JP5651246B2 - 低温ガス供給装置、熱媒冷却装置、及び低温反応制御装置 - Google Patents
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Description
本願は、2011年10月11日に、日本に出願された特願2011−223716号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
(1)低温液化ガスが気化した気化ガス及び前記低温液化ガスよりも温度の高いガスが混合された混合ガスと前記低温液化ガスとを導入して互いに熱交換させることにより、前記混合ガスを低温ガス冷媒として排出するとともに、前記低温液化ガスを前記気化ガスとして排出する第一熱交換器と、
前記低温液化ガスよりも温度の高いガスと、前記第一熱交換器から排出された前記気化ガスとを混合して、前記第一熱交換器に導入される前記混合ガスを排出する混合手段と、
前記低温ガス冷媒について検出された温度と、その目標温度との差異に基づき、前記混合手段に導入される前記低温液化ガスよりも温度の高いガス及び前記気化ガスのそれぞれの量を調整して、前記低温ガス冷媒の温度を前記目標温度に制御する第一制御手段と、を備える低温ガス供給装置。
(2)前記混合手段は、エゼクタである(1)に記載の低温ガス供給装置。
(3)(1)に記載の低温ガス供給装置と、
前記低温ガス供給装置から排出される、前記温度制御された前記低温ガス冷媒と、循環経路を巡廻する熱媒とを互いに熱交換させる第二熱交換器と、
前記熱媒について検出された温度と、その熱媒目標温度との差異に基づき、前記第二熱交換器に導入される前記低温ガス冷媒の量を調整して、前記熱媒の温度を前記熱媒目標温度に制御する第二制御手段と、を備える熱媒冷却装置。
(4)(3)に記載の熱媒冷却装置と、
前記循環経路を循環する、前記温度制御された前記熱媒を導入して、反応槽内部の反応液を所望温度に冷却調整するように構成された低温反応槽と、を備える低温反応制御装置。
(5)低温液化ガスが気化した気化ガス及び前記低温液化ガスよりも温度の高いガスが混合された混合ガスと前記低温液化ガスとを導入して互いに熱交換させることにより、前記混合ガスを低温ガス冷媒として排出するとともに、前記低温液化ガスを前記気化ガスとして排出する第一熱交換器と、
前記低温液化ガスよりも温度の高いガスと、前記第一熱交換器から排出された前記気化ガスとを混合して、前記第一熱交換器に導入される前記混合ガスを排出する混合手段と、
前記低温ガス冷媒について検出された温度と、その目標温度との差異に基づき、前記混合手段に導入される前記気化ガスの量を調整して、前記低温ガス冷媒の温度を前記目標温度に制御する第一制御手段と、
前記第一熱交換器から排出される、前記温度制御された前記低温ガス冷媒と、循環経路を巡廻する熱媒とを互いに熱交換させる第二熱交換器と、
前記熱媒について検出された温度と、その熱媒目標温度との差異に基づき、前記第一熱交換器に導入される前記低温液化ガスよりも温度の高いガスの量を調整して、前記熱媒の温度を前記熱媒目標温度に制御する第二制御手段とを備える熱媒冷却装置。
(6)(5)に記載の熱媒冷却装置と、
前記循環経路を循環する、前記温度制御された前記熱媒を導入して、反応槽内部の反応液を所望温度に冷却調整するように構成された低温反応槽と、を備える低温反応制御装置。
なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
先ず、本発明を適用した第1実施形態に係る低温ガス供給装置100A、熱媒冷却装置200A、及び低温反応制御装置300Aの構成について説明する。図1は、本発明の低温ガス供給装置、熱媒冷却装置、及び低温反応制御装置における第1実施形態の系統図である。
次に、本発明における第2実施形態を説明する。図2は、本発明の低温ガス供給装置、熱媒冷却装置、及び低温反応制御装置における第2実施形態の系統図である。
次に、本発明における第3実施形態を説明する。図3は、本発明の低温ガス供給装置、熱媒冷却装置、及び低温反応制御装置における第3実施形態の系統図である。
次に、本発明における第4実施形態を説明する。図4は、本発明の低温ガス供給装置、熱媒冷却装置、及び低温反応制御装置における第4実施形態の系統図である。
上述した第1〜第4の実施形態に係る低温ガス供給装置100A〜100Dは、熱媒冷却装置200A〜200Dの他に、以下の装置にも適用することができる。
1A,1B,1C,1D・・・常温経路
2A,2B,2C,2D・・・低温経路
3A,3B,3C,3D・・・混合経路
4A,4B,4C,4D・・・エゼクタ(混合手段)
5A,5B,5C,5D・・・第1熱交換器
6A,6B,6C,6D・・・第1温度検出器
7A,7B,7C,7D・・・第1温度調節器(第一制御手段)
8A,8B,8C,8D・・・流量調整弁
9A,9B,9C,9D・・・第1調節弁
200A,200B,200C,200D・・・熱媒冷却装置
21・・・熱媒循環経路
22・・・第2熱交換器
23・・・熱媒循環ポンプ
24・・・第2温度検出器
25・・・第2温度調節器
26・・・第2調節弁
27・・・リザーブタンク
300A,300B,300C,300D・・・低温反応制御装置
31・・・低温反応槽
31a・・・ジャケット
31b・・・攪拌モータ
Claims (6)
- 低温液化ガスが気化した気化ガス及び前記低温液化ガスよりも温度の高いガスが混合された混合ガスと前記低温液化ガスとを導入して互いに熱交換させることにより、前記混合ガスを低温ガス冷媒として排出するとともに、前記低温液化ガスを前記気化ガスとして排出する第一熱交換器と、
前記低温液化ガスよりも温度の高いガスと、前記第一熱交換器から排出された前記気化ガスとを混合して、前記第一熱交換器に導入される前記混合ガスを排出する混合手段と、
前記低温ガス冷媒について検出された温度と、その目標温度との差異に基づき、前記混合手段に導入される前記低温液化ガスよりも温度の高いガス及び前記気化ガスのそれぞれの量を調整して、前記低温ガス冷媒の温度を前記目標温度に制御する第一制御手段と、を備える低温ガス供給装置。 - 前記混合手段は、エゼクタである請求項1に記載の低温ガス供給装置。
- 請求項1に記載の低温ガス供給装置と、
前記低温ガス供給装置から排出される、前記温度制御された前記低温ガス冷媒と、循環経路を巡廻する熱媒とを互いに熱交換させる第二熱交換器と、
前記熱媒について検出された温度と、その熱媒目標温度との差異に基づき、前記第二熱交換器に導入される前記低温ガス冷媒の量を調整して、前記熱媒の温度を前記熱媒目標温度に制御する第二制御手段と、を備える熱媒冷却装置。 - 請求項3に記載の熱媒冷却装置と、
前記循環経路を循環する、前記温度制御された前記熱媒を導入して、反応槽内部の反応液を所望温度に冷却調整するように構成された低温反応槽と、を備える低温反応制御装置。 - 低温液化ガスが気化した気化ガス及び前記低温液化ガスよりも温度の高いガスが混合された混合ガスと前記低温液化ガスとを導入して互いに熱交換させることにより、前記混合ガスを低温ガス冷媒として排出するとともに、前記低温液化ガスを前記気化ガスとして排出する第一熱交換器と、
前記低温液化ガスよりも温度の高いガスと、前記第一熱交換器から排出された前記気化ガスとを混合して、前記第一熱交換器に導入される前記混合ガスを排出する混合手段と、
前記低温ガス冷媒について検出された温度と、その目標温度との差異に基づき、前記混合手段に導入される前記気化ガスの量を調整して、前記低温ガス冷媒の温度を前記目標温度に制御する第一制御手段と、
前記第一熱交換器から排出される、前記温度制御された前記低温ガス冷媒と、循環経路を巡廻する熱媒とを互いに熱交換させる第二熱交換器と、
前記熱媒について検出された温度と、その熱媒目標温度との差異に基づき、前記第一熱交換器に導入される前記低温液化ガスよりも温度の高いガスの量を調整して、前記熱媒の温度を前記熱媒目標温度に制御する第二制御手段とを備える熱媒冷却装置。 - 請求項5に記載の熱媒冷却装置と、
前記循環経路を循環する、前記温度制御された前記熱媒を導入して、反応槽内部の反応液を所望温度に冷却調整するように構成された低温反応槽と、を備える低温反応制御装置。
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