JP5651044B2 - 研磨液 - Google Patents

Description

本発明は、磁性材料を含む磁性部と、該磁性部に形成された複数の凹部を覆うように埋め込まれた非磁性材料とからなる複合体を研磨するために用いられる研磨液に関する。

磁気ディスク（ハードディスク）装置、フレキシブルディスク装置、磁気テープ装置等の磁気記録装置においては、基板と該基板上に形成された磁性材料とを備える磁気記録媒体が用いられている。磁気記録媒体においては、ユーザーデータを記録するデータ領域と位置情報を記録するサーボ領域が形成されている。

例えば図８に示すごとく、ハードディスク装置等の用途においては、基板６１上に形成された磁性材料６５を備えた円盤状の磁気記録媒体６が回転して、該磁気記録媒体６の表面に浮上させた磁気ヘッド６００により磁性材料６５の記録部位６５１に情報６８の読み書きを行う。

近年、磁気記録媒体６に高密度で情報を記録する要求が高まっており、最新の磁気記録媒体においてはトラック密度１１０ｋＴＰＩにまで達している。ところが、さらにトラック密度を高くしていくと、図８に示すごとく、磁性材料６５における隣接する記録部位６５１の間隔が小さくなる。その結果、記録部位６５１に記録された情報が互いに干渉し、隣接する記録部位６５１の間６５２からノイズ６９が発生し易くなるという問題があった。かかるノイズ６９の発生は、記録部位６５１からの読み取りエラーを引き起こす。

そこで、近年、磁性材料に凹凸を形成し、記録部位を物理的に分離させた磁気記録媒体が開発されている（特許文献１〜５参照）。このような磁気記録媒体には、例えばディスクリート・トラック・メディア（ＤＴＭ）及びビット・パターンド・メディア（ＢＰＭ）がある。
図９（ａ）及び（ｂ）に円盤状のＤＴＭの一例を示し、図１０（ａ）及び（ｂ）に円盤状のＢＰＭの一例を示す。

図９（ａ）及び（ｂ）に示すごとく、ＤＴＭ８は、円周方向に伸びる凹凸パターンが形成された磁気記録媒体であり、基板８０上に、磁性材料からなる凸部８１を挟んで凹部８２が径方向に交互に形成されている。即ち、円周方向に伸びるように形成された凸部８１と凹部８２が径方向に交互に形成されている。

また、図１０（ａ）及び（ｂ）に示すごとく、ＢＰＭ９は、周囲から突出し、磁性材料からなる凸部９１と、該凸部の周囲に形成された凹部９２、９３とからなる凹凸パターンが形成された磁気記録媒体である。ＢＰＭ９においては、基板９０上において円周方向に伸びるように形成された複数の凹部９２と径方向に伸びるように形成された複数の凹部９３によって、磁性材料が分断され複数の凸部９１が形成されている。
ＤＴＭ及びＢＰＭにおいては、磁気ヘッドが高速に回転する磁気記録媒体の凸部に情報を記録したり凸部から情報を読み取ったりする。

特開２００４−１６４６９２号公報 特開２００４−１７８７９３号公報 特開２００４−１７８７９４号公報 特開２００９−１７００４０号公報 特開２００９−２７１９７３号公報

しかしながら、凹凸パターンを有する磁気記録媒体においては、気流の乱れによる磁気ヘッドの浮上安定性の低下等によって起こりうる磁気ヘッドと凹凸パターンの接触によって、磁気ヘッドや凹凸パターンの破損が懸念される。
これを回避するために、凹凸パターンの凹部を非磁性材料で埋めてしまう手法が考えられる。

具体的には、まず、例えばガラス等からなる基板１０の表面に磁性材料を含む磁性部１１（磁性層）を形成し、該磁性部１１に溝（凹部）１２０を形成して凹凸パターン１３を形成する（図１（ａ）及び（ｂ）参照）。次いで、凹凸パターン１３の凹部１２０を覆うように非磁性材料１２５を埋め込むことにより、磁性材料を含む磁性部１１と、該磁性部１１に形成された複数の凹部１２０を覆うように埋め込まれた非磁性材料１２５とからなる複合体１５を作製する（図１（ｃ）参照）。そして、磁性部１１と凹部１２０内に埋め込まれた上記非磁性材料からなる非磁性部１２とが露出して平坦な研磨面１６を形成するまで研磨することにより、磁気記録媒体１を作製する（図１（ｄ）参照）。

上述の研磨にあたっては、砥粒等を分散させた研磨液を用いて行う湿式研磨が考えられる。しかし、上記磁性部と上記非磁性部とを露出させて平坦な研磨面を形成させる際に用いられる有効な研磨液は開発されておらず、均一な平面に研磨することは困難である。

特に、例えばハードディスク用の磁気記録媒体においては、図４に示すごとく、データ領域１８とサーボ領域１９のように、形状、大きさ、幅等の異なる磁性部１１及び非磁性部１２を形成する場合がある。この場合には、図６（ａ）及び（ｂ）に示すごとく、磁性部１１に形状、大きさ、幅等の異なる凹部１２０を形成し、この凹部１２０内に非磁性材料１２５を埋め込む必要がある。このとき、磁性部１１の表面及び凹部１２０内に非磁性材料１２５をたとえ均一な量で形成したとしても、凹部１２内に埋め込まれる非磁性材料１２５の量が異なるため、凹部１２を覆う非磁性材料１２５の高さ（凹部の深さ方向の高さ）が形状の異なる凹部１２０同士で異なってしまう（図６（ａ）及び（ｂ）参照）。そのため、複合体１５を非磁性材料１２５側から均一に研磨したとしても、凹部１２内に埋め込まれた非磁性材料１２５の高さが小さい領域においては、研磨終了時の厚みが小さくなってしまう（図７（ａ）及び（ｂ）参照）。

具体的には、例えば図６（ａ）及び（ｂ）に示すごとく、サーボ領域１９の凹部１２０がデータ領域１８に比べて大きな幅で形成されている場合には、サーボ領域１９の凹部１２を覆う非磁性材料１２５の高さがデータ領域１８の凹部１２を覆う非磁性材料１２５の高さより低くなり、図７（ａ）及び（ｂ）に示すごとく、研磨終了時には、サーボ領域１９における磁性部１１及び非磁性部１２の厚みがデータ領域１８における磁性部１１及び非磁性部１２の厚みに比べて小さくなってしまうおそれがある。したがって、データ領域１８とサーボ領域１９全体にわたって磁性部１１と非磁性部１２とが均一な厚みで形成された平坦な研磨面１６を形成することが困難になるおそれがある。

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、磁性部とその凹部内に埋め込まれた非磁性部とを露出させて平坦な研磨面を形成させることができる研磨液を提供しようとするものである。

本発明は、磁性材料を含む磁性部と、該磁性部に形成された複数の凹部を覆うように埋め込まれた非磁性材料とからなる複合体を、上記磁性部と上記凹部内に埋め込まれた上記非磁性材料からなる非磁性部とが露出して平坦な研磨面を形成するまで研磨するために用いられる研磨液であって、
該研磨液は、水とエッチング剤とを含有し、
上記エッチング剤としては、アルカノールアミンと、温度２５℃、濃度０．０１ｍｏｌ／Ｌの水溶液のｐＨが１１以上であるアルカリ性化合物（但し、アルカノールアミンを除く）とを含有し、
上記アルカリ性化合物は、水酸化アルカリ、下記の一般式（１）で表される水酸化四級アンモニウム、及びアンモニアから選ばれる少なくとも１種からなることを特徴とする研磨液にある（請求項１）。

（式（１）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴は、独立して、ベンジル基、又は炭素数１〜６のアルキル基であり、アルキル基の一部が水酸基で置換していてもよい）

上記研磨液においては、上記エッチング剤として、アルカノールアミンと、温度２５℃、濃度０．０１ｍｏｌ／Ｌの水溶液のｐＨが１１以上であるアルカリ性化合物（但し、アルカノールアミンを除く）とを含有する。そして、上記研磨液は、磁性材料を含む磁性部と、該磁性部に形成された複数の凹部を覆うように埋め込まれた非磁性材料とからなる複合体を、上記磁性部と上記凹部内に埋め込まれた上記非磁性材料からなる非磁性部とが露出して平坦な研磨面を形成するまで研磨するために用いられる。
上記特定のエッチング剤を含有する研磨液は、上記非磁性材料を化学的に溶解させることができ、上記磁性材料はほとんど溶解させることがない。そのため、研磨時には上記凹部を覆う上記非磁性材料を優先的に研磨させることができ、上記磁性部と上記非磁性部とを平坦にすることができる。

実施例にかかる、軟磁性層と中間層と記録磁性層とからなる磁性部を表面に形成した基板の部分断面構造を示す説明図（ａ）、磁性部に凹部が形成された基板の部分断面構造を示す説明図（ｂ）、基板上の磁性部に形成された凹部を非磁性材料により覆ってなる複合体の部分断面構造を示す説明図（ｃ）、基板上に形成された磁性部の凹部内に非磁性材料からなる非磁性部を埋設させてなる磁気記録媒体の部分断面構造を示す説明図（ｄ）。 実施例にかかる、研磨加工機用いた研磨加工方法を説明するための図であって、研磨加工時における研磨加工機の側面図（ａ）及び平面図（ｂ）。 実施例にかかる、磁気記録再生装置の構成例を示す説明図。 実施例にかかる、磁気記録媒体におけるデータ領域及びサーボ領域の形成パターンの一例を示す平面図。 実施例にかかる、磁気記録媒体の部分断面構造を示す説明図であって、データ領域における断面構造を示す説明図（ａ）、サーボ領域における断面構造を示す説明図（ｂ）。 基板上の磁性部に形成された凹部を非磁性材料により覆ってなる複合体の部分断面構造であって、データ領域における断面構造を示す説明図（ａ）、サーボ領域における断面構造を示す説明図（ｂ）。 従来の研磨方法による研磨終了後の複合体（磁気記録媒体）の部分断面構造を示す説明図であって、データ領域における断面構造を示す説明図（ａ）、サーボ領域における断面構造を示す説明図（ｂ）。 従来の磁気記録媒体から情報を読み書きする様子を示す説明図。 磁性材料に凹凸を形成してなるディスクリート・トラック・メディアからなる磁気記録媒体を示す説明図であって、凹凸パターンの一例を示す平面図（ａ）及び部分断面図（ｂ）。 磁性材料に凹凸を形成してなるビット・パターンド・メディアからなる磁気記録媒体を示す説明図であって、凹凸パターンの一例を示す平面図（ａ）及び部分断面図（ｂ）。

次に、本発明の好ましい実施形態について説明する。
上記研磨液は、磁性材料を含む磁性部１１と、該磁性部１１に形成された複数の凹部１２０を覆うように埋め込まれた非磁性材料１２５とからなる複合体１５を、上記磁性部１１と上記凹部１２０内に埋め込まれた上記非磁性材料１２５からなる非磁性部１２とが露出して平坦な研磨面１６を形成するまで研磨するために用いられる（図１（ｃ）及び（ｄ）参照）。凹部１２０は、磁性材料で形成した磁性部１１に対して例えばイオンミリングなどを行うことにより形成することができる。

上記研磨液を用いた複合体の研磨は、例えば図２（ａ）及び（ｂ）に示すような研磨加工機７を用いて行うことができる。
即ち、例えば複合体１５に研磨液Ｓを供給しながら、複合体１５の表面に研磨加工機７の研磨テープ７０５を押し当てた状態で研磨テープ７０５と複合体１５とを相対的に動かす（図２参照）。これにより、上記複合体１５の上記磁性部１１と上記凹部１２０内に埋め込まれた上記非磁性材料からなる非磁性部１２とが露出して平坦な研磨面１６を形成するまで研磨する（図１（ｃ）及び（ｄ）参照）。

上記複合体の上記磁性部には形状が異なる上記凹部が形成されていることが好ましい（請求項２）。
この場合には、平坦な研磨面を形成させることができるという上記研磨液による作用効果が顕著になる。
即ち、図６（ａ）及び（ｂ）に示すごとく、例えばハードディスク用の磁気記録媒体におけるデータ領域１８とサーボ領域１９のように、磁性部１１に形状が異なる凹部１２０が形成されている場合には、磁性部１１の表面から非磁性材料１２５を均一な量で形成させたとしても凹部１２０内に埋め込まれる非磁性材料１２５の量が異なる。そのため、凹部１２０を覆う非磁性材料１２５の高さ（凹部の深さ方向の高さ）が、形状の異なる凹部１２０同士で異なってしまう。この状態で、非磁性材料１２５の高さが大きな領域１８における磁性部１１と凹部１２０内に埋め込まれた非磁性部１２５とが露出するまで研磨を行うと、非磁性材料１２５の高さが小さい領域１９においては研磨が進行しすぎて、磁性部１１及び非磁性部１２の厚みが小さくなる（図７（ａ）及び（ｂ）参照）。一方、上記特定のエッチング剤を含有する上記研磨液を用いると、図６（ａ）に示すような高さの大きな領域１８における非磁性材料１２５を優先的に研磨させることができるため、凹部１２０の形状にかかわらず、図５（ａ）及び（ｂ）に示すごとく、均一な厚みの磁性部１１及び非磁性部１２を形成させ、平坦な研磨面１６を形成することができる。

上記複合体は、上記凹部が形成された上記磁性部と該磁性部の上記凹部を覆うように埋め込まれた上記非磁性材料とからなるユーザーデータ記録用のデータ領域、及び該データ領域とは形状が異なる上記凹部が形成された上記磁性部と該磁性部の上記凹部を覆うように埋め込まれた上記非磁性材料とからなる位置情報記録用のサーボ領域を有する磁気記録媒体であることが好ましい（請求項３）。
この場合には、ハードディスク用の磁気記録媒体の作製時における上述の研磨において上記研磨液を好適に用いることができる。特に、上記データ領域及びサーボ領域においては、互いに形状の異なる上記凹部が形成されるため、上述のように、均一な厚みの磁性部及び非磁性部を形成させることができるという上記研磨液を用いることによる作用効果が顕著になる。

上記磁性部は、面内磁気記録媒体用の水平磁性部でも、垂直磁気記録媒体用の垂直磁性部でもよい。より高い記録密度を実現できるという観点からは垂直磁性部が好ましい。
上記磁性部は、磁性材料を含有する。上記磁性材料としては、Ｃｏを主成分とするＣｏ系合金を用いることが好ましい。
この場合には、上記複合体の研磨後に、特にハードディスク用に好適な磁気記録媒体を作製することが可能になる。また、この場合には、上記研磨液によって上記磁性部が化学的な溶解作用をより受けにくくなる。そのため、より平坦な研磨面を形成し易くなる。
具体的には、例えば、ＣｏＣｒＰｔ系、ＣｏＣｒＰｔＢ系、ＣｏＣｒＰｔＴａ系の磁性材料や、これらにＳｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃等の酸化物を加えたグラニュラ構造の磁性材料などを用いることができる。

グラニュラ構造の磁性材料としては、例えば少なくとも磁性粒子としてＣｏとＣｒとを含み、磁性粒子の粒界部に、少なくともＳｉ酸化物、Ｃｒ酸化物、Ｔｉ酸化物、Ｗ酸化物、Ｃｏ酸化物、Ｔａ酸化物、Ｒｕ酸化物から選ばれる少なくとも１種を含むものを用いることができる。具体的には、例えばＣｏＣｒＰｔ−Ｓｉ酸化物、ＣｏＣｒＰｔ−Ｃｒ酸化物、ＣｏＣｒＰｔ−Ｗ酸化物、ＣｏＣｒＰｔ−Ｃｏ酸化物、ＣｏＣｒＰｔ−Ｃｒ酸化物−Ｗ酸化物、ＣｏＣｒＰｔ−Ｃｒ酸化物−Ｒｕ酸化物、ＣｏＲｕＰｔ−Ｃｒ酸化物−Ｓｉ酸化物、ＣｏＣｒＰｔＲｕ−Ｃｒ酸化物−Ｓｉ酸化物等が挙げられる。

また、上記磁性部は、複数の磁性材料からなる積層構造により形成されていてもよい。
例えば垂直磁気記録媒体の場合には、図１に示すごとく、磁性部１１を例えば軟磁性のＦｅＣｏ合金（ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＳｉＢ、ＦｅＣｏＺｒ、ＦｅＣｏＺｒＢ、ＦｅＣｏＺｒＢＣｕ等）、ＦｅＴａ合金（ＦｅＴａＮ、ＦｅＴａＣ等）、Ｃｏ合金（ＣｏＴａＺｒ、ＣｏＺｒＮＢ、ＣｏＢ等）等からなる軟磁性層１１１と、Ｒｕ等からなる中間層１１２と、６０Ｃｏ−１５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金や７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ₂合金からなる記録磁性層１１３とを積層して構成することができる。また、軟磁性層１１１と中間層１１２との間にＰｔ、Ｐｄ、ＮｉＣｒ、ＮｉＦｅＣｒ等からなる配向制御膜（図示略）を積層することもできる。なお、上記磁性部１１は、ガラスなどの非磁性材料からなる基板１０上に形成することができる。

また、面内磁気記録媒体の場合には、上記磁性部として、非磁性のＣｒＭｏ下地層と強磁性のＣｏＣｒＰｔＴａ磁性層とを積層したものを利用することができる。

上記磁性部は、スパッタ法等により薄膜として形成することができる。
上記磁性部においては、上記記録磁性層やＣｏＣｒＰｔＴａ磁性層は、例えば厚み３〜２０ｎｍで形成することができる。好ましくは５〜１５ｎｍがよい。

また、上記磁性部は、上記磁性材料の表面に、例えばダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）及びカーボン等からなるバリア膜が形成されていてもよい。
この場合には、上記磁性部が研磨による影響をより一層受けにくくなる。そのため、平坦な研磨面をより一層形成し易くなる。

次に、上記非磁性材料としては、例えば、非磁性の合金を用いることができる。
好ましくは、上記非磁性材料は、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、又はこれらを含む合金からなることがよい（請求項４）。
この場合には、上記非磁性材料は、上記研磨液により化学的により溶解されやすくなり、平坦な研磨面を形成できるという上述の作用効果がより顕著になる。

上記研磨液は、少なくとも水とエッチング剤とを含有する。
上記研磨液は、使用時に適宜希釈して用いることができる。また、上記研磨液には、必要に応じて砥粒等を添加して用いることができる。

上記研磨液は、上記非磁性材料を浸漬したときのエッチングレートが０．０７Å／ｓ以上であることが好ましい（請求項５）。
この場合には、上記研磨液による上記非磁性材料の化学的な溶解をより確実に行うことができる。上記エッチングレートが０．０７Å／ｓ未満の場合には、上記研磨液による上記非磁性材料の溶解を十分に行わせることが困難になるおそれがある。より好ましくは上記エッチングレートは０．１Å／ｓ以上がよく、さらにより好ましくは０．２Å／ｓ以上がよい。また、凹部に埋め込まれた上記非磁性材料が過剰に溶解し、平坦な研磨面を形成することが困難になるという観点から上記エッチングレートは４．０Å／ｓ以下がよい。

また、上記研磨液は、温度２５℃におけるｐＨが９以上であることが好ましい（請求項６）。
上記研磨液のｐＨが９未満の場合には、上記研磨液による上記非磁性材料の溶解を十分に行わせることが困難になるおそれがある。上記研磨液の温度２５℃におけるｐＨはより好ましくは１０以上がよく、さらに好ましくは１１以上がよい。

上記研磨液において上記エッチング剤としては、アルカノールアミンと、温度２５℃、濃度０．０１ｍｏｌ／Ｌの水溶液のｐＨが１１以上であるアルカリ性化合物（但し、アルカノールアミンを除く）からなるエッチング剤とを含有する。

上記アルカノールアミンにおけるアルカノールの炭素数は１〜６であることが好ましい（請求項８）。
アルカノール（アルコール）の炭素数が６を超える場合には、水を含有する研磨液への溶解性が悪化し、析出又は分離してしまうおそれがある。

アルカノールアミンとしては、例えば炭素数１〜６のモノアルカノールアミン、炭素数１〜６のジアルカノールアミン、炭素数１〜６のトリアルカノールアミンを用いることができる。これらのアルカノールアミンのＮに結合する水素の一部は、炭素数１〜６のアルキル基で置換されていてもよい。
具体的には、アルカノールアミンとしては、例えばモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルモノエタノールアミンなどを好適に用いることができる。これらのアルカノールアミンは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

また、上記アルカリ性化合物としては、アルカノールアミン以外の化合物であって、温度２５℃、濃度０．０１ｍｏｌ／Ｌの水溶液のｐＨが１１以上である化合物を用いることができる。
上記アルカリ性化合物のｐＨが１１未満の化合物を用いた場合には、上記研磨液による上記非磁性材料の溶解を十分に行わせることが困難になるおそれがある。

上記アルカリ性化合物は、水酸化アルカリ、上記一般式（１）で表される水酸化四級アンモニウム、及びアンモニアから選ばれる少なくとも１種からなることが好ましい。
この場合には、上記研磨液の上記非磁性材料に対する化学的な溶解性をより向上させることができる。

上記一般式（１）におけるアルキル基の炭素数が６を超える場合には、水を含有する研磨液への溶解性が悪化し、析出又は分離してしまうおそれがある。

また、水酸化アルカリとしては、例えば水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、水酸化リチウム（ＬｉＯＨ）、水酸化ルビジウム（ＲｂＯＨ）、水酸化セシウム（ＣｓＯＨ）、及び水酸化フランシウム（ＦｒＯＨ）等がある。

好ましくは、上記アルカリ性化合物は、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、及びＬｉＯＨから選ばれる少なくとも１種であり、上記水酸化四級アンモニウムは、水酸化ベンジルトリエチルアンモニウム、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、水酸化ジメチルジエチルアンモニウム、水酸化２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウム、水酸化メチルトリエチルアンモニウム、水酸化メチルトリブチルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化トリス（２−ヒドロキシエチル）メチルアンモニウム、及び水酸化ジメチルビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムから選ばれる少なくとも１種であることがよい（請求項７）。
この場合には、上記研磨液の上記非磁性材料に対する化学的な溶解性をより向上させることができる。

上記アルカノールアミンの含有量は０．０１〜３０質量％であり、上記アルカリ性化合物の含有量は０．０１〜３０質量％にすることができる（請求項９）。
上記アルカノールアミンの含有量が０．０１質量％未満の場合又は上記アルカリ性化合物の含有量が０．０１質量％未満の場合には、上記非磁性材料の溶解速度が遅くなり、平坦な研磨面を形成し難くなるおそれがある。一方、上記アルカノールアミンの含有量が３０質量％を超える場合又は上記アルカリ性化合物の含有量が３０質量％を超える場合には、凹部に埋め込まれた上記非磁性材料が過剰に溶解し、上記磁性部と上記非磁性部で高低差が発生し易くなるおそれがある。より好ましくは、上記アルカノールアミンの含有量は０．５〜１０質量％がよく、上記アルカリ性化合物の含有量は０．１〜２０質量％がよい。さらに好ましくは、上記アルカノールアミンの含有量は１．０〜５．０質量％がよく、上記アルカリ性化合物の含有量は０．３〜６．０質量％がよい。

また、上記研磨液は、極圧剤をさらに含有することが好ましい（請求項１０）。
この場合には、磁性部の研磨をより一層抑制することができる。

上記極圧剤としては、炭素数６〜１５のアルキル基とリン酸基とを含む化合物、炭素数１０〜２２のアルキル基と硫酸基又はスルホン酸基とを含む化合物、炭素数１〜１２のアルキル基とベンゼン環とスルホン酸基とを含む化合物、及び炭素数８〜１８のアルキル基とアミノ基を含む化合物から選ばれる少なくとも１種を用いることができる。
上記アルキル基と上記リン酸基とを含む化合物はポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステルであり、上記アルキル基と上記スルホン酸基又は上記硫酸基を含む化合物はアルキルベンゼンスルホン酸塩であり、上記アルキル基と上記アミノ基を含む化合物はアルキルアミン又はそのアルキレンオキシド付加物であることが好ましい。
これらの極圧剤を用いることにより、極性部の研磨の抑制効果が顕著になり、平坦な研磨面をより一層形成しやすくなる。

また、上記極圧剤の含有量は、０．０１〜３０質量％であることが好ましい。
上記極圧剤の含有量が０．０１質量％未満の場合には、極圧剤の添加による上述の作用効果を十分に得ることができなくなるおそれがある。一方、３０質量％を超える場合には、上記非磁性材料に対する研磨速度が低下してしまうおそれがある。より好ましくは上記極圧剤の含有量は、０．１〜５質量％がよく、さらに好ましくは０．３〜１．５質量％がよい。

また、上記研磨液は、界面活性剤をさらに含有することが好ましい（請求項１１）。該界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤が好ましい。
この場合には、研磨ムラの抑制効果が向上すると共に、研磨くずを排出させ易くなる。

上記界面活性剤としては、例えばポリオキシアルキレンデシルエーテル、ポリオキシアルキレンラウリルエーテル、ポリオキシアルキレンミリスチルエーテル、ポリオキシアルキレンオレイルエーテル、ポリオキシアルキレンステアリルエーテル等を用いることができる。なお、ポリオキシアルキレンは、エチレンオキシド又はプロピレンオキシドの単体又は混合物の重合物が好ましい。

また、上記界面活性剤の含有量は、０．０１〜２０質量％であることが好ましい。
上記界面活性剤の含有量が０．０１質量％未満の場合には、界面活性剤の添加による上述の作用効果を十分に得ることができなくなるおそれがある。一方、２０質量％を超える場合には、研磨液の粘度が上昇し、研磨ムラが発生したり、取り扱い性が低下したりするおそれがある。より好ましくは上記界面活性剤の含有量は、０．５〜１０質量％がよく、さらに好ましくは１〜５質量％がよい。

次に、上記研磨液は、酸化剤をさらに含有することが好ましい（請求項１２）。
この場合には、上記非磁性材料に対するエッチングレートを向上させることができる。
上記酸化剤としては、例えば過酸化水素、過マンガン酸カリウム、過塩素酸過酢酸等を用いることができる。

また、上記酸化剤の含有量は、０．０１〜５質量％であることが好ましい。
上記酸化剤の含有量が０．０１質量％未満の場合には、酸化剤の添加による上述の作用効果を十分に得ることができなくなるおそれがある。一方、５質量％を超える場合には、凹部に埋め込まれた上記非磁性材料が過剰に溶解し、上記磁性部と上記非磁性部で高低差が発生し易くなるおそれがある。より好ましくは上記酸化剤の含有量は、０．０５〜３質量％がよく、さらに好ましくは０．５〜２質量％がよい。

（実施例）
本例においては、実施例及び比較例にかかる複数の研磨液（試料Ｅ１〜試料Ｅ１５及び試料Ｃ１〜試料Ｃ３）を作製し、これらの研磨液を用いて磁性材料を含む磁性部と、該磁性部に形成された複数の凹部を覆うように埋め込まれた非磁性材料とからなる複合体を研磨する。

まず、各種エッチング剤、極圧剤、界面活性剤、酸化剤、及び水を後述の表１〜３に示す配合割合で配合して１８種類の研磨液（試料Ｅ１〜試料Ｅ１５及び試料Ｃ１〜試料Ｃ３）を作製した。

なお、表中において、極圧剤のポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステル（Ａ）としては、具体的にはトリデシルアルコール１ｍｏｌに対してエチレンオキシドを１０ｍｏｌ付加させたものにさらにリン酸を付加した化合物（第一工業製薬（株）の「プライサーフ Ａ２１５Ｃ」）を用いた。また、ポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステル（Ｂ）としては、具体的にはトリデシルアルコール１ｍｏｌに対してエチレンオキシドを６ｍｏｌ付加させたものにさらにリン酸を付加させた化合物（第一工業製薬（株）の「プライサーフ Ａ２１２Ｃ」）を用いた。また、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸エステルとしては、具体的にはラウリルアルコール１ｍｏｌに対してエチレンオキシドを２ｍｏｌ付加させたものにさらにリン酸を付加させた化合物（第一工業製薬（株）の「プライサーフ Ａ２０８Ｂ」）を用いた。また、α−オレフィンスルホン酸ナトリウムとしては、具体的にはテトラデセンスルホン酸ナトリウムを用いた。ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸エステルトリエタノールアミン塩としては、具体的にはラウリルアルコール１ｍｏｌに対してエチレンオキシドを３ｍｏｌ付加させたものにさらに硫酸を付加させた化合物のトリエタノールアミン塩（花王（株）の「エマール ２０Ｔ」）を用いた。
また、界面活性剤のポリオキシアルキレンアルキルエーテルとしては、具体的には第一工業製薬（株）製のノイゲンＬＦ−８０Ｘを用いた。

次いで、各試料（試料Ｅ１〜試料Ｅ１５及び試料Ｃ１〜試料Ｃ３）の研磨液を水で３０質量％に希釈し、温度２５℃におけるｐＨを（株）堀場製作所製の「ＰＨメーターＦ５４」を用いて測定した。その結果を後述の表１〜３に示す。

次に、非磁性材料に対する研磨液の性能を調べるために、以下のようにしてエッチングレート及び研磨レートを測定した。エッチングレート及び研磨レートの評価は、各試料の研磨液を水で３０質量％に希釈した液について行った。

「エッチングレート」
まず、Ｌｉ₂Ｓｉ₂Ｏ₅、Ａｌ₂Ｏ₃-Ｋ₂Ｏ、Ａｌ₂Ｏ₃−Ｋ₂Ｏ、ＭｇＯ−Ｐ₂Ｏ₅、Ｓｂ₂Ｏ₃−ＺｎＯを構成成分とする結晶化ガラスからなり、厚み０．８ｍｍのガラス基板上に、ＡｌＴｉ合金（Ａｌ：５０質量％、Ｔｉ：５０質量％）の非磁性材料からなる厚み３００Åの非磁性膜を形成した。具体的には、ＤＣスパッタリング法によりガラス基板上にＡｌＴｉ合金からなる非磁性膜を形成した。
次に、非磁性膜を形成したガラス基板を各試料の研磨液に浸漬し、研磨液中で非磁性膜が溶解してガラス基板が完全に露出するまで時間を測定した。そして、非磁性膜の厚みをガラス基板が露出するまでに要した時間で除することによりエッチングレート（Å／ｓ）を算出した。その結果を表１〜表３に示す。

「研磨レート」
まず、上述のエッチングレートの測定と同様にして、ガラス基板上にＡｌＴｉ合金からなる非磁性膜を形成した。但し、ガラス基板としては、Ｌｉ₂Ｓｉ₂Ｏ₅、Ａｌ₂Ｏ₃-Ｋ₂Ｏ、Ａｌ₂Ｏ₃−Ｋ₂Ｏ、ＭｇＯ−Ｐ₂Ｏ₅、Ｓｂ₂Ｏ₃−ＺｎＯを構成成分とする結晶化ガラスを材質とし、外径が６５ｍｍ、内径が２０ｍｍ、厚み０．８ｍｍ、平均表面粗さ（Ｒａ）が２Åであり、中心に孔を備えた円盤状の基板、即ちドーナツ型の基板を用いた。この基板に、厚み３００ÅのＡｌＴｉ合金（Ａｌ：５０質量％、Ｔｉ：５０質量％）からなる非磁性膜を形成した。
次いで、図２に示すような研磨加工機７を用いて、非磁性膜の研磨を行った。
研磨加工機７は、例えば図２（ａ）及び（ｂ）に示すごとく、非磁性膜を表面に形成した円盤状の基板１０を回転駆動するスピンドル７０１と、基板１０の表面に研磨液Ｓを供給するノズル７０２と、供給ロール７０３と巻き取りロール７０４との間で走行する研磨テープ７０５と、研磨テープ７０５を基板１０の表面に押しつける押圧ローラ７０６とを備えている。研磨加工機７を用いた研磨においては、スピンドル７０１に固定された基板１０を周方向に回転させながら、基板１０の表面にノズル７０２を通じて各試料の研磨液Ｓを供給し、供給ロール７０３と巻取りロール１０４との間で走行する研磨テープ７０５を基板１０の表面に押圧ローラ７０６を介して押しつけることによって、基板１０の表面を湿式研磨した。
研磨液Ｓとしては、上述の各試料を水で３０質量％に希釈し、砥粒を濃度１質量％で分散させたものを用いた。砥粒としては、１次粒子径が５ｎｍ、２次粒子径が７０ｎｍのクラスター状の単結晶ダイヤモンド粒子（ダイヤモンド砥粒）を用いた。基板１０の回転数は６００ｒｐｍとし、研磨テープ７０５の押し付け力を２．０ｋｇｆ（１９．６Ｎ）とした。
そして、非磁性塗膜の研磨開始から基板が露出するまでの時間を測定した。そして、非磁性膜の厚みをガラス基板が露出するまでに要した時間で除することにより研磨レート（Å／ｓ）を算出した。その結果を表１〜表３に示す。

また、各試料の研磨液について、磁性材料（磁性部）及び非磁性材料（非磁性部）に対する接触角を次のようにして測定した。接触角は、磁性材料及び非磁性材料上にそれぞれ研磨液を滴下したときにおける、研磨液の液滴の接線と磁性材料及び非磁性材料の表面とのなす角である。

「接触角」
接触角は、各試料（３０質量％希釈液）の研磨液１μｌをそれぞれ磁性部及び非磁性部に滴下し、滴下後１５秒後の接触角をθ／２法で測定した。測定は、協和界面化学（株）製の自動接触角計ＤＭ５００を用い、室温２５℃、湿度５０％という条件で行った。その結果を表１〜表３に示す。
非磁性部に対する接触角の測定は、上述のエッチングレートの測定と同様に、ガラス基板上に形成したＡｌＴｉ合金からなる非磁性膜に対する接触角を測定することにより行った。
また、磁性部に対する接触角は、次にようにしてガラス基板上に磁性膜を形成し、該磁性膜に対する接触角を測定することにより行った。
具体的には、Ｌｉ₂Ｓｉ₂Ｏ₅、Ａｌ₂Ｏ₃-Ｋ₂Ｏ、Ａｌ₂Ｏ₃−Ｋ₂Ｏ、ＭｇＯ−Ｐ₂Ｏ₅、Ｓｂ₂Ｏ₃−ＺｎＯを構成成分とする結晶化ガラスからなる厚み０．８ｍｍのガラス基板上に、ＤＣスパッタリング法により、７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ₂合金からなる厚み１５ｎｍの磁性膜を形成した。

次に、本例においては、上述の各試料の研磨液を用いて磁気記録媒体を作製する。
即ち、図１に示すごとく、磁性材料を含む磁性部１１と、該磁性部１１に形成された複数の凹部１２０を覆うように埋め込まれた非磁性材料１２５とからなる複合体１５を作製し、各試料の研磨液を用いてこの複合体１５を研磨する。そして、磁性部１１と上記凹部１２０内に埋め込まれた上記非磁性材料からなる非磁性部１２とが露出して平坦な研磨面１６を形成させることにより、磁気記録媒体１を作製する。

図３に示すごとく、本例の磁気記録媒体１は、筐体３０に内蔵されて磁気記録再生装置３（ＨＤＤ）として用いられる。
例えば図３に示すごとく、磁気記録再生装置３は、磁気記録媒体１と、磁気記録媒体１を回転駆動する回転駆動部３１と、磁気記録媒体１に対する記録動作と再生動作とを行う磁気ヘッド３００と、磁気ヘッド３００を磁気記録媒体１の径方向に移動させるヘッド駆動部３０１と、磁気ヘッド３００への信号入力と磁気ヘッド３００から出力信号の再生とを行うための記録再生信号処理系３４と、これらを内蔵する筐体３０とを備える。

磁気記録再生装置１においては、本例において作製するディスクリート・トラック型の磁気記録媒体１を採用することにより、磁気記録媒体１に磁気記録を行う際の書きにじみをなくし、高い面記録密度を得ることが可能となる。即ち、本例の磁気記録媒体１を用いることにより、記録密度の高い磁気記録再生装置３を構成することが可能となる。

本例において作製する磁気記録媒体１の上面図を図４に示す。
同図に示すごとく、本例の磁気記録媒体１は、中心に孔を備えた円盤状であり、ユーザーデータを記録するためのデータ領域１８と、位置情報を記録するためのサーボ領域１９とを有する。データ領域１８における磁気記録媒体１の厚み方向における部分断面図を図５（ａ）、サーボ領域１９における磁気記録媒体１の厚み方向における部分断面図を図５（ｂ）に示す。
図４、図５（ａ）及び（ｂ）に示すごとく、磁気記録媒体１において、データ領域１８及びサーボ領域１９は、いずれも基板１０上に形成された磁性材料からなる磁性部１１と非磁性材料からなる非磁性部１２とからなる。

本例において、磁性部１１は、基板１０側から順次積層された軟磁性層１１１と中間層１１２と記録磁性層１１３とからなる。軟磁性層１１１は、厚み６０ｎｍのＦｅＣｏＢ膜からなり、中間層１１２は、厚み１０ｎｍのＲｕ膜からなり、記録磁性層１１３は、厚み１５ｎｍの７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ₂合金膜からなる。また、記録磁性層１１３上には、膜厚３ｎｍの８０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金膜（図示略）が形成されている。

非磁性部１２は、ＡｌＴｉ合金（Ａｌ：５０質量％、Ｔｉ：５０質量％）合金からなる。非磁性部１２は、磁性部１１における記録磁性層１１３に形成された凹部に埋設されている。

図４に示すごとく、データ領域１８においては、磁性部１１と非磁性部１２とがそれぞれ円周方向に沿って伸びるように形成されており、径方向に磁性部１１と非磁性部１２とが交互に配置されている。また、サーボ領域１９においては、磁性部１１と非磁性部１２とは、略径方向に伸びるように形成されており、径方向と略垂直な方向（円周方向）に交互に配置されている。また、サーボ領域１９においては、円盤状の磁気記録媒体１の中心から径方向末端側に向けて幅が徐々に幅が大きくなるように磁性部１１と非磁性部１２とが形成されている。

また、図５（ａ）及び（ｂ）に示すごとく、データ領域１８における磁性部１１及び非磁性部１２は、サーボ領域１９における磁性部１１及び非磁性部１２と比較して断面形状が異なる。サーボ領域１９における非磁性部１２はデータ領域１８における非磁性部１２に比べて大きな幅で形成されている。なお、図４、図５（ａ）及び（ｂ）に示すデータ領域１８及びサーボ領域１９における磁性部１１と非磁性部１２の形成パターンは一例であり、本発明の実施例にかかる研磨液は、その他様々なパターンで形成されたデータ領域及びサーボ領域を形成するために用いることができる。

以下、各試料の研磨液を用いた磁気記録媒体の製造方法について詳細に説明する。
まず、付着物が除去され表面が平坦なガラス基板を準備した。ガラス基板としては、Ｌｉ₂Ｓｉ₂Ｏ₅、Ａｌ₂Ｏ₃-Ｋ₂Ｏ、Ａｌ₂Ｏ₃−Ｋ₂Ｏ、ＭｇＯ−Ｐ₂Ｏ₅、Ｓｂ₂Ｏ₃−ＺｎＯを構成成分とする結晶化ガラスを材質とし、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚み０．８ｍｍ、平均表面粗さ（Ｒａ）２Åのドーナツ型の基板を用いた。

次に、図１（ａ）に示すごとく、ＤＣスパッタリング法により、基板１０上に厚み６０ｎｍのＦｅＣｏＢ膜からなる軟磁性層１１１、厚み１０ｎｍのＲｕ膜からなる中間層１１２、及び厚み１５ｎｍの７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ₂合金膜からなる記録磁性層１１３を形成した。また、記録磁性層１１３上には、膜厚３ｎｍの８０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金膜（図示略）を形成した。このようにして、基板１０上に、軟磁性層１１１と中間層１１２と記録磁性層１１３との積層体を備える磁性部１１を形成した。

次に、所望のパターンで磁性部１１と非磁性部１２とが形成されるように（図４参照）、図Ｅ（ｂ）に示すごとく、磁性層１１の記録磁性層１１３を中間層１１２が露出するまで部分的に削り取り、非磁性部を形成しようとする部分に凹部１２０を形成した（図１（ｂ）参照）。凹部１２０は、イオンミリングにより形成した。このようにして、所望のパターンの磁性部と非磁性部とが形成されるように、図１（ｂ）に示すごとく、磁性部１１（記録磁性層１１３）と凹部１２０とからなる凹凸パターン１３を形成した。

次いで、ＤＣスパッタリング法により、図１（ｃ）に示すごとく、磁性部１１に形成した複数の凹部１２０を覆うように、ＡｌＴｉ合金（Ａｌ：５０質量％、Ｔｉ：５０質量％）合金からなる非磁性材料１２５を形成し、複合体１５を得た。

次に、上述のようにして作製した各試料の研磨液を供給しながら研磨機を用いて複合体を研磨した。研磨にあたっては、各試料の研磨液を水で３０質量％に希釈し、上述の研磨レートの測定と同様に、ダイヤモンド砥粒を分散させた液を用いた。また、上述の研磨レートの測定と同様の研磨加工機７を用いて研磨を行った（図２参照）。

具体的には、図２に示すごとく、研磨加工機７において、スピンドル７０１に固定した複合体１５を周方向に回転させながら、複合体１５の表面にノズル７０２を通じて各試料の研磨液Ｓを供給し、供給ロール７０３と巻取りロール１０４との間で走行する研磨テープ７０５を複合体１５の表面に押圧ローラ７０６を介して押しつけることによって、複合体１５の非磁性材料１２５を湿式研磨した。複合体１５の回転数は６００ｒｐｍとし、研磨テープ７０５の押し付け力を２．０ｋｇｆ（１９．６Ｎ）とした。
このようにして、図１（ｃ）及び（ｄ）に示すごとく、凹部１２０を覆う非磁性材料１２５を研磨し、磁性部１１と凹部１２０内に埋め込まれた非磁性材料からなる非磁性部１２とを露出させ平坦な研磨面１６を形成した。このようにして、表面が研磨され平坦な研磨面１６を有する磁気記録媒体１を得た。

本例においては、各試料の研磨液をそれぞれ用いて上記のように磁気記録媒体を作製した。このようにして得られた磁気記録媒体について次の評価行った。

「サーボ領域とデータ領域との段差」
ケーエルエー・テンコール（ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ）社製のＰ−１０触針式粗さ測定器を用いて、その触針を磁気記録媒体の表面におけるデータ領域とサーボ領域の境界部分で０．５ｍｍ移動させたときの触針のうねりを計測することにより測定した。サーボ領域とデータ領域との段差は、データ領域に対するサーボ領域の凹み量（Å）を、マイナス記号を付けて表した。その結果を表１〜３に示す。

「サーボ領域とデータ領域における非磁性部の凹み」
ビーコ（ＶＥＥＣＯ）社製の原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope：ＡＦＭ）「ＤＳＩ３１００」を用いて、サーボ領域及びデータ領域それぞれの凹み量（Å）を計測した。その結果を表１〜３に示す。なお、計測は、サーボ領域においては３μｍ角の範囲について行い、データ領域においては１μｍ角の範囲について行った。

「非磁性部の研磨ムラ」
非磁性部における色むらを目視により確認した。
色むらが目視で確認されたかった場合を「○」とし、色むらが目視で明確に確認された場合を「×」として評価した。その結果を表１〜３に示す。

表１〜３より知られるごとく、試料Ｅ１〜試料Ｅ１５の研磨液を用いることにより、形状が異なる凹部が形成された複合体に対して研磨を行っても平坦な研磨面を形成できることがわかる。また、試料Ｅ１〜試料Ｅ１５は、非磁性材料に対するエッチングレート及び研磨レートが高く、試料Ｅ１〜試料Ｅ１５を用いると、速やかに非磁性材料１２５を研磨し、磁性部１１とその凹部１２０内に埋め込まれた非磁性部１２とを露出させて平坦な研磨面１６を形成させることができる（図１（ｃ）及び（ｄ）参照）。したがって、試料Ｅ１〜試料Ｅ１５は、大きさや形状の異なる凹部を形成する必要のあるデータ領域１８とサーボ領域１９とを備える磁気記録媒体の作製に好適である（図４、図５（ａ）及び（ｂ）参照）。
なお、本例においては、試料Ｅ１〜試料Ｅ１５の研磨液を用いて、ディスクリート・トラック・メディア（ＤＴＭ）の磁気記録媒体を製造する例を示したが、本例の研磨液は、ビット・パターンド・メディア（ＢＰＭ）等の磁気記録媒体の製造にも適用することができる。すなわち、本例の研磨液は、磁性材料を含む磁性部と、該磁性部に形成された複数の凹部を覆うように埋め込まれた非磁性材料とからなる複合体の研磨に適用することができる。

１ 磁気記録媒体
１１ 磁性部
１２ 非磁性部
１２５ 非磁性材料
１５ 複合体
１６ 研磨面

Claims (12)

1. 磁性材料を含む磁性部と、該磁性部に形成された複数の凹部を覆うように埋め込まれた非磁性材料とからなる複合体を、上記磁性部と上記凹部内に埋め込まれた上記非磁性材料からなる非磁性部とが露出して平坦な研磨面を形成するまで研磨するために用いられる研磨液であって、
   該研磨液は、水とエッチング剤とを含有し、
   上記エッチング剤としては、アルカノールアミンと、温度２５℃、濃度０．０１ｍｏｌ／Ｌの水溶液のｐＨが１１以上であるアルカリ性化合物（但し、アルカノールアミンを除く）とを含有し、
   上記アルカリ性化合物は、水酸化アルカリ、下記の一般式（１）で表される水酸化四級アンモニウム、及びアンモニアから選ばれる少なくとも１種からなることを特徴とする研磨液。
   

   

   （式（１）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴は、独立して、ベンジル基、又は炭素数１〜６のアルキル基であり、アルキル基の一部が水酸基で置換していてもよい）
2. 請求項１に記載の研磨液において、上記複合体の上記磁性部には形状が異なる上記凹部が形成されていることを特徴とする研磨液。
3. 請求項１又は２に記載の研磨液において、上記複合体は、上記凹部が形成された上記磁性部と該磁性部の上記凹部を覆うように埋め込まれた上記非磁性材料とからなるユーザーデータ記録用のデータ領域、及び該データ領域とは形状が異なる上記凹部が形成された上記磁性部と該磁性部の上記凹部を覆うように埋め込まれた上記非磁性材料とからなる位置情報記録用のサーボ領域を有する磁気記録媒体であることを特徴とする研磨液。
4. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の研磨液において、上記非磁性材料は、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、又はこれらを含む合金からなることを特徴とする研磨液。
5. 請求項４に記載の研磨液において、上記非磁性材料を浸漬したときのエッチングレートが０．０７Å／ｓ以上であることを特徴とする研磨液。
6. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の研磨液において、温度２５℃におけるｐＨが９以上であることを特徴とする研磨液。
7. 請求項１〜６のいずれか一項に記載の研磨液において、上記アルカリ性化合物は、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、及びＬｉＯＨから選ばれる少なくとも１種であり、上記水酸化四級アンモニウムは、水酸化ベンジルトリエチルアンモニウム、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、水酸化ジメチルジエチルアンモニウム、水酸化２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウム、水酸化メチルトリエチルアンモニウム、水酸化メチルトリブチルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化トリス（２−ヒドロキシエチル）メチルアンモニウム、及び水酸化ジメチルビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする研磨液。
8. 請求項１〜７のいずれか一項に記載の研磨液において、上記アルカノールアミンにおけるアルカノールの炭素数は１〜６であることを特徴とする研磨液。
9. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の研磨液において、上記アルカノールアミンの含有量は０．０１〜３０質量％であり、上記アルカリ性化合物の含有量は０．０１〜３０質量％であることを特徴とする研磨液。
10. 請求項１〜９のいずれか一項に記載の研磨液において、極圧剤をさらに含有することを特徴とする研磨液。
11. 請求項１〜１０のいずれか一項に記載の研磨液において、界面活性剤をさらに含有することを特徴とする研磨液。
12. 請求項１〜１１のいずれか一項に記載の研磨液において、酸化剤をさらに含有することを特徴とする研磨液。

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