JP5636975B2 - 接合構造体の製造方法 - Google Patents
接合構造体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5636975B2 JP5636975B2 JP2011005946A JP2011005946A JP5636975B2 JP 5636975 B2 JP5636975 B2 JP 5636975B2 JP 2011005946 A JP2011005946 A JP 2011005946A JP 2011005946 A JP2011005946 A JP 2011005946A JP 5636975 B2 JP5636975 B2 JP 5636975B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductive film
- transparent conductive
- film
- functional group
- acidic functional
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
酸性官能基を含む透明導電膜と金属電極とが、酸性官能基を含まない、または、上記透明導電膜に含まれる上記酸性官能基の濃度よりも低い濃度の酸性官能基を含む炭素系導電材料からなる反応防止層を挟んで接合されている接合構造体である。
透明基板上に酸性官能基を含む透明導電膜を形成する工程と、
上記透明導電膜上に酸性官能基を含まない、または、上記透明導電膜に含まれる上記酸性官能基の濃度よりも低い濃度の酸性官能基を含む炭素系導電材料からなる反応防止層を形成する工程と、
上記反応防止層上に金属電極を形成する工程とを有する接合構造体の製造方法である。
酸性官能基を含む透明導電膜と金属電極とが、酸性官能基を含まない、または、上記透明導電膜に含まれる上記酸性官能基の濃度よりも低い濃度の酸性官能基を含む炭素系導電材料からなる反応防止層を挟んで接合されている接合構造体を有する電子装置である。
酸性官能基を含む透明電極と酸化物系透明導電膜とが、酸性官能基を含まない、または、上記透明電極に含まれる上記酸性官能基の濃度よりも低い濃度の酸性官能基を含む炭素系導電材料からなる反応防止層を挟んで接合されている接合構造体である。
透明基板上に酸化物系透明導電膜を形成する工程と、
上記酸化物系透明導電膜上に炭素系導電材料からなる反応防止層を形成する工程と、
上記反応防止層上に酸性官能基を含む透明電極を形成する工程とを有し、
上記炭素系導電材料は、酸性官能基を含まない、または、上記透明電極に含まれる上記酸性官能基の濃度よりも低い濃度の酸性官能基を含む接合構造体の製造方法である。
酸性官能基を含む透明電極と酸化物系透明導電膜とが、酸性官能基を含まない、または、上記透明電極に含まれる上記酸性官能基の濃度よりも低い濃度の酸性官能基を含む炭素系導電材料からなる反応防止層を挟んで接合されている接合構造体を有する電子装置である。
熱分解または化学反応により酸性となる材料を含む透明導電膜と金属電極とが、熱分解または化学反応により酸性となる材料を含まない、あるいは、上記透明導電膜に含まれる上記熱分解または化学反応により酸性となる材料の濃度よりも低い濃度の熱分解または化学反応により酸性となる材料を含む炭素系導電材料からなる反応防止層を挟んで接合されている接合構造体である。
透明基板上に熱分解または化学反応により酸性となる材料を含む透明導電膜を形成する工程と、
上記透明導電膜上に炭素系導電材料からなる反応防止層を形成する工程と、
上記反応防止層上に金属電極を形成する工程とを有し、
上記炭素系導電材料は、熱分解または化学反応により酸性となる材料を含まない、あるいは、上記透明導電膜に含まれる上記熱分解または化学反応により酸性となる材料の濃度よりも低い濃度の熱分解または化学反応により酸性となる材料を含む接合構造体の製造方法である。
熱分解または化学反応により酸性となる材料を含む透明導電膜と金属電極とが、熱分解または化学反応により酸性となる材料を含まない、あるいは、上記透明導電膜に含まれる上記熱分解または化学反応により酸性となる材料の濃度よりも低い濃度の熱分解または化学反応により酸性となる材料を含む炭素系導電材料からなる反応防止層を挟んで接合されている接合構造体を有する電子装置である。
熱分解または化学反応により酸性となる材料を含む透明電極と酸化物系透明導電膜とが、熱分解または化学反応により酸性となる材料を含まない、あるいは、上記透明電極に含まれる上記熱分解または化学反応により酸性となる材料の濃度よりも低い濃度の熱分解または化学反応により酸性となる材料を含む炭素系導電材料からなる反応防止層を挟んで接合されている接合構造体である。
透明基板上に酸化物系透明導電膜を形成する工程と、
上記酸化物系透明導電膜上に炭素系導電材料からなる反応防止層を形成する工程と、
上記反応防止層上に熱分解または化学反応により酸性となる材料を含む透明電極を形成する工程とを有し、
上記炭素系導電材料は、熱分解または化学反応により酸性となる材料を含まない、あるいは、上記透明導電膜に含まれる上記熱分解または化学反応により酸性となる材料の濃度よりも低い濃度の熱分解または化学反応により酸性となる材料を含む接合構造体の製造方法である。
熱分解または化学反応により酸性となる材料を含む透明電極と酸化物系透明導電膜とが、熱分解または化学反応により酸性となる材料を含まない、あるいは、上記透明電極に含まれる上記熱分解または化学反応により酸性となる材料の濃度よりも低い濃度の熱分解または化学反応により酸性となる材料を含む炭素系導電材料からなる反応防止層を挟んで接合されている接合構造体を有する電子装置である。
1.第1の実施の形態(接合構造体およびその製造方法)
2.第2の実施の形態(接合構造体およびその製造方法)
[接合構造体]
図1に第1の実施の形態による接合構造体を示す。図1に示すように、この接合構造体においては、酸性官能基を含む透明導電膜11と金属電極12とが、反応防止層13を挟んで接合されている。透明導電膜11は例えば透明基板上に設けられるが、これに限定されるものではない。
この接合構造体の製造方法について説明する。
まず、透明基板上に酸性官能基を含む透明導電膜11を形成し、その上に反応防止層13を形成した後、さらにその上に金属電極12を形成する。
こうして、目的とする接合構造体が製造される。
2Ag+3H2 SO4 →2AgHSO4 +SO2 +2H2 O
この時、透明導電膜11中のスルホ基は水が吸着することで硫酸と同様の酸化力を持ち、金属電極12の腐食が起きるものと考えられる。しかしながら、この接合構造体においては、透明導電膜11と金属電極12とが反応防止層13を挟んで接合されており、透明導電膜11と金属電極12とが直接接触していないため、上記の反応は起きず、金属電極12の腐食を防止することができる。なお、金属電極12を形成する金属が、銀の酸化還元電位(0.7991V)より小さい酸化還元電位を持つ金属、つまり銀より強いイオン化傾向を持つ金属、具体的にはアルミニウム(−1.676V)、マンガン(−1.18V)、タンタル(−0.81V)、亜鉛(−0.7626V)、クロム(−0.74V)、鉄(−0.44V)、カドミウム(−0.4025V)、コバルト(−0.277V)、ニッケル(−0.257V)、スズ(−0.1375V)、鉛(−0.1263V)、アンチモン(0.1504V)、ビスマス(0.3172V)および銅(0.340V)である場合にも同様な効果を得ることができる(括弧内の数値は酸化還元電位を示す)。
[接合構造体]
図2に第2の実施の形態による接合構造体を示す。図2に示すように、この接合構造体においては、酸化物系透明導電膜21と酸性官能基を含む透明電極22とが、反応防止層23を挟んで接合されている。酸化物系透明導電膜21は例えば透明基板上に設けられるが、これに限定されるものではない。
透明電極22は、透明導電膜11と同様に、カーボンナノチューブ、グラファイト、グラフェンおよび導電性ポリマーからなる群より選ばれた少なくとも一つからなる。
この接合構造体の製造方法について説明する。
まず、透明基板上に酸化物系透明導電膜21を形成し、その上に反応防止層23を形成した後、さらにその上に酸性官能基を含む透明電極22を形成する。こうして、目的とする接合構造体が製造される。
[接合構造体]
図3に第3の実施の形態による接合構造体を示す。図3に示すように、この接合構造体においては、酸化物系透明導電膜31と熱分解または化学反応により酸性となる材料を含む透明電極32とが、反応防止層33を挟んで接合されている。酸化物系透明導電膜31は例えば透明基板上に設けられるが、これに限定されるものではない。
透明電極32は、透明導電膜11と同様に、カーボンナノチューブ、グラファイト、グラフェンおよび導電性ポリマーからなる群より選ばれた少なくとも一つからなる。
この接合構造体の製造方法について説明する。
まず、透明基板上に酸化物系透明導電膜31を形成し、その上に反応防止層33を形成した後、さらにその上に熱分解または化学反応により酸性となる材料を含む透明電極32を形成する。こうして、目的とする接合構造体が製造される。
実施例1は第1の実施の形態に対応する実施例である。
単層カーボンナノチューブ(SWNT)を1重量%SDS水溶液に分散させ、0.1mg/mLのSWNT分散液を調製した。
比較例1では、PET/硝酸ドープSWNT構造の硝酸ドープSWNT膜上に直接、銀電極を形成したことを除き、実施例1と同様にして接合構造体を形成した。
比較例1では、PET/硝酸ドープSWNT構造の硝酸ドープSWNT膜上に直接、アルミニウム電極を形成したことを除き、実施例1と同様にして接合構造体を形成した。
実施例2は第2の実施の形態に対応する実施例である。
導電性ポリマーとして、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)にポリスチレンスルホン酸(PPS)をドープした下記式で表されるPEDOT:PSS(H.C.Starck社製)を用い、これを超音波処理により水とイソプロパノールとの混合液に分散させ、重量比が導電性ポリマー:水:イソプロパノール=1:1:10である導電性ポリマー分散液を調製した。
比較例3では、PET/ITO構造のITO膜上に直接、PEDOT:PSS膜を形成したことを除き、実施例2と同様にして接合構造体を形成した。
実施例3は第3の実施の形態に対応する実施例である。
実施例3では、PET基板の代わりにガラス基板を用いたことを除いて実施例2と同様にして接合構造体を形成した。
比較例4では、ガラス/ITO構造のITO膜上に直接、PEDOT:PSS膜を形成したことを除き、実施例2と同様にして接合構造体を形成した。
Claims (6)
- 水系液体、有機系液体あるいは水系液体と有機系液体との混合液体中にカーボンナノチューブを分散させたカーボンナノチューブ分散液を透明基板上に塗布したのち乾燥させて透明導電膜を形成する工程と、
上記透明導電膜を酸性官能基で修飾する工程と、
上記酸性官能基で修飾された上記透明導電膜上に上記カーボンナノチューブ分散液を塗布したのち乾燥させて反応防止層を形成する工程と、
上記反応防止層上に金属電極を形成する工程と、
を有する、
接合構造体の製造方法。 - 上記金属電極は銀、アルミニウム、マンガン、タンタル、亜鉛、クロム、鉄、カドミウム、コバルト、ニッケル、スズ、鉛、アンチモン、ビスマスおよび銅からなる群より選ばれた少なくとも一種類の金属から成る、
請求項1に記載の接合構造体の製造方法。 - 上記酸性官能基はニトロ基またはスルホ基から成る、
請求項1または請求項2に記載の接合構造体の製造方法。 - 透明基板上に酸化物系透明導電膜を形成する工程と、
水系液体、有機系液体あるいは水系液体と有機系液体との混合液体中にカーボンナノチューブを分散させたカーボンナノチューブ分散液を上記酸化物系透明導電膜上に塗布したのち乾燥させて反応防止層を形成する工程と、
上記反応防止層上に上記カーボンナノチューブ分散液を塗布したのち乾燥させて透明導電膜を形成する工程と、
上記透明導電膜を酸性官能基で修飾する工程と、
を有する、
接合構造体の製造方法。 - 上記酸化物系透明導電膜はインジウム、スズ及び亜鉛から成る群より選ばれた少なくとも一種類の金属を含む酸化物から成る、
請求項4に記載の接合構造体の製造方法。 - 上記酸性官能基はニトロ基またはスルホ基から成る、
請求項4または請求項5に記載の接合構造体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011005946A JP5636975B2 (ja) | 2011-01-14 | 2011-01-14 | 接合構造体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011005946A JP5636975B2 (ja) | 2011-01-14 | 2011-01-14 | 接合構造体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012146603A JP2012146603A (ja) | 2012-08-02 |
JP5636975B2 true JP5636975B2 (ja) | 2014-12-10 |
Family
ID=46789974
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011005946A Expired - Fee Related JP5636975B2 (ja) | 2011-01-14 | 2011-01-14 | 接合構造体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5636975B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003347063A (ja) * | 2002-05-23 | 2003-12-05 | Toshiba Corp | 有機エレクトロルミネッセンス表示素子およびその製造方法 |
JP4393125B2 (ja) * | 2003-07-22 | 2010-01-06 | 株式会社東芝 | 高分子型有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
JP2005100750A (ja) * | 2003-09-24 | 2005-04-14 | Seiko Epson Corp | 有機エレクトロルミネッセンス装置及び電子機器 |
-
2011
- 2011-01-14 JP JP2011005946A patent/JP5636975B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012146603A (ja) | 2012-08-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Hofmann et al. | Materials for transparent electrodes: from metal oxides to organic alternatives | |
Sharma et al. | Alternative transparent conducting electrode materials for flexible optoelectronic devices | |
Yu et al. | Recent development of carbon nanotube transparent conductive films | |
Suresh et al. | Fabrication of screen-printed electrodes: opportunities and challenges | |
Lee et al. | Flexible and stretchable optoelectronic devices using silver nanowires and graphene | |
JP6147542B2 (ja) | 透明導電フィルムおよび電気素子 | |
WO2012093530A1 (ja) | 透明導電性積層体および有機薄膜デバイス | |
Kaskela et al. | Aerosol-synthesized SWCNT networks with tunable conductivity and transparency by a dry transfer technique | |
KR101897278B1 (ko) | 투명 전극 기판, 그 제조 방법, 이 투명 전극 기판을 가지는 전자 디바이스 및 태양 전지 | |
JP5694427B2 (ja) | 透明電極及びこれを含む電子材料 | |
JP5679565B2 (ja) | 透明導電膜、透明導電膜付き基材、及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
Wu et al. | A highly conductive PEDOT: PSS film with the dipping treatment by hydroiodic acid as anode for organic light emitting diode | |
KR101310051B1 (ko) | 금속 나노선 및 전도성 고분자를 포함하는 투명 전도막의 제조방법 | |
Li et al. | Enhancing the electrical conductivity of carbon-nanotube-based transparent conductive films using functionalized few-walled carbon nanotubes decorated with palladium nanoparticles as fillers | |
Wu et al. | Conductive polymers for flexible and stretchable organic optoelectronic applications | |
Ji et al. | Ultraflexible and high-performance multilayer transparent electrode based on ZnO/Ag/CuSCN | |
KR20120035841A (ko) | 도핑된 그래핀 함유 투명전극, 그의 제조방법, 및 이를 구비하는 표시소자와 태양전지 | |
Azoubel et al. | Controlling Adhesion Properties of SWCNT–PET Films Prepared by Wet Deposition | |
JP5585066B2 (ja) | 有機薄膜型太陽電池及びその製造方法 | |
Ma et al. | PFSA-passivated silver nanowire transparent electrodes for highly flexible organic-light-emitting devices with improved stability | |
Wang et al. | Customizable stretchable transparent electrodes based on AgNW/CNT hybrids via tailoring sizes of building blocks | |
Woo et al. | Conducting polymer/in-situ generated platinum nanoparticle nanocomposite electrodes for low-cost dye-sensitized solar cells | |
US20130130060A1 (en) | Transparent conductive films and methods for manufacturing the same | |
JP2018060787A (ja) | 電極及びこれを含む有機発光素子、液晶表示装置及び有機発光表示装置 | |
KR101442458B1 (ko) | 투명 전극 및 이를 포함하는 전자 재료 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20130308 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131120 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140630 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140708 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140829 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140924 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141007 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5636975 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |