JP2001174629A - 反射光学素子及びファブリー・ペロー・エタロン及び光源レーザー装置及び露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】極めて狭帯域の波長において有効な反射光学素
子、ファブリー・ペロー・エタロン、出力波長が極めて
狭帯域の光源レーザー装置、高解像度の露光装置、高集
積度のデバイスを製造可能なデバイスの製造方法を提供
する。 【課題の解決手段】複数の基材を、それぞれの間に空隙
を設けて光軸に沿って配置し、狭い波長帯域において高
い反射率を持つミラーを形成する反射光学素子、該反射
光学素子を、それぞれの間に空隙からなる共振部を設け
て、光軸に沿って配置したファブリー・ペロー・エタロ
ン、該反射光学素子または該ファブリー・ペロー・エタ
ロンを、光源レーザー装置の内部または外部に配置した
光源レーザー装置、該光源レーザー装置を搭載した露光
装置、該露光装置を使用したデバイス製造方法を提供す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー光源のス
ペクトル狭帯化に使用する反射光学素子、及び該反射光
学素子を搭載した光源、及び該光源を搭載した露光装
置、及び、この装置を用いたデバイスの製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、露光装置の光源としては、KrFエ
キシマレーザー（248.4nm）、ArFエキシマレーザー(19
3.4nm)などが用いられている。そしてこれらを光源とし
て使用する場合には、所望の解像力を得るために、結像
レンズでの色収差の影響を抑制する必要がある。そのた
め、光源レーザー装置の発振スペクトルを、所定の波長
範囲（1pm以下）に狭帯域化する必要がある。

【０００３】このための技術として、レーザー発振管の
内部、あるいはこれの外部に、狭帯域なスペクトル反射
波長特性または透過波長特性をもつ素子を設置して、所
望のスペクトル帯域の光を取り出す方法が用いられてき
た。

【０００４】これらの方法として、具体的には、プリズ
ムとグレーティングを用いる方法、ファブリー・ペロー
・エタロンを用いる方法などが提案されている。そし
て、このような技術を用いて狭帯域化されたレーザー光
源を搭載した露光装置が実用化され、この装置を用いた
デバイスの製造が行われてきた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】一方、さらなる高解像
度を得るために、より短い波長による露光装置の検討が
進んでいる。

【０００６】そしてこの目的のために、157nmでの発振
波長を持つＦ₂レーザーを光源に搭載した露光装置によ
って、より微小なパターンのデバイスを作成することが
研究されている。

【０００７】しかしながら、Ｆ₂レーザーの波長におい
ては、良好な特性・耐久性を持つ光学薄膜が作り難い。
そのため、プリズム、グレーティング、エタロンなどの
光学素子を利用することが難しい。したがって、KrFエ
キシマレーザー・ArFエキシマレーザーで可能であっ
た、従来の狭帯域化技術を適用することが非常に困難で
ある。

【０００８】本発明はこのような問題に鑑みて成された
もので、耐久性の低い光学薄膜を使用せず、光源波長の
スペクトルの狭帯域化を安定に達成可能な、耐久性の高
い反射光学素子を提供することを目的とする。

【０００９】次に本発明は、該反射光学素子を組み合わ
せることで得られるファブリー・ペロー・エタロンを提
供することを目的とする。次に本発明は、これらのスペ
クトル狭帯域化素子によって、発振波長が狭帯域化され
た光源レーザー装置を提供することを目的とする。

【００１０】次に本発明は、該光源レーザー装置を搭載
した、高解像度でパターンを露光することが可能な露光
装置を提供することを目的とする。次に本発明は、該露
光装置を使用することにより、より集積度の高いデバイ
スの製造を可能にするデバイスの製造方法を提供するこ
とを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、請求項１においては、複数の基材を、それ
ぞれの間に空隙を設けて光軸に沿って配置し、狭い波長
帯域において高い反射率を持つミラーを形成することを
特徴とする反射光学素子を提供する。

【００１２】請求項２においては、請求項１に記載の反
射光学素子の、前記複数の基材の光路長が、（ｍ＋１／
４）・λ、あるいは（ｍ＋３／４）・λのどちらかであ
り、前記複数の基材間の空隙の光路長が、（ｍ＋１／
４）・λ、あるいは（ｍ＋３／４）・λのどちらかであ
ることを特徴とする。ただし、ｍは次数（任意の整数）
を表わし、λは反射中心波長を表わす。

【００１３】請求項３においては、請求項１乃至２に記
載の反射光学素子の、前記複数の基材が、それぞれ平行
平面板によって構成されることを特徴とする。さらに請
求項４においては、該平行平面板が、一枚の大きな平面
板の同一の厚みを有する部分から、それぞれ作成されて
いることを特徴とする。

【００１４】請求項５においては、請求項１乃至２に記
載の反射光学素子の、前記複数の基材の、それぞれの表
面及び裏面が全て同一の球心を有する球面あるいは非球
面によって構成されることを特徴とする。

【００１５】請求項６においては、請求項１乃至５に記
載の反射光学素子の、前記複数の基材それぞれが、フッ
化物結晶からなることを特徴とする。請求項７において
は、請求項１乃至６に記載の反射光学素子の、前記複数
の基材間の空隙のうち、少なくとも一つが真空であるこ
とを特徴とする。

【００１６】請求項８においては、請求項１乃至６に記
載の反射光学素子の、前記複数の基材間の空隙のうち、
少なくとも一つが気体で満たされていることを特徴とす
る。さらに、請求項９においては、該気体が、不活性ガ
スであることを特徴とする。

【００１７】請求項１０においては、請求項１乃至９に
記載の反射光学素子の、前記複数の基材間の空隙のう
ち、少なくとも一つが、前記基材とは屈折率の異なる固
体によって満たされていることを特徴とする。そして請
求項１１においては、該個体が、フッ化物結晶からなる
ことを特徴とする。さらに請求項１２においては、前記
基材の表面と該個体とが光学密着されていることを特徴
とする。

【００１８】請求項１３においては、請求項１乃至１２
に記載の反射光学素子の、前記複数の基材間の空隙に、
該空隙と等しい厚みを持つスぺ−サーを挿入し、該スぺ
−サーの端面を前記複数の基材の表面と光学密着させる
ことで、前記複数の基材間の空隙の厚みを確保すること
を特徴とする。さらに請求項１４においては、該スぺ−
サーを複数使用する際に、一枚の大きな平面板の同一の
厚みを有する部分から、該スぺ−サーを複数作成して用
いることを特徴とする。

【００１９】請求項１５においては、請求項１乃至１３
に記載の反射光学素子の反射中心波長が可変であること
を特徴とする。そして請求項１６においては、前記反射
中心波長が、該空隙を満たす気体の温度・圧力の変化に
よって可変であることを特徴とする。また請求項１７に
おいては、前記反射中心波長が、ピエゾ素子によって可
変であることを特徴とする。また請求項１８において
は、前記反射中心波長が、前記複数の基材の一部あるい
は全てを、個別または一律に、光軸に対して微小角度回
転することで可変であることを特徴とする。

【００２０】次に本発明は、請求項１９において、複数
の、請求項１乃至１８に記載の反射光学素子を、それぞ
れの間に空隙からなる共振部を設けて、光軸に沿って配
置したことを特徴とするファブリー・ペロー・エタロン
を提供する。

【００２１】請求項２０においては、請求項１９に記載
のファブリー・ペロー・エタロンの、前記共振部の光路
長が、（ｍ＋１／２）・λ₂であることを特徴とする。
ただし、 λ₂：透過中心波長 である。

【００２２】請求項２１においては、請求項１９乃至２
０に記載のファブリー・ペロー・エタロンが、前記共振
部を、複数有することを特徴とする。請求項２２におい
ては、請求項１９乃至２１に記載のファブリー・ペロー
・エタロンの、前記共振部のうち、少なくとも一つが真
空であることを特徴とする。

【００２３】請求項２３においては、請求項１９乃至２
２に記載のファブリー・ペロー・エタロンの、前記共振
部のうち、少なくとも一つが気体によって満たされてい
ることを特徴とする。さらに請求項２４においては、該
気体が不活性ガスであることを特徴とする。

【００２４】請求項２５においては、請求項１９乃至２
４に記載のファブリー・ペロー・エタロンの、前記共振
部のうち、少なくとも一つが、前記複数の反射光学素子
の端面を形成する基材とは屈折率の異なる個体によっ
て、満たされていることを特徴とする。そして請求項２
６においては、該個体が、フッ化物結晶であることを特
徴とする。さらに請求項２７においては、複数の反射光
学素子の端面と、該個体とが、光学密着されていること
を特徴とする。

【００２５】請求項２８においては、請求項１９乃至２
７に記載のファブリー・ペロー・エタロンの、前記共振
部に、前記共振部と等しい厚みを持つスぺ−サーを挿入
し、該スぺ−サーの端面を、前記複数の請求項１乃至１
８に記載の反射光学素子の端面と光学密着させること
で、前記共振部の厚みを確保することを特徴とする。さ
らに請求項２９においては、該スぺ−サーを複数使用す
る際に、一枚の大きな平面板の同一の厚みを有する部分
から、該スぺ−サーを複数作成して用いることを特徴と
する。

【００２６】請求項３０においては、請求項１９乃至２
９に記載のファブリー・ペロー・エタロンの、透過中心
波長がが可変であることを特徴とする。そして請求項３
１においては、前記共振部を満たす気体の温度、あるい
は圧力の変化によって、前記透過中心波長が可変である
ことを特徴とする。また請求項３２においては、前記透
過中心波長が、ピエゾ素子によって可変であることを特
徴とする。さらに請求項３３においては、前記複数の反
射光学素子の一部あるいは全てを、個別または一律に、
光軸に対して微小角度回転させることで、前記透過中心
波長が可変であることを特徴とする。

【００２７】次に本発明は、請求項３４において、請求
項１乃至１８に記載の反射光学素子を、光源レーザー装
置の内部または外部に配置したことを特徴とする光源レ
ーザー装置を提供する。

【００２８】請求項３５は、請求項３４に記載の光源レ
ーザー装置において、請求項１乃至１８に記載の反射光
学素子を、光源レーザー装置のアウトプットカプラーま
たはエンドリフレクターに用いたことを特徴とする。

【００２９】請求項３６は、請求項３４乃至３５に記載
の光源レーザー装置において、レーザー発振管内のガス
圧力を低く抑えたことを特徴とする。次に本発明は、請
求項３７において、請求項１９乃至３３に記載のファブ
リー・ペロー・エタロンを、光源レーザー装置の内部又
は外部に配置したことを特徴とする光源レーザー装置を
提供する。

【００３０】次に本発明は、請求項３８において、請求
項３４乃至３７に記載の光源レーザー装置を使用したこ
とを特徴とする露光装置を提供する。次に本発明は、請
求項３９において、請求項３８に記載の露光装置を使用
したことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明に
係る反射光学素子について説明する。図１は、本発明の
クレイム１に係る反射光学素子の概念図である。このと
き、透明な基材１に対して光軸の方向からレーザー光を
入射させれば、各基材１の表面、即ち基材１と空隙２と
の境界面それぞれの間で、それぞれの面の反射光による
繰り返し反射干渉が発生する。そしてこれを利用するこ
とで、複数の透明な基材１を、それぞれの間に空隙２を
設けて光軸に沿って配置することにより、狭い波長帯域
において高い反射率を持つミラーとして機能する、反射
光学素子を形成することができる。図１中及び以下全て
の図中において、ＩＮは光線が入射される方向を、ＯＵ
Ｔは光線が射出される方向を示す。

【００３２】このとき、基材１と空隙２との境界面同士
の間で発生する繰り返し反射干渉によって、反射光同士
が強めあうようにするためには、基材１の光路長、及び
空隙２の光路長が、（ｍ＋１／４）・λ、あるいは、
（ｍ＋３／４）・λのどちらかであることが望ましい。

【００３３】そして、基材１の厚み、および基材１の枚
数を変えることで、反射波長の帯域のスペクトル幅やピ
ーク反射率を、概ね任意に最適化することができる。一
般に、基材１の厚みの次数ｍが大きくなるほど反射波長
の帯域は狭くなる。

【００３４】また、光源としてＦ₂レーザーを使用する
場合、有効に機能する光学薄膜が作成し難いため、基材
１の表面に光学薄膜を設けることが難しい。従ってこの
ような場合、基材１の表面には光学薄膜を設けない。た
だしそうすると、基材１の表面においては、高い反射率
が得られない。このような場合、配置する基材１の枚数
を多くし、繰り返し反射干渉を発生させる基材１と空隙
２との境界面を多くする。このようにすれば、基材１の
表面に光学薄膜を設けなくても、反射光の強度を強めら
れる。そして、基材１の枚数を適宜選択することで、本
発明の反射光学素子の反射率を、ある程度任意に選択す
ることができる。

【００３５】次に、入射光が平行光束であるとき、これ
を集光、あるいは散光させることなく、再び平行光束と
して反射させるためには、反射光学素子を形成する基材
１それぞれが、平行平面板によって構成されていること
が望ましい。そしてこのとき、有効な繰り返し反射干渉
を行わせるためには、それぞれの基材１の光路長が、正
確に一致していることが望ましい。このため、ほぼ厚み
の一定な大きな平面板上から、干渉計等を使用した計測
によって正確に厚みの等しい部分を探索し、この正確に
厚みの等しい部分から、それぞれの基材１を作成するこ
とが望ましい。

【００３６】また、基材１の形状を、表面及び裏面が全
て同一の球心を有する球面によって構成することによ
り、入射光に対して、集光、あるいは散光特性を与える
ことが可能である。

【００３７】次に、光源としてＦ₂レーザーを使用する
場合、その波長において透過率が高く、また耐紫外線性
の高い光学材料を使用する必要がある。そして、このよ
うな材料として、ＣａＦ₂、ＭｇＦ₂、ＢａＦ₂、Ｓｒ
Ｆ₂、ＬｉＦなどの、フッ化物結晶が挙げられる。従っ
て、基材１を構成する材料として、上記したようなフッ
化物結晶を使用することが望ましい。

【００３８】次に、本発明による反射光学素子において
は、基材１と空隙２との屈折率差が大きいほど、少ない
基材数で高い反射率が得られる。従って、空隙２は、少
なくとも一つが真空であることが望ましい。

【００３９】ただし、空隙２を真空にすると、外界との
圧力差が発生する。このため、本発明の反射光学素子の
組立、及び空隙２の厚みの維持が困難になる場合があ
る。このような場合、外界との圧力差を解消するため
に、空隙２を気体で満たして構成することも可能であ
る。そしてこのとき、空隙２を満たす気体は、光源から
の光が吸収されるのを防ぐために、不活性ガスであるこ
とが望ましい。不活性ガスとしては、窒素、水素、ヘリ
ウム、アルゴン、キセノンなどが挙げられる。

【００４０】さらに、空隙２は、基材１とは異なる屈折
率を持つ固体によって満たしてもよい。このような構成
にすると、特別な支持機構を設けなくても素子全体を一
体化できるため、組立、及び調整を容易に行うことがで
きる。このような固体としては、特に高い耐紫外線性が
要求される場合には、ＣａＦ₂、ＭｇＦ₂、ＢａＦ₂、Ｓ
ｒＦ₂、ＬｉＦなどの、フッ化物結晶が適している。

【００４１】ただし、大気中への暴露が考えられる場合
には、ＬｉＦ、ＢａＦ₂のように潮解性を有する結晶
は、反射光学素子の端面には用いないことが望ましい。
そしてこの場合、接着剤を使用すると、耐紫外線性にお
いて著しく劣るため、空隙２を満たす固体と基材１と
は、光学密着されていることが望ましい。

【００４２】次に、本発明の反射光学素子においては、
空隙２の厚みを正確に確保する必要がある。このため
に、空隙２の厚みに等しい厚みを有するスぺ−サーを、
空隙２に挿入して、スぺ−サーの端面と基材１の表面と
を、光学密着することにより、空隙２の厚みを確保する
ことが望ましい。またこのとき、正確に厚みの等しいス
ぺ−サーを複数製作するために、基材１そのものと同様
に、ほぼ厚みの一定な大きな平面板上から、干渉計等を
使用した計測によって正確に厚みの等しい部分を探索
し、この正確に厚みの等しい部分から、それぞれのスぺ
−サーを作成することが望ましい。

【００４３】次に、本発明の反射光学素子においては、
反射中心波長が目的とする波長から外れた場合、これを
補正して、反射中心波長を目的とする波長に戻す手段が
必要である。このため、空隙２の光路長、あるいは基材
１の光路長が可変であることが望ましい。そしてそのた
めの手段としては、 ・空隙２の厚みをピエゾ素子によって可変にする。 ・空隙２を満たす気体の温度を制御することによって、
基材１の温度を制御し、基材１の光路長を可変にする。 ・空隙２を満たす気体の圧力を制御することによって、
空隙２の光路長を可変にする。 という３つの手段が考えられる。またさらに、空隙２を
満たす気体を複数の種類とし、その混合比を調整するこ
とで、空隙２の光路長を可変にすることも可能である。

【００４４】また、空隙２が固体によって満たされてい
る場合には、基材１と空隙２を満たす固体とをあわせ
て、光軸に対して微小角度傾けることにより、反射中心
波長を制御することも可能である。

【００４５】以下に実施例１について説明する。図２
は、実施例１の構成図である。基材３はＣａＦ₂の平行
平面板で構成され、空隙４は真空である。ここで基材の
厚みをＬ、基材の屈折率をｎＬ、空隙の厚みをＤ、空隙
の屈折率をｎＤ、反射中心波長をλとすると、 Ｌ＝15076002.0nm（ｍ＝149703、ｎＬ＝1.559000） Ｄ＝1570039.25nm（ｍ＝10000、ｎＤ＝1.000000） λ＝157.000nm である。ただし、Ｌ、Ｄは、光路長ではなく見かけの厚
みを表わす。また、上記した屈折率は、いずれも反射中
心波長におけるものである。

【００４６】反射光学素子を構成する基材３は、６枚で
ある。そして、本実施例１は、たとえば、レーザー光源
内部あるいはレーザー光源外部の真空を保持した光路中
などの、真空中において使用される。

【００４７】実施例１の反射波長特性を図３に示す。実
施例１が、中心波長に対して半値幅で0.2pm以下の狭帯
域に対してのみ高い反射率を示し、その外側の帯域に対
しては非常に低い反射率しか持たないことがわかる。

【００４８】そして、実施例１の空隙４には、それぞれ
ピエゾ素子５が複数個配置されており、それぞれのピエ
ゾ素子５は、電圧印加装置６に接続されている。そし
て、電圧印加装置６は、外部に配置された波長モニタ装
置７に接続され、波長モニタ装置７から受け取る信号に
従って、それぞれのピエゾ素子５に適宜電圧を印加す
る。この電圧によって、それぞれのピエゾ素子５が、光
軸方向に対して伸長、あるいは収縮し、空隙４の厚みを
変化させることで、反射中心波長を変化させる。

【００４９】このときの制御のフローチャートを図４に
示す。まず、１０１で、波長モニタ装置７によって、反
射中心波長の観測を行なう。そして、波長モニタ装置７
は、１０２において、反射中心波長の制御を行なう必要
があるかどうかを判断し、もし必要が無ければ、再び１
０１に戻る。もし反射中心波長がずれはじめて、波長制
御を行なう必要が生じたと判断されれば、次に１０３に
おいて、波長が長いかどうかの判断を行なう。このと
き、波長が長くなければ、１０４において、電圧印加装
置６は、空隙４を広げる方向に電圧を印加する。また、
１０３において、波長が長いと判断されれば、１０５に
おいて、電圧印加装置６は、空隙４を狭める方向に電圧
を印加する。そして、１０４、１０５のいずれかの動作
が終了した後、すべての装置は、再び１０１の動作に戻
る。そして、これらの動作は常に繰り返される。

【００５０】ここで、空隙４の厚みを制御した際の反射
中心波長の変化を、図５に示す。実線が基準位置であ
り、点線は、空隙４の厚みを＋３ｎｍとした場合の、反
射波長特性、一点鎖線は、空隙４の厚みを−３ｎｍとし
た場合の反射波長特性を示す。図５から、空隙４の厚み
を制御することによって、反射中心波長をずらすことが
十分に可能であることがわかる。そして、この動作を利
用して、反射中心波長が目的の波長からずれた場合、再
び反射中心波長を目的の波長に調整することができる。

【００５１】次に、実施例２について説明する。図６
は、実施例２の構成図である。基材１１はＣａＦ₂の平
行平面板で構成され、空隙１２は、アルゴンガスによっ
て満たされている。そしてここで、基材の厚みをＬ、基
材の屈折率をｎＬ、空隙の厚みをＤ、空隙の屈折率をｎ
Ｄ、反射中心波長をλとすると、 Ｌ＝15076002.0nm（ｍ＝149703、ｎＬ＝1.559000） Ｄ＝1569568.4nm（ｍ＝10000、ｎＤ＝1.000300） λ＝157.000nm である。ただし、Ｌ、Ｄは、光路長ではなく見かけの厚
みを表わす。また、上記した屈折率は、いずれも反射中
心波長における値である。

【００５２】反射光学素子を構成する基材１１は、６枚
である。それぞれの空隙１２は、厚みの等しい複数のス
ぺ−サー１３によって確保されている。また、それぞれ
のスぺ−サー１３は、基材１１に光学密着されている。

【００５３】そして、反射光学素子全体は、ハウジング
１４によって外部から遮断され、最も外側に位置する基
材１１とハウジング１４との間は、Ｏリング１５によっ
てシールされている。ただし、図６において、基材１１
と空隙１２とが繰り返しの構成になる部分は、図示を省
略している。

【００５４】実施例２の反射波長特性を図７に示す。実
施例２が、中心波長に対して半値幅で0.2pm以下の狭帯
域に対してのみ高い反射率を示し、その外側の帯域に対
しては非常に低い反射率しか持たないことがわかる。

【００５５】そして、ハウジング１４には、ガス温度調
整器１９と、注入側電磁弁１８とを介してアルゴンガス
を供給する手段と、圧力計１６、排出側電磁弁１７から
なるガス排出手段が備えられている。そして、ガス温度
調整器１９、注入側電磁弁１８、圧力計１６、排出側電
磁弁１７は、ガス制御装置２０に接続されており、さら
にガス制御装置２０には、外部に配置された波長モニタ
装置７が接続されている。

【００５６】これらの装置により、実施例２は、ガス温
度を変化させることによる基材１１の温度制御を行なう
ことで、反射中心波長を制御できる。基材１１の温度制
御による反射中心波長の制御のフローチャートを、図８
に示す。

【００５７】１１１で、波長モニタ装置７によって、反
射中心波長の観測を行なう。そして、波長モニタ装置７
は、１１２において、反射中心波長の制御を行なう必要
があるかどうかを判断し、もし必要が無ければ、再び１
１１に戻る。もし反射中心波長がずれはじめて、波長制
御を行なう必要が生じたと判断されれば、次に１１３に
おいて、波長が長いかどうかの判断を行なう。このと
き、波長が長くなければ、１１４において、ガス制御装
置２０は、ガス温度調整器にガス温度を上昇させるよう
に司令し、あわせて、注入側電磁弁１８と排出側電磁弁
１７を開き、圧力計１６をモニタしながら、圧力が一定
になるように、温度の高いガスを、ハウジング１４に注
入する。これにより、基材１１の温度も上昇する。ま
た、１１３において、波長が長いと判断されれば、１１
５において、ガス制御装置２０は、ガス温度調整器にガ
ス温度を低下させるように司令し、あわせて、注入側電
磁弁１８と排出側電磁弁１７を開き、圧力計１６をモニ
タしながら、圧力が一定になるように、温度の低いガス
を、ハウジング１４に注入する。これにより、基材１１
の温度も低下する。そして、１１４、１１５のいずれか
の動作が終了した後、すべての装置は、再び１１１の動
作に戻る。そして、これらの動作は常に繰り返される。

【００５８】ここで、基材１１の温度を制御した際の反
射中心波長の変化を、図９に示す。実線が基準位置であ
り、点線は、基材１１の温度を−０．１℃下降させた場
合の反射波長特性、一点鎖線は、基材１１の温度を＋
０．１℃上昇させた場合の反射波長特性を示す。ただし
このとき、ＣａＦ２の温度が１℃変化したときの屈折率
の変化量Δｎは、Δｎ＝８．０×１０^-6である。

【００５９】図９から、基材１１の温度を制御すること
によって、反射中心波長をずらすことが十分に可能であ
ることがわかる。そして、この動作を利用して、反射中
心波長が目的の波長からずれた場合、再び反射中心波長
を目的の波長に調整することができる。

【００６０】また、空隙１２に充填されているアルゴン
ガスの圧力を変化させると、空隙１２の屈折率が変化す
る。このとき、空隙１２の圧力を上昇させると、空隙１
２の屈折率が上昇して、反射中心波長は長くなる。ま
た、空隙１２の圧力を低下させると、空隙１２の屈折率
が低下して、反射中心波長は短くなる。これにより、実
施例２の反射中心波長を制御することが可能である。

【００６１】ガス圧力制御による反射中心波長の制御の
フローチャートを、図１０に示す。１２１で、波長モニ
タ装置７によって、反射中心波長の観測を行なう。そし
て、波長モニタ装置７は、１２２において、反射中心波
長の制御を行なう必要があるかどうかを判断し、もし必
要が無ければ、再び１２１に戻る。もし反射中心波長が
ずれはじめて、波長制御を行なう必要が生じたと判断さ
れれば、次に１２３において、波長が長いかどうかの判
断を行なう。このとき、波長が長くなければ、１２４に
おいて、ガス制御装置２０は、注入側電磁弁１８を開
き、ガスを、ハウジング１４に注入する。また、１２３
において、波長が長いと判断されれば、１２５におい
て、ガス制御装置２０は、排出側電磁弁１７を開き、ガ
スを、ハウジング１４から排出する。そして、１２４、
１２５のいずれかの動作が終了した後、すべての装置
は、再び１２１の動作に戻る。そして、これらの動作は
常に繰り返される。またこのとき、ガス温度調整器１９
は、常にガス温度を一定に保っている。

【００６２】次に、実施例３について説明する。図１１
は、実施例３の構成図である。基材２１はＭｇＦ₂の平
行平面板で構成され、空隙２２はＬｉＦで満たされてい
る。このとき、空隙２２は固体で満たされているので、
実施例３の片側の端面はＭｇＦ₂、反対側の端面はＬｉ
Ｆで構成されており、基材２１は８枚、空隙２２も８枚
である。

【００６３】そしてここで、基材の厚みをＬ、基材の屈
折率をｎＬ、空隙の厚みをＤ、空隙の屈折率をｎＤ、反
射中心波長をλとすると、 Ｌ＝2500025.0nm（ｍ＝25000、ｎＬ＝1.570000） Ｄ＝10023876.0nm（ｍ＝83000、ｎＤ＝1.300000） λ＝157.000nm である。ただし、Ｌ、Ｄは、光路長ではなく見かけの厚
みを表わす。また、上記した屈折率は、いずれも反射中
心波長における値である。

【００６４】それぞれの基材２１と空隙２２とは、光学
密着されている。ただし図１１において、基材２１と空
隙２２とが繰り返しの構成になる部分は、図示を省略し
ている。

【００６５】実施例３の反射波長特性を図１２に示す。
実施例３が、中心波長に対して半値幅で0.2pm以下の狭
帯域に対してのみ高い反射率を示し、その外側の帯域に
対しては非常に低い反射率しか持たないことがわかる。

【００６６】またこのとき、実施例３の反射光学素子
は、パルスモータ２４によって駆動されるターンテーブ
ル２３上に配置されている。パルスモータ２４は、パル
スモータ制御装置２５に接続されており、パルスモータ
制御装置２５には、外部に配置された波長モニタ装置７
が接続されている。

【００６７】そして、実施例３の反射光学素子を、光軸
に対して傾けることで、光軸に沿った光路長を調整する
ことができ、これを利用して反射中心波長を制御するこ
とができる。この場合、実施例３の反射光学素子を、光
軸に対して傾ける角度を大きくすると、反射中心波長を
短くすることができる。

【００６８】図１３に実施例３の反射光学素子を光軸に
対して傾けることによる、反射中心波長の制御のフロー
チャートを示す。まず、実施例３の反射光学素子は、光
軸に対して初期値θ＝１０′の傾きを与えられて配置さ
れている。

【００６９】１３１で、波長モニタ装置７によって、反
射中心波長の観測を行なう。そして、波長モニタ装置７
は、１３２において、反射中心波長の制御を行なう必要
があるかどうかを判断し、もし必要が無ければ、再び１
３１に戻る。もし反射中心波長がずれはじめて、波長制
御を行なう必要が生じたと判断されれば、次に１３３に
おいて、波長が長いかどうかの判断を行なう。このと
き、波長が長くなければ、１３４において、パルスモー
タ制御装置２５は、θを小さくする方向にパルスモータ
を制御し、ターンテーブルを回転させる。また、１３３
において、波長が長いと判断されれば、１３５におい
て、パルスモータ制御装置２５は、θを大きくする方向
にパルスモータを制御し、ターンテーブルを回転させ
る。そして、１３４、１３５のいずれかの動作が終了し
た後、すべての装置は、再び１３１の動作に戻る。そし
て、これらの動作は常に繰り返される。ただし、１３４
において、ターンテーブルをθが十分に大きくなるよう
に回転させることにより、次の次数のピーク波長を利用
することで、反射中心波長を長くすることも可能であ
る。

【００７０】この、反射光学素子の光軸に対する傾きを
変化させることによる反射中心波長の制御は、素子全体
でなく、素子の一部のみを光軸に対して傾けることによ
っても可能である。

【００７１】また、実施例３における反射中心波長の制
御手段は、実施例１乃至２に示したような構成の反射光
学素子にも適用可能である。次に、実施例４について説
明する。

【００７２】実施例４の反射光学素子は、素子の構成自
体は実施例１のものと同一である。ただし、実施例４の
空隙は、ピエゾ素子ではなくスペーサーによって確保さ
れている。そして、図１４に示すように、素子の外周
に、素子全体を密封するハウジング３１と、加熱及び冷
却が可能なヒータ３２と、ヒータ制御装置３３と、温度
計３４とを設け、それぞれを外部に配置した波長モニタ
装置７と接続して、素子全体の温度を制御することによ
って反射中心波長の制御を行う。この場合の制御のフロ
ーチャートを図１５に示す。

【００７３】１４１で、波長モニタ装置７によって、反
射中心波長の観測を行なう。そして、波長モニタ装置７
は、１４２において、反射中心波長の制御を行なう必要
があるかどうかを判断し、もし必要が無ければ、再び１
４１に戻る。もし反射中心波長がずれはじめて、波長制
御を行なう必要が生じたと判断されれば、次に１４３に
おいて、波長が長いかどうかの判断を行なう。このと
き、波長が長くなければ、１４４において、ヒータ制御
装置３３は、ヒータ３２によって素子全体の温度を上昇
させる。また、１４３において、波長が長いと判断され
れば、１４５において、ヒータ制御装置３３は、ヒータ
３２によって素子全体の温度を低下させる。そして、１
４４、１４５のいずれかの動作が終了した後、すべての
装置は、再び１４１の動作に戻る。そして、これらの動
作は常に繰り返される。

【００７４】次に、本発明の反射光学素子に使用され
る、基材、空隙を満たす固体、スぺーサーなどの部材
は、それぞれの仕様に応じて、基材同士、空隙を満たす
固体同士、スぺ−サー同士の厚みが同一であることが望
ましい。このような場合、まずほぼ厚みの一定な大きな
平面板を用意する。そして、この平面板に、等厚の干渉
縞を生じさせ、厚みの等しい部分を観測した上で、図１
６に示すように、その同一の縞上から、必要な数量の前
記部材を製作する。このようにして製作した、基材、空
隙を満たす固体、スぺーサーを用いることで、高精度な
反射光学素子を実現できる。

【００７５】次に、実施例５について説明する。図１７
は、実施例５の構成図である。基材４１乃至４６は、表
面及び裏面が全て同一の球心Ｃを有するＣａＦ₂によっ
て構成されている。また、空隙４７乃至５１は真空であ
る。

【００７６】そして、基材４１乃至４６の光軸上の厚み
は全て同一であり、これをＬＣとすると、ＬＣ＝150760
02.0nm（ｍ＝149703）である。また、基材４１乃至４６
の屈折率をｎＬＣとすると、ｎＬＣ＝1.559000である。
また、空隙４７乃至５１の厚みも全て同一であり、これ
をＤＣとすると、ＤＣ＝1570939.25nm（ｍ＝10000）で
ある。また、空隙４７乃至５１の屈折率をｎＤＣとする
と、ｎＤＣ＝1.000000である。さらに、反射中心波長λ
＝157.000nmである。ただし、ＬＣ、ＤＣはいずれも光
路長ではなく見かけの厚みを表わす。また、上記した屈
折率は、いずれも反射中心波長における値である。

【００７７】また、実施例５において、基材４１乃至４
６の各面の曲率半径を、基材４１の曲率中心側の面から
順に、ｒ１、ｒ２、ｒ３・・・・ｒ１２とすると、各面
は全て同一の球心Ｃを有するので、 ｒ１＝100000000.0nm ｒ２＝ｒ１＋ＬＣ＝115076002.0nm ｒ３＝ｒ１＋ＬＣ＋ＤＣ＝116646941.25nm ｒ４＝ｒ１＋２・ＬＣ＋ＤＣ＝131722943.25nm ｒ５＝ｒ１＋２・ＬＣ＋２・ＤＣ＝133293882.5nm ｒ６＝ｒ１＋３・ＬＣ＋２・ＤＣ＝148369884.5nm ｒ７＝ｒ１＋３・ＬＣ＋３・ＤＣ＝149940823.75nm ｒ８＝ｒ１＋４・ＬＣ＋３・ＤＣ＝165016825.75nm ｒ９＝ｒ１＋４・ＬＣ＋４・ＤＣ＝166587765.0nm ｒ１０＝ｒ１＋５・ＬＣ＋４・ＤＣ＝181663767.0nm ｒ１１＝ｒ１＋５・ＬＣ＋５・ＤＣ＝183234706.25nm ｒ１２＝ｒ１＋６・ＬＣ＋５・ＤＣ＝198310708.25nm である。

【００７８】このとき、空隙４７乃至５１は、スぺーサ
ーによってその厚みが確保されている。実施例５は、た
とえばレーザー光源内部などの、真空中において使用さ
れる。

【００７９】実施例５の反射波長特性は、図３に示した
実施例１のものと同じである。しかし、実施例５は、各
基材の面が同一の球心Ｃを持つ球面で構成されているた
め、各基材の面の球心Ｃから発した光のうち、実施例５
の反射波長の帯域に合致した光のみ、再び球心Ｃに向か
って反射することができる。したがって、実施例５を用
いれば、各基材の面の球心Ｃに、反射中心波長に対して
半値幅で0.2pm以下という極めて狭い帯域の光のみを集
光することが可能になる。

【００８０】このような反射光学素子は、各基材の面が
全て同一の焦点を持つ放物面、楕円面、双曲面、トロイ
ダル面、その他の高次非球面などによっても構成が可能
である。

【００８１】次に、本発明に係るファブリー・ペロー・
エタロンについて説明する。図１８は、本発明のクレイ
ム１９に係るファブリー・ペロー・エタロンの概念図で
ある。

【００８２】このとき、反射光学素子６１は、本発明の
クレイム1に係る反射光学素子である。反射光学素子６
１に対して光軸の方向からレーザー光を入射させれば、
それぞれの反射光学素子６1の間に形成された空隙によ
る共振部６２において、多光束干渉が発生する。そして
これを利用することで、複数の反射光学素子６１を、そ
れぞれの間に共振部６２を設けて光軸に沿って配置する
ことにより、狭い波長帯域においてのみ透過率を有す
る、ファブリー・ペロー・エタロンを形成することがで
きる。

【００８３】このとき、共振部６２において発生する多
光束干渉によって、透過光同士が強めあうようにするた
めには、共振部６２の光路長が、（ｍ＋１／２）・λで
あることが望ましい。

【００８４】また、共振部６２の光路長の大きさによっ
て、本発明のファブリー・ペロー・エタロンの透過波長
帯域は調整可能であり、一般に、共振部６２の次数ｍが
大きくなるほど、透過波長帯域は狭くなる。さらに、本
発明のファブリー・ペロー・エタロンの透過波長帯域
は、反射光学素子６１を構成する基材の厚みによっても
調整可能であり、一般に、反射光学素子６１を構成する
基材の厚みの次数ｍが大きくなるほど、透過波長帯域は
狭くなる。

【００８５】また、本発明のファブリー・ペロー・エタ
ロンにおいては、共振部６２を複数設けることも可能で
ある。次に、本発明によるファブリー・ペロー・エタロ
ンにおいては、反射光学素子６１の基材と、共振部６２
との屈折率差が大きいほど、高い効率で、透過波長を狭
帯域化することができる。従って、共振部６２は、少な
くとも一つが真空であることが望ましい。

【００８６】ただし、共振部６２を真空にすると、外界
との圧力差が発生する。このため、本発明のファブリー
・ペロー・エタロンの組立、及び共振部６２の厚みの維
持が困難になる場合がある。このような場合、外界との
圧力差を解消するために、共振部６２を気体で満たして
構成することも可能である。そしてこのとき、共振部６
２を満たす気体は、光源からの光が吸収されるのを防ぐ
ために、不活性ガスであることが望ましい。不活性ガス
としては、窒素、水素、ヘリウム、アルゴン、キセノン
などが挙げられる。

【００８７】さらに、共振部６２は、反射光学素子６１
の端面を構成する固体とは異なる屈折率を持つ固体によ
って満たしてもよい。このような構成にすると、特別な
支持機構を設けなくてもファブリー・ペロー・エタロン
全体を一体化できるため、組立、及び調整を容易に行う
ことができる。このような固体としては、特に高い耐紫
外線性が要求される場合には、ＣａＦ₂、ＭｇＦ₂、Ｂａ
Ｆ₂、ＳｒＦ₂、ＬｉＦなどの、フッ化物結晶が適してい
る。そしてこの場合、接着剤を使用すると、耐紫外線に
おいて著しく劣るため、共振部６２を満たす固体と基板
とは、光学密着されていることが望ましい。

【００８８】ただし、本発明のファブリー・ペロー・エ
タロンを大気中に曝露することが考えられる場合には、
ＬｉＦ、ＢａＦ₂などのように潮解性を有する結晶は、
本発明のファブリー・ペロー・エタロンの端面には用い
ないことが望ましい。

【００８９】次に、本発明のファブリー・ペロー・エタ
ロンにおいては、共振部６２の厚みを正確に確保する必
要がある。このために、共振部６２の厚みに等しい厚み
を有するスぺ−サーを、共振部６２に挿入して、スぺ−
サーの端面と反射光学素子６１の表面とを、光学密着す
ることにより、該空隙の厚みを確保することが望まし
い。またこのとき、正確に厚みの等しいスぺ−サーを複
数製作するために、基材そのものと同様に、ほぼ厚みの
一定な大きな平面板上から、干渉計等を使用した計測に
よって正確に厚みの等しい部分を探索し、この正確に厚
みの等しい部分から、それぞれのスぺ−サーを作成する
ことが望ましい。この方法については、図１６に示し
て、前述したとおりである。

【００９０】次に、本発明のファブリー・ペロー・エタ
ロンにおいては、透過中心波長が目的とする波長から外
れた場合、これを補正して、透過中心波長を目的とする
波長に戻す手段が必要である。このため、共振部６２、
あるいは反射光学素子６１の光路長が可変であることが
望ましい。そしてそのための手段としては、・共振部６
２の厚みをピエゾ素子によって可変にする。・共振部６
２を満たす気体の温度を制御することによって、ファブ
リー・ペロー・エタロン全体の温度を制御し、反射光学
素子６１の光路長を可変にする。・共振部６２を満たす
気体の圧力を制御することによって、共振部６２の光路
長を可変にする。という３つの手段が考えられる。また
さらに、共振部６２を満たす気体を複数の種類とし、そ
の混合比を調整することで、共振部６２の光路長を可変
にすることも可能である。

【００９１】また、反射光学素子６１を個別に、あるい
は本発明のファブリー・ペロー・エタロン全体を、光軸
に対して微小角度傾けることにより、反射中心波長を制
御することも可能である。

【００９２】次に、本発明の実施例６について説明す
る。図１９は、実施例６の構成図である。反射光学素子
６３及び６４は、基材がＭｇＦ₂、空隙がＬｉＦによっ
て構成されており、基材は８枚、空隙は８枚で、実施例
３の反射光学素子と同様の構成である。

【００９３】ただし、反射光学素子６３乃至６４を構成
する基材の厚みＬ、基材の屈折率ｎＬ、空隙の厚みＤ、
空隙の屈折率ｎＤ、反射中心波長λは、 Ｌ＝500025.0nm（ｍ＝5000、ｎＬ＝1.570000） Ｄ＝1002414.8nm（ｍ＝8300、ｎＤ＝1.300000） λ＝157.000nm である。

【００９４】また、実施例６の透過中心波長λ２は、反
射光学素子６３乃至６４の反射中心波長λと等しく、 λ２＝157.000nm である。

【００９５】ただし、Ｌ、Ｄは、光路長ではなく見かけ
の厚みを表わす。また、上記した屈折率は、いずれも透
過中心波長における値である。そして、反射光学素子６
３及び反射光学素子６４は、共振部６５をはさんで、Ｌ
ｉＦで構成される端面を互いに内側に向けて配置されて
いる。

【００９６】また、共振部６５は真空であり、共振部６
５の厚みをＤ２、共振部６５の屈折率をｎＤ２とする
と、 Ｄ２＝1570000.0nm（ｍ＝10000、ｎＤ２＝1.000000） である。

【００９７】ただし、Ｄ２は、光路長ではなく見かけの
厚みを表わす。また、ｎＤ２は、透過中心波長における
値である。実施例６の透過波長特性を、図２０に示す。

【００９８】これにより、実施例６は、半値幅で0.1pm
以下という、非常に狭帯域の透過波長特性を有している
ことがわかる。また、実施例６は、レーザー光源内部な
どの真空中で使用される。

【００９９】そして、共振部６５には、複数のピエゾ素
子６６が挿入されている。また、ピエゾ素子６６は、電
圧印加装置６に接続されている。電圧印加装置６は、外
部に配置された波長モニタ装置７から受け取る信号に従
って、それぞれのピエゾ素子６６に適宜電圧を印加す
る。この電圧によって、それぞれのピエゾ素子６６が、
光軸方向に対して伸長、あるいは収縮し、共振部６５の
厚みを変化させることで、透過中心波長を変化させる。

【０１００】このときの制御のフローチャートを図２１
に示す。まず、１５１で、波長モニタ装置７によって、
透過中心波長の観測を行なう。そして、波長モニタ装置
７は、１５２において、透過中心波長の制御を行なう必
要があるかどうかを判断し、もし必要が無ければ、再び
１５１に戻る。もし反射中心波長がずれはじめて、波長
制御を行なう必要が生じたと判断されれば、次に１５３
において、波長が長いかどうかの判断を行なう。このと
き、波長が長くなければ、１５４において、電圧印加装
置６は、共振部６５を広げる方向に電圧を印加する。ま
た、１５３において、波長が長いと判断されれば、１５
５において、電圧印加装置６は、共振部６５を狭める方
向に電圧を印加する。そして、１５４、１５５のいずれ
かの動作が終了した後、すべての装置は、再び１５１の
動作に戻る。そして、これらの動作は常に繰り返され
る。

【０１０１】次に、本発明の実施例７について説明す
る。図２２は、実施例７の構成図である。反射光学素子
７１は、実施例６の反射光学素子６３と、反射光学素子
７２は、実施例６の反射光学素子６４と同一である。た
だし、共振部７３は、アルゴンガスで満たされており、
共振部７３の厚みをＤ₂、共振部７３の屈折率をｎＤ₂と
すると、 Ｄ₂＝1569529.1nm（ｍ＝10000、ｎＤ₂＝1.000300） である。また、実施例７の透過中心波長λ２は、 λ₂＝157.000nm である。

【０１０２】ただし、Ｄ₂は、光路長ではなく見かけの
厚みを表わす。また、ｎＤ₂は、透過中心波長における
値である。共振部７３は、厚みの等しい複数のスぺ−サ
ー７４によって確保されている。また、それぞれのスぺ
−サー７４は、反射光学素子７１及び７２に光学密着さ
れている。

【０１０３】実施例７の透過波長特性を、図２３に示
す。これにより、実施例７は、半値幅で0.1pm以下とい
う、非常に狭帯域の透過波長特性を有していることがわ
かる。

【０１０４】そして、ファブリー・ペロー・エタロン全
体は、ハウジング７５によって外部から遮断され、反射
光学素子７１乃至７２とハウジング７５との間は、Ｏリ
ング７６によってシールされている。

【０１０５】そして、ハウジング７５には、ガス温度調
整器８０と、注入側電磁弁７９とを介してアルゴンガス
を供給する手段と、圧力計７７、排出側電磁弁７８から
なるガス排出手段が備えられている。そして、ガス温度
調整器８０、注入側電磁弁７９、圧力計７７、排出側電
磁弁７８は、ガス制御装置２０に接続されており、さら
にガス制御装置２０には、外部に配置された波長モニタ
装置７が接続されている。

【０１０６】これらの装置により、実施例７は、反射光
学素子７１乃至７２の温度制御を行なうことで、透過中
心波長を制御できる。ガス温度変化による反射光学素子
７１乃至７２の温度制御の、透過中心波長の制御のフロ
ーチャートを、図２４に示す。

【０１０７】１６１で、波長モニタ装置７によって、透
過中心波長の観測を行なう。そして、波長モニタ装置７
は、１６２において、透過中心波長の制御を行なう必要
があるかどうかを判断し、もし必要が無ければ、再び１
６１に戻る。もし透過中心波長がずれはじめて、波長制
御を行なう必要が生じたと判断されれば、次に１６３に
おいて、波長が長いかどうかの判断を行なう。このと
き、波長が長くなければ、１６４において、ガス制御装
置２０は、ガス温度調整器８０にガス温度を上昇させる
ように司令し、あわせて、注入側電磁弁７９と排出側電
磁弁７８を開き、圧力計７７をモニタしながら、圧力が
一定になるように、温度の高いガスを、ハウジング７５
に注入する。これにより、反射光学素子７１乃至７２の
温度も上昇する。また、１６３において、波長が長いと
判断されれば、１６５において、ガス制御装置２０は、
ガス温度調整器にガス温度を低下させるように司令し、
あわせて、注入側電磁弁７９と排出側電磁弁７８を開
き、圧力計７７をモニタしながら、圧力が一定になるよ
うに、温度の低いガスを、ハウジング７５に注入する。
これにより、反射光学素子７１乃至７２の温度も低下す
る。そして、１６４、１６５のいずれかの動作が終了し
た後、すべての装置は、再び１６１の動作に戻る。そし
て、これらの動作は常に繰り返される。

【０１０８】また、共振部７３に充填されているアルゴ
ンガスの圧力を変化させると、共振部７３の屈折率が変
化する。このとき、共振部７３の圧力を上昇させると、
共振部７３の屈折率が上昇して、透過中心波長は長くな
る。また、共振部７３の圧力を低下させると、共振部７
３の屈折率が低下して、透過中心波長は短くなる。これ
により、実施例７の透過中心波長を制御することが可能
である。

【０１０９】実施例７の、共振部７３のガス圧力制御に
よる透過中心波長の制御のフローチャートを、図２５に
示す。１７１で、波長モニタ装置７によって、透過中心
波長の観測を行なう。そして、波長モニタ装置７は、１
７２において、透過中心波長の制御を行なう必要がある
かどうかを判断し、もし必要が無ければ、再び１７１に
戻る。もし透過中心波長がずれはじめて、波長制御を行
なう必要が生じたと判断されれば、次に１７３におい
て、波長が長いかどうかの判断を行なう。このとき、波
長が長くなければ、１７４において、ガス制御装置２０
は、注入側電磁弁７９を開き、ガスを、ハウジング７５
に注入する。また、１７３において、波長が長いと判断
されれば、１７５において、ガス制御装置２０は、排出
側電磁弁７８を開き、ガスを、ハウジング７５から排出
する。そして、１７４、１７５のいずれかの動作が終了
した後、すべての装置は、再び１７１の動作に戻る。そ
して、これらの動作は常に繰り返される。またこのと
き、ガス温度調整器８０は、常にガス温度を一定に保っ
ている。

【０１１０】次に、本発明の実施例８について説明す
る。図２６は、実施例８の構成図である。反射光学素子
８１は、実施例６の反射光学素子６３と、反射光学素子
８２は、実施例６の反射光学素子６４と同一である。た
だし、共振部８３は、ＭｇＦ₂によって満たされてお
り、共振部８３の厚みをＤ₂、共振部８３の屈折率をｎ
Ｄ₂とすると、 Ｄ₂＝10000050.0nm（ｍ＝10000、ｎＤ₂＝1.570000） である。

【０１１１】また、実施例８の透過中心波長λ２は、 λ₂＝157.000nm である。

【０１１２】ただし、Ｄ₂は、光路長ではなく見かけの
厚みを表わす。また、ｎＤ₂は、透過中心波長における
値である。反射光学素子８１乃至８２と共振部８３と
は、光学密着されている。

【０１１３】実施例８の透過波長特性を図２７に示す。
実施例８が、透過中心波長に対して半値幅で０．１ｐｍ
以下の狭帯域に対してのみ高い透過率を示し、その外側
の帯域に対しては非常に低い透過率しか持たないことが
わかる。

【０１１４】またこのとき、実施例８の反射光学素子
は、パルスモータ８５によって駆動されるターンテーブ
ル８４上に配置されている。パルスモータ８５は、パル
スモータ制御装置２５に接続されており、パルスモータ
制御装置２５には、外部に配置された波長モニタ装置７
が接続されている。

【０１１５】そして、実施例８のファブリー・ペロー・
エタロンを、光軸に対して傾けることで、光軸に沿った
光路長を調整することができ、これを利用して反射中心
波長を制御することができる。この場合、実施例８のフ
ァブリー・ペロー・エタロンを、光軸に対して傾ける角
度を大きくすると、透過中心波長を短くすることができ
る。

【０１１６】図２８に実施例８のファブリー・ペロー・
エタロンを、光軸に対して傾けることによる、反射中心
波長の制御のフローチャートを示す。まず、実施例８の
ファブリー・ペロー・エタロンは、光軸に対して初期値
としてθ＝１０′の傾きを与えられて配置されている。

【０１１７】１８１で、波長モニタ装置７によって、透
過中心波長の観測を行なう。そして、波長モニタ装置７
は、１８２において、透過中心波長の制御を行なう必要
があるかどうかを判断し、もし必要が無ければ、再び１
８１に戻る。もし透過中心波長がずれはじめて、波長制
御を行なう必要が生じたと判断されれば、次に１８３に
おいて、波長が長いかどうかの判断を行なう。このと
き、波長が長くなければ、１８４において、パルスモー
タ制御装置２５は、θを小さくする方向にパルスモータ
を制御し、ターンテーブルを回転させる。また、１８３
において、波長が長いと判断されれば、１８５におい
て、パルスモータ制御装置２５は、θを大きくする方向
にパルスモータを制御し、ターンテーブルを回転させ
る。そして、１８４、１８５のいずれかの動作が終了し
た後、すべての装置は、再び１８１の動作に戻る。そし
て、これらの動作は常に繰り返される。

【０１１８】また、このほか、本発明の反射光学素子の
反射中心波長制御に用いられる手法は、全て本発明のフ
ァブリー・ペロー・エタロンの透過中心波長制御に使用
可能である。

【０１１９】次に、本発明の実施例９について説明す
る。図２９は、実施例９の構成図である。実施例９は、
反射光学素子９１乃至９３を光軸に沿って並列した構成
であり、共振部９４乃至９５をもつ。

【０１２０】このとき、反射光学素子９１は、基材がＣ
ａＦ₂、空隙が真空で構成されており、基材の厚みＬ、
基材の屈折率ｎＬ、空隙の厚みＤ、空隙の屈折率ｎＤ、
反射中心波長λは、 Ｌ＝604258.6nm（ｍ＝6000、ｎＬ＝1.559000） Ｄ＝39.25nm（ｍ＝0、ｎＤ＝1.000000） λ＝157.000nm である。ただし、Ｌ、Ｄは、光路長ではなく見かけの厚
みを表わす。また、上記した屈折率は、いずれも反射中
心波長における値である。

【０１２１】反射光学素子９２は、反射光学素子９１と
同一の基材及び空隙によって構成され、それぞれの厚み
も同一であるが、基材枚数が６枚である。反射光学素子
９３は、反射光学素子９１と同一の反射光学素子であ
る。

【０１２２】そして、共振部９４乃至９５は、それぞれ
真空で構成され、厚みも同一であって、共振部９４乃至
９５の厚みをＤ₂、屈折率をｎＤ₂とすると、 Ｄ₂＝78.5nm（ｍ＝0、ｎＤ₂＝1.000000） である。

【０１２３】また、実施例９の透過中心波長λ₂は、 λ₂＝157.000nm である。

【０１２４】ただし、Ｄ₂は、光路長ではなく見かけの
厚みを表わす。また、ｎＤ₂は、透過中心波長における
値である。そして、それぞれの空隙および共振部の厚み
は、それぞれの素子を構成する基材の、表面の一部に蒸
着膜９６を形成することで、その厚みによって確保され
ている。ただしこの蒸着膜は、光学薄膜ではなく、単に
スぺーサーとしての役割しか果たしていない。

【０１２５】実施例９は、真空中において用いられる。
図３０に、実施例９の透過率特性を示す。本発明のファ
ブリー・ペロー・エタロンを構成する反射光学素子は、
本発明のクレイム１の構成を備えていれば、それぞれの
実施例に限定されないことは言うまでもない。

【０１２６】また、本発明の各実施例は、反射光学素
子、及びファブリー・ペロー・エタロンを含めて、組み
合わせて用いても良いことは言うまでもない。たとえ
ば、まず実施例９のファブリー・ペロー・エタロンに対
して光線を透過させて狭帯域化し、次に実施例１の反射
光学素子にその光線を反射させて、さらに狭帯域化す
る、といった使用法が考えられる。

【０１２７】次に、本発明に係る反射光学素子及びファ
ブリー・ペロー・エタロンを使用することで、非常に狭
い波長帯域に発振波長が狭帯域化された、光源レーザー
装置を構成することができる。

【０１２８】以下にその実施例を示す。実施例１０は、
本発明の実施例２の反射光学素子を光源レーザー装置の
外部に配置し、出力するレーザー光の波長の狭帯域化を
行なう光源レーザー装置である。出力するレーザー光
は、波長157nmのＦ₂レーザーである。

【０１２９】図３１に、実施例１０の構成図を示す。光
源レーザー本体２０１から発振されたレーザー光は、ビ
ームスプリッター２０２を透過して反射光学素子２０３
に入射する。反射光学素子２０３は、実施例２の反射光
学素子である。そして、反射光学素子２０３は、図７に
示された反射光の特性に従って、入射したレーザー光の
うち、極めて狭帯域の波長のみを反射する。反射光学素
子２０３に反射されたレーザー光は、再びビームスプリ
ッター２０２に入射し、９０°偏向されて、出力光とし
て取り出される。このようにして、実施例１０の光源レ
ーザー装置は、出力波長が極めて狭帯域化されたレーザ
ー光を出力することができる。

【０１３０】また、実施例１０に使用される反射光学素
子は、本発明のクレイム１の構成を備えていれば、実施
例２に限定されないことは言うまでもない。実施例１１
は、光源レーザー装置の内部に、本発明の実施例１の反
射光学素子をエンドリフレクターとして配置し、実施例
３の反射光学素子をアウトプットカプラーとして配置し
て、出力するレーザー光の狭帯域化を行なう光源レーザ
ー装置である。出力するレーザー光は、波長157nmのＦ₂
レーザーである。また、実施例１１は、真空中で使用さ
れる。

【０１３１】図３２に、実施例１１の構成図を示す。レ
ーザー発振管２１１をはさんで、アウトプットカプラー
２１２、エンドリフレクター２１３が配置されている。
このとき、アウトプットカプラー２１２は実施例３の反
射光学素子であり、エンドリフレクター２１３は実施例
１の反射光学素子である。

【０１３２】レーザー発振管２１１から発振されたレー
ザー光は、アウトプットカプラー２１２と、エンドリフ
レクター２１３との間で複数回反射を繰り返す。このと
き、エンドリフレクター２１３は、図３に示したよう
に、９５％以上の反射率を持つが、アウトプットカプラ
ー２１２の反射率は、図１２に示したように、８５％以
下である。アウトプットカプラー２１２によって反射さ
れない１５％程度の光は、アウトプットカプラーの出力
側から、出力光として取り出される。アウトプットカプ
ラー２１２と、エンドリフレクター２１３は、図３及び
図１２に示したように、極めて狭帯域の反射波長特性を
持つため、実施例１１の光源レーザー装置は、極めて狭
帯域化されたレーザー光を出力することができる。

【０１３３】また、波長157nmのレーザー光を出力する
通常の光源レーザー装置においては、エンドリフレクタ
ーとアウトプットカプラーとして、ＣａＦ₂の平面板の
表面反射が使用されることが多い。これらのエンドリフ
レクターとアウトプットカプラーは、４％から５％程度
の反射率しか持たないため、レーザーガスの圧力を4000
hpa程度まで高めなければ、十分な出力を持つレーザー
光を得ることが不可能であった。これにより、レーザー
発振管内の圧力が高くなり、ガス密度が高くなるため、
ガス分子同士の衝突頻度が増加してしまう。この現象
は、発振するレーザー光を狭帯域化するための障害とな
っていた。実施例１１の光源レーザー装置においては、
アウトプットカプラー２１２とエンドリフレクター２１
３の反射率を、従来のＣａＦ₂板に比べて飛躍的に高め
たため、レーザーガスの圧力を2000hpa程度にしても十
分なレーザー光の出力を確保できる。このことにより、
ガス分子同士の衝突頻度を下げて、レーザー発振管２１
１自体からの発振波長を、半値幅で従来の１／２程度に
狭帯域化することができる。

【０１３４】実施例１１のアウトプットカプラー２１
２、あるいはエンドリフレクター２１３を構成する反射
光学素子は、本発明のクレイム１の構成を備えていれ
ば、実施例１あるいは実施例３に限定されないことは言
うまでもない。

【０１３５】また、実施例１１において、アウトプット
カプラー２１２、あるいはエンドリフレクター２１３の
どちらかを、従来から使用されているＣａＦ₂板などの
反射光学素子によって構成したとしても、従来の光源レ
ーザー装置よりも狭帯域化されたレーザー光の出力を得
ることが可能である。

【０１３６】実施例１２は、実施例８のファブリー・ペ
ロー・エタロンを、光源レーザー装置の外部に配置し、
出力するレーザー光の狭帯域化を行なう光源レーザー装
置である。出力するレーザー光は、波長157nmのＦ₂レー
ザーである。

【０１３７】図３３に、実施例１２の構成図を示す。光
源レーザー本体２２１から発振されたレーザー光は、フ
ァブリー・ペロー・エタロン２２２に入射する。ファブ
リー・ペロー・エタロン２２２は、本発明の実施例８の
ファブリー・ペロー・エタロンであり、図２７の透過波
長特性に従ってレーザー光を透過する。そして、実施例
１２の光源レーザー装置は、極めて狭帯域化されたレー
ザー光を出力する。

【０１３８】ここで、実施例１２に使用されるファブリ
ー・ペロー・エタロンは、本発明のクレイム１９の構成
を備えていれば、実施例８のファブリー・ペロー・エタ
ロンに限定されないことは言うまでもない。

【０１３９】実施例１３は、実施例６のファブリー・ペ
ロー・エタロンを、光源レーザー装置内部に配置し、出
力するレーザー光の波長の狭帯域化を行なう光源レーザ
ー装置である。出力するレーザー光は、157nmのＦ₂レー
ザーである。また、実施例１３は、真空中で使用され
る。

【０１４０】図３４に、実施例１３の構成図を示す。レ
ーザー発振管２３１と、アウトプットカプラー２３２
と、エンドリフレクター２３３とを備え、アウトプット
カプラー２３２とエンドリフレクター２３３との間に、
ファブリー・ペロー・エタロン２３４が配置されてい
る。ここで、ファブリー・ペロー・エタロン２３４は、
実施例７のファブリー・ペロー・エタロンである。レー
ザー発振管２３１から発振されたレーザー光は、アウト
プットカプラー２３２とエンドリフレクター２３３との
間で複数回反射を繰り返す際に、必ずファブリー・ペロ
ー・エタロン２３４を、図２０の透過波長特性に従って
透過する。そして、実施例１３の光源レーザー装置は、
極めて狭帯域化されたレーザー光を出力する。

【０１４１】ここで、実施例１３に使用されるファブリ
ー・ペロー・エタロンは、本発明のクレイム１９の構成
を備えていれば、実施例６のファブリー・ペロー・エタ
ロンに限定されないことは言うまでもない。

【０１４２】ただし、実施例１２乃至１３に記載したよ
うな光源レーザー装置を構成すると、狭帯化に伴ってレ
ーザー光の出力が低下し、十分な出力が得られない場合
がある。このような場合は、図３５に示すように、実施
例１２又は１３の光源レーザー装置２３５から出力され
たレーザー光を、さらに、レーザー発振管を備えた増幅
用レーザー装置２３６に入射させ、いわゆるインジェク
ションロッキングを用いて、出力されるレーザー光を増
幅することが可能である。また、この増幅用レーザー装
置２３６を、直列に複数設けることも可能である。

【０１４３】次に本発明は、本発明に係る光源レーザー
装置を搭載した露光装置を提供する。露光装置に、上記
したような光源レーザー装置を搭載すれば、従来よりも
はるかに狭帯域化されたレーザー光を光源として使用で
きる。このため、たとえばＦ ₂レーザーを光源として使
用する場合、従来の露光装置において、光源から発する
レーザー光の波長帯域が広いために発生していた色収差
の影響を、大きく低減することが可能である。

【０１４４】以下にその実施例を示す。実施例１４は、
実施例１１の光源レーザー装置を搭載した露光装置であ
る。図３６に、実施例１４の構成図を示す。

【０１４５】光源レーザ装置２４１から出力されたレー
ザー光は、ビームエキスパンダ２４２によってビーム形
状を整形された後、照明光学系２４３を介してレチクル
２４４を照明する。そして、レチクル２４４の像は、投
影光学系２４５によってウェハ２４６上に投影され、レ
チクル２４４上のパターンが、ウェハ２４６上に焼きつ
けられる。このとき、光源となるレーザー光はＦ₂レー
ザーであって、実施例１４の露光装置は、極めて高解像
度のパターンを、ウェハ２４６上に形成することができ
る。

【０１４６】ここで、実施例１４に使用される光源レー
ザー装置は、本発明のクレイム３４あるいはクレイム３
７の構成を備えていれば、実施例１１の光源レーザ装置
に限定されないことは言うまでもない。

【０１４７】次に本発明は、実施例１４の露光装置を使
用した、高集積度のデバイスを製造可能な、デバイスの
製造方法を提供する。実施例１５は、本発明の実施例１
４の露光装置を使用したデバイスの製造方法である。

【０１４８】図３７に、実施例１５の製造方法フローチ
ャートを示す。先ず、図３７のステップ２５１におい
て、１ロットのウェハ上に金属膜が蒸着される。次のス
テップ２５２において、その１ロットのウェハ上の金属
膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップ
２５３において、上述の実施形態の露光装置を用いて、
レチクル上のパターンが、その１ロットのウェハ上の各
ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップ
２５４において、その１ロットのウェハ上のフォトレジ
ストの現像が行われた後、ステップ２５５において、そ
の１ロットのウェハ上でレジストパターンをマスクとし
てエッチングを行うことによって、レチクル上のパター
ンに対応する回路パターンが、各ウェハ上の各ショット
領域に形成される。その後、更に上のレイヤの回路パタ
ーンの形成等を行うことによって、極めて微細な回路を
有する半導体素子等のデバイスが製造される。

【０１４９】以上のように実施例１５によれば、実施例
１４の露光装置を使用して、高集積度のデバイスを製造
することが可能である。

【０１５０】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、光学薄膜
の使用が困難な波長においても、極めて狭帯域の波長に
おいて十分な反射率を有する反射光学素子を提供でき
る。また、該反射光学素子を用いて、極めて狭帯域の波
長において十分な透過率を有するファブリー・ペロー・
エタロンを提供できる。また、該反射光学素子および該
ファブリー・ペロー・エタロンをもちいて、出力波長が
極めて狭帯域の光源レーザー装置を提供できる。また、
該光源レーザー装置を搭載して、高解像度の露光装置を
提供できる。さらに、該露光装置を用いて、高集積度の
デバイスを製造可能なデバイスの製造方法を提供でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射光学素子の概念図。

【図２】実施例１の構成図。

【図３】実施例１の反射波長特性。

【図４】実施例１における、空隙４の厚み変化による反
射中心波長制御のフローチャート。

【図５】実施例１で、空隙４の厚みを変化させたときの
反射波長特性。

【図６】実施例２の構成図。

【図７】実施例２の反射波長特性。

【図８】実施例２の、空隙のガス温度変化による反射中
心波長制御のフローチャート。

【図９】実施例２の、空隙のガス温度を変化させて基材
温度を変化させたときの反射波長特性。

【図１０】実施例２の、空隙のガス圧力変化による反射
中心波長制御のフローチャート。

【図１１】実施例３の構成図。

【図１２】実施例３の反射波長特性。

【図１３】実施例３の、素子の光軸に対する傾きの変化
による反射中心波長制御のフローチャート。

【図１４】実施例４の構成図。

【図１５】実施例４の、素子全体の温度変化による反射
中心波長制御のフローチャート。

【図１６】基材、空隙を構成する固体、スペーサーを平
面板上から採取する方法の図。

【図１７】実施例５の構成図。

【図１８】本発明のファブリー・ペロー・エタロンの概
念図。

【図１９】実施例６の構成図。

【図２０】実施例６の透過波長特性。

【図２１】実施例６の、共振部の厚み変化による透過中
心波長制御のフローチャート。

【図２２】実施例７の構成図。

【図２３】実施例７の透過波長特性。

【図２４】実施例７の、共振部のガス温度変化による透
過中心波長制御のフローチャート。

【図２５】実施例７の、共振部のガス圧力制御による透
過中心波長制御のフローチャート。

【図２６】実施例８の構成図。

【図２７】実施例８の透過波長特性。

【図２８】実施例８の、ファブリー・ペロー・エタロン
の光軸に対する傾きの変化による透過中心波長制御のフ
ローチャート。

【図２９】実施例９の構成図。

【図３０】実施例９の透過波長特性。

【図３１】実施例１０の構成図。

【図３２】実施例１１の構成図。

【図３３】実施例１２の構成図。

【図３４】実施例１３の構成図。

【図３５】実施例１２又は１３と増幅用レーザー装置と
の組み合わせの図。

【図３６】実施例１４の構成図。

【図３７】実施例１５のフローチャート。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平山 義一 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内 Ｆターム(参考） 2H048 GA04 GA09 GA13 GA26 GA34 GA35 GA52 GA57 GA60 GA61 2H097 AA03 CA13 LA10 5F046 AA22 BA03 CA04 CA08 CB01 CB02 CB22 DA01

Claims (39)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項1】複数の透明な基材を、それぞれの間に空隙
   を設けて光軸に沿って配置し、前記複数の基材それぞれ
   の表面において生じる反射光の、繰り返し反射干渉を利
   用することにより、狭い波長帯域において高い反射率を
   持つミラーを形成することを特徴とする反射光学素子。
2. 【請求項２】前記複数の基材の光路長が、 （ｍ＋１／４）・λあるいは（ｍ＋３／４）・λのどち
   らかであり、 前記複数の基材間の空隙の光路長が、 （ｍ＋１／４）・λあるいは（ｍ＋３／４）・λのどち
   らかであることを特徴とする請求項１に記載の反射光学
   素子。ただし、 ｍ：次数（任意の整数） λ：使用中心波長
3. 【請求項３】前記複数の基材が、それぞれ平行平面板に
   よって構成されることを特徴とする、請求項１乃至２に
   記載の反射光学素子。
4. 【請求項４】前記複数の基材を構成する平行平面板が、
   一枚の大きな平面板の同一の厚みを有する部分からそれ
   ぞれ作成されていることを特徴とする、請求項３に記載
   の反射光学素子。
5. 【請求項５】前記複数の基材の、それぞれの表面及び裏
   面が全て同一の球心を有する球面によって構成されるこ
   とを特徴とする、請求項１乃至２に記載の反射光学素
   子。
6. 【請求項６】前記複数の基材それぞれが、フッ化物結晶
   からなることを特徴とする、請求項１乃至５に記載の反
   射光学素子。
7. 【請求項７】前記複数の基材間の空隙のうち、少なくと
   も一つが真空であることを特徴とする、請求項１乃至６
   に記載の反射光学素子。
8. 【請求項８】前記複数の基材間の空隙のうち、少なくと
   も一つが気体で満たされていることを特徴とする、請求
   項１乃至７に記載の反射光学素子。
9. 【請求項９】前記複数の基材間の空隙を満たす気体が、
   不活性ガスであることを特徴とする、請求項８に記載の
   反射光学素子。
10. 【請求項１０】前記複数の基材間の空隙のうち、少なく
    とも一つが、前記複数の基材とは屈折率の異なる固体に
    よって満たされていることを特徴とする、請求項１乃至
    ９に記載の反射光学素子。
11. 【請求項１１】前記複数の基材間の空隙を満たす個体
    が、フッ化物結晶からなることを特徴とする、請求項１
    ０に記載の反射光学素子。
12. 【請求項１２】前記複数の基材と、前記複数の基材間の
    空隙を満たす個体とが、光学密着されていることを特徴
    とする、請求項１０乃至１１に記載の反射光学素子。
13. 【請求項１３】前記複数の基材間の空隙に、該空隙と等
    しい厚みを持つスぺ−サーを挿入し、該スぺ−サーの端
    面を前記複数の基材の表面と光学密着させることで、前
    記複数の基材間の空隙の厚みを確保することを特徴とす
    る、請求項１乃至１２に記載の反射光学素子。
14. 【請求項１４】前記スぺ−サーを複数使用する際に、一
    枚の大きな平面板の、同一の厚みを有する部分から、前
    記スぺ−サーを複数作成して用いることを特徴とする、
    請求項１３に記載の反射光学素子。
15. 【請求項１５】反射中心波長が可変であることを特徴と
    する、請求項１乃至１４に記載の反射光学素子。
16. 【請求項１６】前記反射中心波長が、前記空隙を満たす
    気体の温度、あるいは圧力の変化によって可変であるこ
    とを特徴とする請求項１５に記載の反射光学素子。
17. 【請求項１７】前記反射中心波長が、ピエゾ素子によっ
    て可変であることを特徴とする、請求項１５乃至１６に
    記載の反射光学素子。
18. 【請求項１８】前記反射中心波長が、前記複数の基材の
    一部あるいは全てを、個別または一律に、光軸に対して
    微小角度回転させることで可変であることを特徴とす
    る、請求項１５乃至１７に記載の反射光学素子。
19. 【請求項１９】複数の請求項１乃至１８に記載の反射光
    学素子を、それぞれの間に空隙からなる共振部を設け
    て、光軸に沿って配置したことを特徴とするファブリー
    ・ペロー・エタロン。
20. 【請求項２０】前記共振部の光路長が、（ｍ＋１／２）
    ・λ₂であることを特徴とする、請求項１９に記載のフ
    ァブリー・ペロー・エタロン。ただし λ₂：透過中心波長
21. 【請求項２１】前記共振部を、複数有することを特徴と
    する、請求項１９乃至２０に記載のファブリー・ペロー
    ・エタロン。
22. 【請求項２２】前記共振部のうち、少なくとも一つが真
    空であることを特徴とする、請求項１９乃至２１に記載
    のファブリー・ペロー・エタロン。
23. 【請求項２３】前記共振部のうち、少なくとも一つが気
    体によって満たされていることを特徴とする、請求項１
    ９乃至２２に記載のファブリー・ペロー・エタロン。
24. 【請求項２４】前記共振部を満たす気体が、不活性ガス
    であることを特徴とする、請求項２３に記載のファブリ
    ー・ペロー・エタロン。
25. 【請求項２５】前記共振部のうち、少なくとも一つが、
    前記複数の反射光学素子の端面を形成する基材とは屈折
    率の異なる固体によって満たされていることを特徴とす
    る、請求項１９乃至２４に記載のファブリー・ペロー・
    エタロン。
26. 【請求項２６】前記共振部を満たす固体が、フッ化物結
    晶であることを特徴とする、請求項２５に記載のファブ
    リー・ペロー・エタロン。
27. 【請求項２７】前記複数の反射光学素子の端面と、前記
    共振部を満たす固体とが、光学密着されていることを特
    徴とする、請求項２５乃至２６に記載のファブリー・ペ
    ロー・エタロン。
28. 【請求項２８】前記共振部に、前記共振部と等しい厚み
    を持つスぺ−サーを挿入し、該スぺ−サーの端面を、前
    記複数の請求項１乃至１８に記載の反射光学素子の端面
    と光学密着させることで、前記共振部の厚みを確保する
    ことを特徴とする請求項１９乃至２７に記載のファブリ
    ー・ペロー・エタロン。
29. 【請求項２９】前記スぺ−サーを複数使用する際に、一
    枚の大きな平面板の同一の厚みを有する部分から、前記
    スぺ−サーを複数作成して用いることを特徴とする、請
    求項２８に記載のファブリー・ペロー・エタロン。
30. 【請求項３０】透過中心波長が可変であることを特徴と
    する、請求項１９乃至２９に記載のファブリー・ペロー
    ・エタロン。
31. 【請求項３１】前記透過中心波長が、前記共振部を満た
    す気体の温度、あるいは圧力の変化によって可変である
    ことを特徴とする、請求項３０に記載のファブリー・ペ
    ロー・エタロン。
32. 【請求項３２】前記透過中心波長が、ピエゾ素子によっ
    て可変であることを特徴とする、請求項３０乃至３１に
    記載のファブリー・ペロー・エタロン。
33. 【請求項３３】前記透過中心波長が、前記複数の反射光
    学素子の一部あるいは全てを、個別または一律に、光軸
    に対して微小角度回転させることで可変であることを特
    徴とする、請求項３０乃至３２に記載のファブリー・ペ
    ロー・エタロン。
34. 【請求項３４】請求項１乃至１８に記載の反射光学素子
    を、光源レーザー装置の内部または外部に配置したこと
    を特徴とする、光源レーザー装置。
35. 【請求項３５】請求項１乃至１８に記載の反射光学素子
    を、光源レーザー装置のアウトプットカプラーまたはエ
    ンドリフレクターに用いたことを特徴とする、請求項３
    ４に記載の光源レーザー装置。
36. 【請求項３６】レーザー発振管内のガス圧力を低く抑え
    たことを特徴とする、請求項３４乃至３５に記載の光源
    レーザー装置。
37. 【請求項３７】請求項１９乃至３３に記載のファブリー
    ・ペロー・エタロンを、光源レーザー装置の内部又は外
    部に配置したことを特徴とする光源レーザー装置。
38. 【請求項３８】請求項３４乃至３７に記載の光源レーザ
    ー装置を搭載したことを特徴とする露光装置。
39. 【請求項３９】請求項３８に記載の露光装置を使用した
    ことを特徴とするデバイスの製造方法。