圧電素子１９は印加する電圧が増加すると圧電素子１９が伸長し、印加する電圧が減少すると縮まる。例えば、図１（１）（ａ）では、圧電素子１０６から１１３に最大印加電圧の５０％の電圧が印加されている状態であり、遮光材１０１から１０５は等間隔に配置されている。圧電素子１０８と１１１には最大印加電圧の２０％の電圧を増加させ、圧電素子１０９と１１０は最大印加電圧の２０％の電圧を減少させることにより、図１（１）（ｂ）のように遮光材１０３のみを制御することができ、他の遮光材と角度を持たせた配置が可能となる。

図１（２）（ｂ）の場合であれば、図１（２）（ａ）の圧電素子１０６から１１３に最大印加電圧の５０％の電圧が印加されている状態から、圧電素子１０６と１０７に最大印加電圧の３０％を増加させた電圧を印加、圧電素子１０８と１０９に最大印加電圧の３０％の電圧を減少させた電圧を印加することで、遮光材１０２のみを制御することができ、遮光材を平行で不等間隔に配置することが可能となる。

図１（３）（ｂ）の場合であれば、図１（３）（ａ）の圧電素子１０６から１１３に最大印加電圧の５０％の電圧が印加されている状態から、圧電素子１０７に最大印加電圧の２５％を増加させた電圧を印加することで、遮光材１０２から１０５を等間隔かつ遮光材１０１に対して角度を持たせた配置が可能となる。

図１（４）（ｂ）の場合であれば、図１（４）（ａ）の圧電素子１０６から１１３に最大印加電圧の５０％の電圧が印加されている状態から、圧電素子１０７と１０９に最大印加電圧の３５％を増加させた電圧を印加することで、遮光材１０１と１０２の角度と遮光材１０２と遮光材１０３の角度が異なる配置が可能となる。

このような圧電素子への印加電圧を変えることにより、夫々遮光材の配置を換えることができる。

次に具体的な検査手順について示す。図６（ａ）は検査画像イメージをモニタ１４に表示したものであり、ＣＣＤカメラ１２にて取得したフーリエ変換面に投影される回折光２６と空間フィルタ１７の遮光材１８が表示されている。検査手順としては、まず初めにフーリエ変換面に投影される回折光２６の画像が検査画面２５に表示され、次に空間フィルタ１７が検査画像２５に表示される（図６（ａ））。

次に、遮光パターンの位置に圧電素子１９を伸縮させることにより遮光材１８が動くことにより、遮光材１８とフーリエ変換面に投影される回折光２６との位置を一致させる（図６（ｂ））。

空間フィルタ１７の遮光材１８と遮光材１８の遮光材間隔２７を調整する際の調整画面２５０：ＧＵＩ（Graphical User Interface）を図７に示す。空間フィルタ１７の遮光パターンの調整である遮光材１８の位置制御は、調整画面２５０で操作することができる（図７（ａ））。空間フィルタ２５の調整が終了し、遮光材１８とフーリエ変換面に投影される回折光２６との位置が一致した調整画面２５１を図７（ｂ）に示す。

図８に圧電素子を制御するフローチャートを示す。調整画面２５０のＧＵＩ画面上にある調整スタートボタン２５２を押すと、空間フィルタ１７の遮光材１８と遮光材１８の遮光材間隔２７を調整する際の調整工程が始まる（工程Ｓ１）。レーザー１よりレーザー光１０を照射しウェハ２の検査スキャンを行う（工程Ｓ２）。ＣＣＤカメラ１２より画像データを取得して（工程Ｓ３）、画像データを調整画像２５０のようにモニタ１４に表示する。遮光材１８の位置データや遮光材間隔２８のデータである位置データがある場合は、位置データ選択ボタン２５３を押して位置データのファイルを選択し、位置データがない場合は位置データ入力欄２５５にデータを入力する（工程Ｓ５）。位置データが選択できたら位置データ取得ボタン２５４を押して、位置データを取得してファイルを保存する（工程Ｓ６）。位置データを圧電素子１９の制御装置用には使用できないため、位置データを電圧値データに変換する（工程Ｓ７）。変換された電圧値データを、制御およびデータ取得ケーブル１６介し空間フィルタ制御装置８に送信する（工程Ｓ８）。空間フィルタ制御装置８制御は受信した電圧値データより、空間フィルタ制御用ケーブル９を介して圧電素子１９に電圧を印加する（工程Ｓ９）。

これらの工程により、空間フィルタ１７の遮光材１８は位置制御が行われ、遮光パターンを調整することができる。

なお、位置データは回折光の強度が最小になるような工程より取得する方法や、半導体デバイスの設計データからシミュレーションなどを行い取得する方法でもよい。

また、調整画面２５０は空間フィルタ１７が１つの場合であるが、検出器７が２つ以上ある場合や同じ検出系で空間フィルタを２つ以上配置する場合も同様な工程で、遮光材１８の位置制御を行うことができる。さらに、調整画面２５０において空間フィルタ１７の遮光材１８は垂直および水平に表示されているが、角度を持った例えば４５度などに表示をさせても良い。

以上、異物検査装置において、フーリエ変換面に投影される回折光２６に対応して、遮光材間隔２７は隣接する遮光材間隔２８と等間隔にも不等間隔にも自由に変えることができるので、高精度な異物検査が実現できる。

なお、検査画像イメージは縦横比が同じではないが、縦横比が同じでもよく、圧電素子１９は検査画面外にあるが、検査画面内にあっても構わない。また、遮光パターンと空間フィルタ１７が検査画像２５に表示される順序は、本実施例と反対であっても、また同時であっても構わない。さらには、本実施例では、フーリエ変換面に投影される回折光２６が不等間隔の場合を示しているが、等間隔の場合でも構わない。さらには、本実施形態では、電圧により駆動する圧電素子１９を用いたが、駆動源としては静電気力，熱，磁力等でも構わない。

また、反射防止材は検出レンズ４側に限らず両面あるいは全面でも構わない。
〔第２の実施形態〕
図９により、本発明の第２の実施形態を説明する。

本実施形態の空間フィルタ２９を、第１の実施形態と比較すると、圧電素子１９の代わりに流体駆動伸縮材３０が備えられた点が異なる。流体駆動伸縮材３０は流体供給機構からチューブ３１により夫々独立に接続されており、流体供給機構から流体駆動伸縮材３０に夫々独立に流体を供給もしくは吸引することにより、遮光材間隔３２を夫々独立に制御することが可能となる。

流体を流体駆動伸縮材３０に供給あるいは吸引することで、流体駆動伸縮材３０が伸縮し、遮光材３３を動かすことが可能となる。図９では流体供給機構を遮光材３３の片側にのみ設けており、図９の構成では遮光材３３は平行移動のみであるが、流体供給機構と接続された流体駆動伸縮材３０を遮光材３３の両側（図９の上下）に設ける構成でも良い。例えば片方の弾性体の伸縮量をＸmm、もう片方の弾性体の伸縮量を２Ｘmmというような、遮光板の両側に設けられた弾性体の伸縮量を変えることにより実施例１と同じように遮光材に角度を持たせた配置が可能となる。

第１の実施形態では検査画像から遮光材３３の位置を検出するのに対し、本実施形態では、空間フィルタ２９に備えられた位置センサ３４により遮光材３３の位置を検出し、制御装置により流体供給機構にフィードバックする構成とした。本実施形態に用いる流体としては、制御装置により遮光材３３の位置を高精度に制御できるので、非圧縮性流体（例えばオイル，水）でも、圧縮性流体（空気，窒素）でも構わない。

本実施形態においても、第１の実施形態と同様な効果を得ることができる。
〔第３の実施形態〕
図１０により、本発明の第３の実施形態を説明する。図１０（ａ）が上面図、図１０（ｂ）が断面図である。

本実施形態の空間フィルタ３５を、第１の実施形態と比較すると、圧電素子１９の代わりにネジ材３６が備えられた点が異なる。遮光材３７にはネジ形状３８が設けられており、ネジ材３６と接続されているが、遮光材３７とネジ材３６を接続されているのは、夫々の遮光材３７において１箇所であり、ネジ材３６を回転させることにより、遮光材３７は夫々独立に動き、遮光材間隔３９を夫々独立に制御できる。

図１０（１）のように、ネジ機構を遮光材３７の両側に接続し、例えば片方のネジ回転量を１回転、もう片方のネジ回転量を２回転というように、遮光材３７の両側に接続されたネジの回転量を変えることにより、実施例１と同じように遮光材３７に角度を持たせた配置が可能となる。

本実施形態においても、第１の実施形態と同様な効果を得ることができる。

さらには、本実施形態では、図１に示すような遮光材１８と圧電素子１９を交互に挟み込む構造としていないので、遮光材３７の駆動範囲が大きくなり、遮光材間隔３９の変更範囲が大きくすることが可能となる。従って、本実施形態では、１ユニットの空間フィルタ３５を異物検査装置に備えるだけで、各種の遮光パターンに対応できる。
〔第４の実施形態〕
図１１により、本発明の第４の実施形態を説明する。図１１（ａ）が上面図、図１１（ｂ）が断面図である。

本実施形態の空間フィルタ４０を、第１の実施形態と比較すると、少なくとも２つの異なる材質から成る棒あるいは棒材を貼りあわせた遮光材４１を用いた点が異なる。本実施形態では、プラスチック４２と遮光材圧電素子４３を貼り合わせた遮光材４１を用いており、遮光材圧電素子４３に電圧を印加することにより、遮光材４１は湾曲状に変形できる。

フーリエ変換面に投影される回折光にはレンズ収差によりパターン歪みが生じているが、従来の直線状の遮光材では、パターン歪みを補正するために幅の広い遮光材を用いなければならなかった。これは遮光を必要としない領域も遮光することになるから、検出精度の低下である。このような不具合を解決するために、本実施形態では、パターン歪みの湾曲形状に合わせて、遮光材４１を湾曲させることができるようにした。これにより、遮光材の幅を広くする必要性は無くなるので、高精度な検出が可能となる。

遮光材４１は、制御装置２より正側の電圧を印加することにより、図１１のような外側へ向けて湾曲形状となる。また負側の電圧を印加すれば、内側へ向けての湾曲形状となり、電圧を印加しない場合は、略直線状の形状となる。

次に具体的な検査手順について示す。図１２は検査画像イメージを示し、フーリエ変換面に投影される回折光４４と空間フィルタ４０の遮光材４１が表示されている。検査手順としては、まず初めにフーリエ変換面に投影される回折光４４が検査画像４５に表示され、引き続いて空間フィルタ４０が検査画像４５に表示される（図１２（ａ））。次に、フーリエ変換面に投影される回折光４４のパターン歪みの湾曲形状に合わせるように、遮光材圧電素子４３に電圧を印加することにより遮光材４１を湾曲させる（図１２（ｂ））。

以上により、第１の実施形態と同様な効果、あるいはそれ以上の効果を得ることができる。

なお、本実施形態では、遮光材４１は空間フィルタ４０の外側に向けて湾曲させているが、遮光材圧電素子４３の印加電圧を正負逆にして、遮光材４１は空間フィルタ４０の内側に向かって湾曲させて用いても構わない。さらには、遮光材４１への遮光材圧電素子４３の貼り付け構成は図１１に図示した構成に限るものではない。

また、第１の実施形態と同様、圧電素子４６の印加電圧を夫々制御することにより遮光材４１を不等間隔または角度を持たせた配置（不等間隔で角度を持たせた配置）にしても良い。
〔第５の実施形態〕
図１３により、本発明の第５の実施形態を説明する。図１３（ａ）が上面図、図１３（ｂ）が側面図である。本実施形態の空間フィルタ４７を図１に示す実施形態と比較すると、遮光材４８となる２つの棒材（４９ａ，４９ｂ）を遮光材圧電素子５０により挟み込んだ構成とした点が異なる。

図１４に本実施形態の遮光イメージを示す。図１４（ａ）はフーリエ変換面に投影される回折光５１のサイズが小さい場合、図１４（ｂ）はフーリエ変換面に投影される回折光５１のサイズが大きい場合である。本実施形態では、遮光材圧電素子５０を伸縮させることにより遮光材４８の幅が伸縮できるようにした。これにより、フーリエ変換面に投影される回折光５１のサイズに合わせて遮光材４８の幅が変わるので、高精度に遮光することが可能になる。

以上により、第１の実施形態と同様な効果、あるいはそれ以上の効果を得ることができる。
〔第６の実施形態〕
図１５により、本発明の第６の実施形態を説明する。図１５（ａ）が上面図、図１５（ｂ）が側面図である。

本実施形態の空間フィルタ５２を、第１の実施形態と比較すると、圧電素子１９による遮光材１８を移動させる機構をモーター５４とした点が異なる。

遮光材５３の両端にモーター５４を下向きに取り付け、モーター５４の先にはローラー５６を取り付ける。ガイド５５にローラー５６を隙間がない状態で取り付けることで、遮光材５３を平行に移動させることができ、第１の実施形態と同様な効果を得ることができる。

モーターにおいては交流モーターや直流モーターのほか超音波モーターを用いても同様の効果が得られる。

また、本実施形態では、図１に示すような遮光材１８と圧電素子１９を交互に挟み込む構造としていないので、第３の実施形態と同様な効果を得ることができる。
〔第７の実施形態〕
図１６により、本発明の第７の実施形態を説明する。図１６（ａ）は上面図、図１６（ｂ）は磁石ユニット５９の一部を拡大した図である。

本実施形態の空間フィルタ５７を、第６の実施形態と比較すると、遮光材５３を移動させるモーター５４を磁石ユニット５９とした点が異なる。

遮光材５８の両端に、磁石ユニット５９を取り付けることで、磁力の斥力および引力により遮光材５８を移動することができる。図１６（ｂ）に示すように、磁石ユニットは電磁石の原理を利用したもので、多層基板６０にコイルの代わりとなる配線パターン６１を行い、磁力を固めるため鉄心６１を組み込み、遮光材５８同士の距離計測および制御用のセンサ６３をユニットにしたものである。

これらにより、本実施形態では第６の実施形態と同様な効果を得ることができる。

以上、第１〜第７の実施形態を示したが、これらの実施形態を２つ以上組み合わせても（例えば第４の実施形態と第５の実施形態との組み合わせ）、第１の実施形態と同様な効果を得ることができる。

１ レーザー
２ ウェハ
３ ステージ
４ 検出レンズ
５，１７，２９，３５，４０，４７，５２，５７ 空間フィルタ
６ 集光レンズ系
７ 検出器
８ 空間フィルタ制御装置
９ 空間フィルタ制御用ケーブル
１０ レーザー光
１１ ハーフミラー
１２ ＣＣＤカメラ
１３ キーボード
１４ モニタ
１５ 制御パソコン
１６ 制御およびデータ取得ケーブル
１８，２３，３３，３７，４１，４８，５３，５８，１０１，１０２，１０３，１０４，
１０５ 遮光材
１９，４６，１０６，１０７，１０８，１０９，１１０，１１１，１１２，１１３ 圧電
素子
２０ 反射防止材
２１，２７，２８，３２，３９ 遮光材間隔
２２ａ 画素（ＯＦＦ）
２２ｂ 画素（ＯＮ）
２４ コイルばね
２５，４５ 検査画像
２６，４４ フーリエ変換面に投影される回折光
３０ 流体駆動伸縮材
３１ チューブ
３４ 位置センサ
３６，３６ａ ネジ材
３８，３８ａ ネジ形状
４２ プラスチック
４３，５０ 遮光材圧電素子
４９ａ，４９ｂ 棒材
５４ モーター
５５ ガイド
５６ ローラー
５９ 磁石ユニット
６０ 多層基板
６１ 配線パターン
６２ 鉄心
６３ センサ
２５０，２５１ 調整画面
２５２ 調整スタートボタン
２５３ 位置データ選択ボタン
２５４ 位置データ取得ボタン
２５５ 位置データ入力欄
Ｓ１〜Ｓ９ 工程

Claims (16)

1. 試料に光を照射する照明光学系と、
   前記前記試料からの光を検出する検出光学系と、
   複数の遮光材を有し、前記試料からの不所望な光を遮光する空間フィルタと、
   前記遮光材を可動とすることで前記遮光材の間隔を変化させる制御部材と、を有し、
   前記遮光材の間隔が不等間隔になるように、前記遮光材は前記制御部材によって動かされる光学装置。
2. 請求項１に記載の光学装置において、
   前記制御部材によって、前記遮光材の角度は変化する光学装置。
3. 請求項２に記載の光学装置において、
   前記制御部材は、圧電部材を含む光学装置。
4. 請求項２に記載の光学装置において、
   前記制御部材は、前記遮光材の両端に配置されたモーターを含む光学装置。
5. 請求項２に記載の光学装置において、
   前記制御部材は、磁性体を含むことを特徴とする光学装置。
6. 複数の遮光材と、
   前記遮光材を可動とすることで前記遮光材の間隔を変化させる制御部材と、を有し、
   前記遮光材の間隔が不等間隔になるように、前記遮光材は前記制御部材によって動かされる空間フィルタ。
7. 請求項６に記載の空間フィルタにおいて、
   前記制御部材によって、前記遮光材の角度は変化する空間フィルタ。
8. 請求項７に記載の空間フィルタにおいて、
   前記制御部材は、圧電部材を含む空間フィルタ。
9. 請求項７に記載の空間フィルタにおいて、
   前記制御部材は、前記遮光材の両端に配置されたモーターを含む空間フィルタ。
10. 請求項７に記載の空間フィルタにおいて、
    前記制御部材は、磁性体を含む空間フィルタ。
11. 複数の遮光材を有し、試料からの不所望な光を遮光する空間フィルタを用いた遮光方法であって、
    圧電効果，流体，磁気力，静電気力の少なくとも１つを使用して前記遮光材を可動とし、
    前記遮光材の間隔が不等間隔になるように前記遮光材は前記制御部材によって動かされる遮光方法。
12. 複数の遮光材を有し、試料からの不所望な光を遮光する空間フィルタの設定方法であって、
    圧電効果，流体，磁気力，静電気力の少なくとも１つを使用して前記遮光材を可動とし、
    前記遮光材の間隔が不等間隔になるように前記遮光材が前記制御部材によって動かされるように設定する空間フィルタの設定方法。
13. 請求項１に記載の光学装置において、
    前記複数の遮光材の位置は、各々独立に制御可能である光学装置。
14. 請求項６に記載の空間フィルタにおいて、
    前記複数の遮光材の位置は、各々独立に制御可能である空間フィルタ。
15. 請求項１１に記載の遮光方法において、
    前記複数の遮光材の位置は、各々独立に制御される遮光方法。
16. 請求項１２に記載の空間フィルタの設定方法において、
    前記複数の遮光材の位置は、各々独立に動かされるように設定される空間フィルタの設定方法。

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