JP5621822B2 - レーザレーダ装置 - Google Patents
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Description
レーザ光を発生するレーザ光発生手段と、
前記レーザ光発生手段から前記レーザ光が発生したときに、検出物体によって反射される前記レーザ光の反射光を検出する光検出手段と、
所定の中心軸を中心として回動可能に構成された1つの偏向手段を備えるとともに、当該偏向手段により前記レーザ光を空間に向けて偏向させ、且つ前記反射光を前記光検出手段に向けて偏向する回動偏向手段と、
前記レーザ光発生手段からの前記レーザ光を前記偏向手段に向けて偏向するミラーと、
前記回動偏向手段の前記偏向手段を回転駆動する駆動手段と、
前記レーザ光発生手段を第1の回転軸を中心として回転させる第1の回転手段と、
前記レーザ光発生手段を前記第1の回転軸と直交する向きの第2の回転軸を中心として回転させる第2の回転手段と、
前記第1の回転手段及び前記第2の回転手段を制御する制御手段と、
を備え、
前記偏向手段の回動位置に応じて前記レーザ光発生手段を前記第1の回転手段及び前記第2の回転手段の少なくともいずれかにより回転させ、前記レーザ光発生手段から前記ミラーに入射する前記レーザ光の入射角度を変化させることで、前記偏向手段に入射する前記レーザ光の入射方向を変化させ、前記偏向手段からの前記レーザ光の向きを、前記中心軸の方向に関して変化させるように構成され、
前記中心軸の方向を縦方向としたとき、前記光検出手段は、前記ミラーに対し縦方向一方側に配置され、前記偏向手段は、前記ミラーに対し縦方向他方側に配置され、前記レーザ光発生手段、前記第1の回転手段、及び前記第2の回転手段は、前記ミラーの横側に配置されており、
前記制御手段は、
前記偏向手段が、予め設定された所定の回動範囲にあるときには、前記レーザ光発生手段を、前記第1の回転手段及び前記第2の回転手段により前記第1の回転軸及び前記第2の回転軸を中心として回転させることで、前記偏向手段に入射する前記レーザ光の前記入射方向を変化させ、前記所定の回動範囲以外のときには、前記レーザ光発生手段を、前記第1の回転手段により前記第1の回転軸を中心として回転させることで、前記偏向手段に入射する前記レーザ光の前記入射方向を変化させることを特徴とする。
また、第1の回転手段及び第2の回転手段の少なくともいずれかによりレーザ光発生手段を回転させ、レーザ光発生手段からミラーに入射するレーザ光の入射角度を変化させることで、レーザ光偏向手段から偏向手段に入射するレーザ光の入射方向を変化させている。このようにすると、レーザ光発生手段から偏向手段に対して直接レーザ光を照射させにくい事情がある場合において三次元的検出を行う上で有利な構成となる。
更に、偏向手段の角度に応じて、第1の回転手段によるレーザ光制御を用いるか、第1の回転手段及び第2の回転手段の両方によるレーザ光制御を用いるかを使い分けることができ、偏向手段の角度に応じた適切なレーザ光制御が可能となる。
以下、参考例1について、図面を参照して説明する。図1は参考例1に係るレーザレーダ装置を概略的に例示する断面図である。図2(a)は、図1のレーザレーダ装置に用いるレーザ光発生手段及び回転手段等を拡大して説明する説明図であり、図2(b)は、レーザ光発生手段及び回転手段等を図2(a)とは異なる方向から説明する説明図である。なお、図1、図2では、中心軸42aの方向をY軸方向、モータ70の回転中心(回転軸74)の方向をZ軸方向、これらY軸方向及びZ軸方向と直交する方向をX軸方向と定義している。
図1に示すレーザレーダ装置1では、レーザダイオード10にパルス電流が供給されると、このレーザダイオード10からはパルス電流のパルス幅に応じた時間間隔のパルスレーザ光(レーザ光L1)が出力される。このレーザ光L1は、ある程度の広がり角をもった拡散光として投光され、レンズ60を通過することで平行光に変換される。レンズ60を通過したレーザ光L1は、ミラー30で反射されて偏向部41に入射し、この偏向部41にて反射され空間に向けて照射される。
図3は、図1のレーザレーダ装置1における検出処理の流れを例示するフローチャートである。検出処理は例えば電源投入や所定操作などによって開始されるものであり、まず、レーザダイオード10及び偏向部41を初期位置に設定する(S1)。本参考例では、図1にて実線で示す位置が初期位置とされており、レーザダイオード10及び偏向部41が当該位置となるようにモータ70やモータ50を回転駆動する。なお、検出処理前の待機状態においてレーザダイオード10及び偏向部41が初期位置に設定されるようにも構成でき、このような構成の場合にはS1の処理を省略することができる。
次に第1実施形態について説明する。図4は第1実施形態に係るレーザレーダ装置を概略的に例示する断面図である。図5(a)は、図4のレーザレーダ装置に用いるレーザ光発生手段及び回転手段等を拡大して説明する説明図であり、図5(b)は、レーザ光発生手段及び回転手段等を図5(a)とは異なる方向から説明する説明図である。図6は、図4のレーザレーダ装置における検出処理の流れを例示するフローチャートである。なお、図4、図5では、中心軸42aの方向をY軸方向、Y軸方向と直交する特定方向をZ軸方向、これらY軸方向及びZ軸方向と直交する方向をX軸方向と定義している。
図4に示すレーザレーダ装置100では、レーザダイオード10にパルス電流が供給されると、このレーザダイオード10からはパルス電流のパルス幅に応じた時間間隔のパルスレーザ光(レーザ光L1)が出力される。このレーザ光L1は、ある程度の広がり角をもった拡散光として投光され、レンズ60を通過することで平行光に変換される。レンズ60を通過したレーザ光L1は、ミラー30で反射されて偏向部41に入射し、この偏向部41にて反射され空間に向けて照射される。
図6は、図4のレーザレーダ装置100における検出処理の流れを例示するフローチャートである。この検出処理は例えば電源投入や所定操作などによって開始されるものであり、まず、レーザダイオード10及び偏向部41を初期位置に設定する(S10)。本実施形態では、図4にて実線で示す位置が初期位置とされており、レーザダイオード10及び偏向部41が当該位置となるように第1モータ170、第2モータ180、或いはモータ50を回転駆動する。なお、検出処理前の待機状態においてレーザダイオード10及び偏向部41が初期位置に設定されるようにも構成でき、このような構成の場合にはS10の処理を省略することができる。
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
10…レーザダイオード(レーザ光発生手段)
20…フォトダイオード(光検出手段)
30…ミラー(レーザ光偏向手段)
40…回動偏向機構(回動偏向手段)
41…偏向部(偏向手段)
50…モータ(駆動手段)
120…制御回路(制御手段)
170…第1モータ(第1の回転手段)
174…第1の回転軸
180…第2モータ(第2の回転手段)
184…第2の回転軸
Claims (3)
- レーザ光を発生するレーザ光発生手段と、
前記レーザ光発生手段から前記レーザ光が発生したときに、検出物体によって反射される前記レーザ光の反射光を検出する光検出手段と、
所定の中心軸を中心として回動可能に構成された1つの偏向手段を備えるとともに、当該偏向手段により前記レーザ光を空間に向けて偏向させ、且つ前記反射光を前記光検出手段に向けて偏向する回動偏向手段と、
前記レーザ光発生手段からの前記レーザ光を前記偏向手段に向けて偏向するミラーと、
前記回動偏向手段の前記偏向手段を回転駆動する駆動手段と、
前記レーザ光発生手段を第1の回転軸を中心として回転させる第1の回転手段と、
前記レーザ光発生手段を前記第1の回転軸と直交する向きの第2の回転軸を中心として回転させる第2の回転手段と、
前記第1の回転手段及び前記第2の回転手段を制御する制御手段と、
を備え、
前記偏向手段の回動位置に応じて前記レーザ光発生手段を前記第1の回転手段及び前記第2の回転手段の少なくともいずれかにより回転させ、前記レーザ光発生手段から前記ミラーに入射する前記レーザ光の入射角度を変化させることで、前記偏向手段に入射する前記レーザ光の入射方向を変化させ、前記偏向手段からの前記レーザ光の向きを、前記中心軸の方向に関して変化させるように構成され、
前記中心軸の方向を縦方向としたとき、前記光検出手段は、前記ミラーに対し縦方向一方側に配置され、前記偏向手段は、前記ミラーに対し縦方向他方側に配置され、前記レーザ光発生手段、前記第1の回転手段、及び前記第2の回転手段は、前記ミラーの横側に配置されており、
前記制御手段は、
前記偏向手段が、予め設定された所定の回動範囲にあるときには、前記レーザ光発生手段を、前記第1の回転手段及び前記第2の回転手段により前記第1の回転軸及び前記第2の回転軸を中心として回転させることで、前記偏向手段に入射する前記レーザ光の前記入射方向を変化させ、前記所定の回動範囲以外のときには、前記レーザ光発生手段を、前記第1の回転手段により前記第1の回転軸を中心として回転させることで、前記偏向手段に入射する前記レーザ光の前記入射方向を変化させることを特徴とするレーザレーダ装置。 - 前記第2の回転軸は、前記縦方向の軸であり、
前記第1回転手段が所定の初期位置にあるときに前記第1の回転軸の方向及び前記中心軸の方向と直交する方向をX軸方向としたとき、
前記偏向手段の反射面の平面と平行な仮想平面と、前記X軸方向とのなす角度が予め定められた閾値以下となる回動範囲が前記所定の回動範囲として定められていることを特徴とする請求項1に記載のレーザレーダ装置。 - 前記駆動手段は、前記偏向手段を一定角度ずつ回動させる構成をなしており、
前記偏向手段が前記所定の回動範囲以外のときには、前記偏向手段が前記一定角度ずつ回動する毎に前記第1の回転手段が前記レーザ光発生手段を定められた範囲に亘って回転することで、前記一定角度毎に前記中心軸の方向の走査が行われ、
前記偏向手段が前記所定の回動範囲のときには、前記偏向手段が前記一定角度ずつ回動する毎に前記第1の回転手段及び前記第2の回転手段が前記レーザ光発生手段を定められた範囲に亘って回転することで、前記一定角度毎に前記中心軸の方向の走査が行われることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のレーザレーダ装置。
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