JP5615450B2 - 流体吐出アセンブリ及び関連方法 - Google Patents
流体吐出アセンブリ及び関連方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5615450B2 JP5615450B2 JP2013551952A JP2013551952A JP5615450B2 JP 5615450 B2 JP5615450 B2 JP 5615450B2 JP 2013551952 A JP2013551952 A JP 2013551952A JP 2013551952 A JP2013551952 A JP 2013551952A JP 5615450 B2 JP5615450 B2 JP 5615450B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluid
- thin film
- passivation layer
- resistor
- supply hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000012530 fluid Substances 0.000 title claims description 153
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 99
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 68
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 40
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 24
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 18
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 10
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 8
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 5
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 120
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 16
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 9
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 9
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 8
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 4
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 2
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 2
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- NFFIWVVINABMKP-UHFFFAOYSA-N methylidynetantalum Chemical compound [Ta]#C NFFIWVVINABMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- PXXKQOPKNFECSZ-UHFFFAOYSA-N platinum rhodium Chemical compound [Rh].[Pt] PXXKQOPKNFECSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CFQCIHVMOFOCGH-UHFFFAOYSA-N platinum ruthenium Chemical compound [Ru].[Pt] CFQCIHVMOFOCGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003134 recirculating effect Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910003468 tantalcarbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N Oxozirconium Chemical compound [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001347 Stellite Inorganic materials 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008807 WSiN Inorganic materials 0.000 description 1
- QBXVTOWCLDDBIC-UHFFFAOYSA-N [Zr].[Ta] Chemical compound [Zr].[Ta] QBXVTOWCLDDBIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- RVSGESPTHDDNTH-UHFFFAOYSA-N alumane;tantalum Chemical compound [AlH3].[Ta] RVSGESPTHDDNTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N alumane;titanium Chemical compound [AlH3].[Ti] UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- HBCZDZWFGVSUDJ-UHFFFAOYSA-N chromium tantalum Chemical compound [Cr].[Ta] HBCZDZWFGVSUDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHICWQREWHDHHF-UHFFFAOYSA-N chromium;cobalt;iron;manganese;methane;molybdenum;nickel;silicon;tungsten Chemical compound C.[Si].[Cr].[Mn].[Fe].[Co].[Ni].[Mo].[W] AHICWQREWHDHHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010952 cobalt-chrome Substances 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- HWLDNSXPUQTBOD-UHFFFAOYSA-N platinum-iridium alloy Chemical compound [Ir].[Pt] HWLDNSXPUQTBOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- WNUPENMBHHEARK-UHFFFAOYSA-N silicon tungsten Chemical compound [Si].[W] WNUPENMBHHEARK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/015—Ink jet characterised by the jet generation process
- B41J2/04—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand
- B41J2/045—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand by pressure, e.g. electromechanical transducers
- B41J2/05—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand by pressure, e.g. electromechanical transducers produced by the application of heat
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14016—Structure of bubble jet print heads
- B41J2/14088—Structure of heating means
- B41J2/14112—Resistive element
- B41J2/14129—Layer structure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1628—Manufacturing processes etching dry etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
- B41J2/1645—Manufacturing processes thin film formation thin film formation by spincoating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2002/14467—Multiple feed channels per ink chamber
Description
インクジェットプリンタの流体吐出デバイスは、インク滴のドロップオンデマンドの吐出を行う。一般に、インクジェットプリンタは、一枚の用紙のような印刷媒体上へ複数のノズルを介してインク滴を吐出することにより、イメージを印刷する。ノズルは一般に、1つ又は複数のアレイに構成され、プリントヘッド及び印刷媒体が互いに対して移動する際に、ノズルからの適切に順序付けられたインク滴の吐出により、文字または他のイメージが印刷媒体に印刷されるようになっている。特定の例において、サーマルインクジェットプリントヘッドは、噴射チャンバ内の加熱素子に電流を通電することにより、ノズルから液滴を吐出する。加熱素子からの熱が、チャンバ内の流体のごく一部を気化させ、膨張する蒸気泡が、ノズルを介してチャンバからインク滴を押し出す。加熱素子が冷える際、蒸気泡が迅速に崩壊し、流体供給穴を介してより多くの流体をチャンバへ引き込んで、吐出された液滴により残された空間を再び満たす。
問題および解決策の概要
上述したように、サーマルインクジェットプリントヘッドの抵抗加熱素子は、損傷を受け、インクが高温で高電圧の抵抗材料に接触する場合に役に立たない状態にする可能性がある。抵抗器の上の薄膜キャビテーション層に対する崩壊気泡による損傷が抵抗器を上からインクにさらす可能性がある間に、キャビテーション層の下にある抵抗器のパッシベーション層の横方向エッチングが抵抗器を側面からもインクにさらす可能性がある。幾つかのサーマルインクジェット(TIJ)のアーキテクチャにおいて、パッシベーション層は、抵抗器の各側面から、噴射チャンバにインクを供給する流体供給穴のエッジへ延びるシェルフ(棚状体)に沿って抵抗器から水平方向に離れるように伸張する。従って、パッシベーション層(例えば、SiN(窒化ケイ素))の化学的に影響されやすい材料が、流体供給穴のエッジ(即ち、シェルフの端部)において露出され、製造中に使用される化学的エッチング液により、且つ通常の印刷動作中のインクにより、抵抗器の方へ内側にエッチバックされる可能性がある。パッシベーションの十分な量がエッチング除去される場合、抵抗器はインクにさらされ、最終的には故障する。
図1は、一実施形態による、本明細書で説明されるプリントヘッド又は流体吐出デバイスを組み込むのに適したインクジェット印刷システム100を示す。この実施形態において、流体吐出デバイス/プリントヘッドは、液滴噴射プリントヘッド114として開示される。インクジェット印刷システム100は、インクジェットプリントヘッドアセンブリ102、インク供給アセンブリ104、取り付けアセンブリ106、媒体搬送アセンブリ108、電子コントローラ110、及びインクジェット印刷システム100の様々な電気コンポーネントへ電力を供給する少なくとも1つの電源112を含む。インクジェットプリントヘッドアセンブリ102は、印刷媒体118上へ印刷するように印刷媒体118の方へ複数のオリフィス又はノズル116を介してインク滴を吐出する少なくとも1つの流体吐出デバイス114又はプリントヘッド114を含む。印刷媒体118は、用紙、カードのストック、透明媒体、マイラー(登録商標)などのような適切なシート材料の任意のタイプである。一般に、ノズル116は、インクジェットプリントヘッドアセンブリ102及び印刷媒体118が互いに対して移動する際に、ノズル116からの適切に順序付けられたインク吐出により、文字、記号、及び/又は他のグラフィックス又はイメージが印刷媒体118上へ印刷されるように、1つ又は複数の列またはアレイに配列される。
Claims (15)
- 流体吐出デバイスであって、
内部に形成された流体スロットを有する基板と、
前記基板に接着され、前記流体スロットにまたがる薄膜と、
前記流体スロット上の薄膜の上面に配置された抵抗器と、
前記抵抗器に隣接し、前記薄膜を貫通して前記流体スロットまで下方に延びる流体供給穴と、
前記抵抗器のエッジから前記流体供給穴まで延びるシェルフと、
前記抵抗器と前記シェルフの一部の上に形成されたパッシベーション層と、
前記パッシベーション層の上に形成されると共に、前記シェルフ上に且つ前記流体供給穴と前記抵抗器との間に部分的に形成された化学的耐性層とを含む、流体吐出デバイス。 - 前記パッシベーション層が、前記シェルフの一部を覆い、且つ前記流体供給穴に到達する前に終端し、前記化学的耐性層が、前記パッシベーション層の端部をキャッピングし、前記シェルフに沿って前記流体供給穴まで延在する、請求項1に記載の流体吐出デバイス。
- 前記化学的耐性層が、前記シェルフ上の前記パッシベーション層のエッチング除去されたストリップに充填される、請求項1に記載の流体吐出デバイス。
- 前記パッシベーション層がエッチング除去された、前記流体供給穴を取り囲むリングに、前記化学的耐性層が充填される、請求項1に記載の流体吐出デバイス。
- 前記パッシベーション層が、前記流体吐出デバイスに使用される流体によるエッチングに化学的に影響されやすい材料から少なくとも部分的に形成されている、請求項1〜4の何れかに記載の流体吐出デバイス。
- 前記パッシベーション層が、窒化ケイ素の薄膜上の炭化ケイ素の薄膜を含む、請求項1〜5の何れかに記載の流体吐出デバイス。
- 流体吐出デバイスを作製する方法であって、
基板に薄膜を接着し、
前記薄膜の表面の一部に抵抗器を堆積し、
前記抵抗器および前記薄膜の残りの表面の上にパッシベーション層を堆積し、
前記抵抗器に隣接する前記パッシベーション層の一部をエッチング除去し、
前記パッシベーション層および前記エッチングされた部分の上に化学的耐性層を堆積し、
前記エッチングされた部分の前記化学的耐性層が前記流体供給穴と前記抵抗器との間に位置するように、前記化学的耐性層および前記薄膜を貫通して流体供給穴を形成することを含む、方法。 - 前記一部をエッチング除去することが、第1の領域をエッチングすることを含み、前記流体供給穴を形成することが、前記第1の領域内にある第2の領域において前記化学的耐性層および前記薄膜を貫通してエッチングすることを含み、前記第2の領域が、前記第1の領域の周辺部よりも小さい周辺部を有し、前記第1の領域のより大きな周辺部内に入る、請求項7に記載の方法。
- 前記一部をエッチング除去することが、前記パッシベーション層のストリップをエッチングすることを含む、請求項7に記載の方法。
- 前記一部をエッチング除去することが、前記流体供給穴を取り囲む前記パッシベーション層のリングをエッチングすることを含む、請求項7に記載の方法。
- 前記流体供給穴を形成することが、前記薄膜と前記基板との間に配置された埋め込み酸化物層まで下方に前記薄膜を貫通してエッチングすることを含む、請求項7〜10の何れかに記載の方法。
- 前記基板に流体スロットを形成することを更に含み、前記流体供給穴および前記流体スロットが互いに対して開いており、前記薄膜が前記流体スロットにまたがるようになっている、請求項7〜11の何れかに記載の方法。
- 流体吐出デバイスであって、
下にある基板の流体スロットにまたがる薄膜上の抵抗器と、
前記流体スロットまで前記薄膜を貫通して形成された流体供給穴であって、前記抵抗器と前記流体供給穴との間に延在する薄膜シェルフを形成する、流体供給穴と、
前記抵抗器の上に形成され、前記シェルフ上に部分的に延在するパッシベーション層と、
前記パッシベーション層の上に形成され、前記シェルフの残りの部分の上に前記流体供給穴まで延在し、前記流体吐出デバイスに使用される流体によるエッチングに化学的に耐性であるキャッピング層とを含む、流体吐出デバイス。 - 前記抵抗器の上に且つ前記抵抗器を取り囲んで形成され、前記流体供給穴と流体連絡する流体チャンバと、
前記抵抗器と前記チャンバに対応する、前記チャンバ上のノズルとを更に含む、請求項13に記載の流体吐出デバイス。 - 前記パッシベーション層が、前記流体によるエッチングに化学的に影響されやすい材料から少なくとも部分的に形成されている、請求項13又は14の何れかに記載の流体吐出デバイス。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/US2011/023129 WO2012105935A1 (en) | 2011-01-31 | 2011-01-31 | Fluid ejection assembly and related methods |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014503398A JP2014503398A (ja) | 2014-02-13 |
JP5615450B2 true JP5615450B2 (ja) | 2014-10-29 |
Family
ID=46602991
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013551952A Active JP5615450B2 (ja) | 2011-01-31 | 2011-01-31 | 流体吐出アセンブリ及び関連方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9033470B2 (ja) |
EP (1) | EP2670598B1 (ja) |
JP (1) | JP5615450B2 (ja) |
CN (1) | CN103328220B (ja) |
WO (1) | WO2012105935A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9895885B2 (en) | 2012-12-20 | 2018-02-20 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Fluid ejection device with particle tolerant layer extension |
US9707754B2 (en) | 2012-12-20 | 2017-07-18 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Fluid ejection device with particle tolerant layer extension |
WO2018057028A1 (en) | 2016-09-26 | 2018-03-29 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Thin film stacks |
KR20200023638A (ko) | 2017-07-28 | 2020-03-05 | 휴렛-팩커드 디벨롭먼트 컴퍼니, 엘.피. | 성형체와 인터로킹된 유체 토출 다이 |
WO2019194785A1 (en) * | 2018-04-02 | 2019-10-10 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Adhering layers of fluidic dies |
JP7186540B2 (ja) * | 2018-08-06 | 2022-12-09 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド用基板、液体吐出ヘッド、および、液体吐出装置 |
JP7214468B2 (ja) * | 2018-12-25 | 2023-01-30 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド |
WO2022015307A1 (en) * | 2020-07-16 | 2022-01-20 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Fluidic die assemblies with living hinges |
JP2022146318A (ja) * | 2021-03-22 | 2022-10-05 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド用基板の製造方法 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6543884B1 (en) * | 1996-02-07 | 2003-04-08 | Hewlett-Packard Company | Fully integrated thermal inkjet printhead having etched back PSG layer |
US6322201B1 (en) * | 1997-10-22 | 2001-11-27 | Hewlett-Packard Company | Printhead with a fluid channel therethrough |
US6491377B1 (en) | 1999-08-30 | 2002-12-10 | Hewlett-Packard Company | High print quality printhead |
JP2001253074A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-18 | Casio Comput Co Ltd | サーマル式インクジェットプリンタヘッド |
JP2001270121A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-02 | Casio Comput Co Ltd | インクジェットプリンタヘッド及びその製造方法。 |
JP3937804B2 (ja) * | 2001-10-30 | 2007-06-27 | キヤノン株式会社 | 貫通孔を有する構造体の製造方法 |
GB2384519B (en) | 2002-01-28 | 2005-08-24 | John Edwin James Jones | Vehicle security device |
US6747684B2 (en) | 2002-04-10 | 2004-06-08 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Laser triggered inkjet firing |
KR100459905B1 (ko) * | 2002-11-21 | 2004-12-03 | 삼성전자주식회사 | 두 개의 잉크챔버 사이에 배치된 히터를 가진 일체형잉크젯 프린트헤드 및 그 제조방법 |
KR100519765B1 (ko) * | 2003-03-20 | 2005-10-07 | 삼성전자주식회사 | 잉크젯 프린트헤드 및 그 제조방법 |
US6893116B2 (en) | 2003-04-29 | 2005-05-17 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Fluid ejection device with compressive alpha-tantalum layer |
US20080002000A1 (en) | 2006-06-29 | 2008-01-03 | Robert Wilson Cornell | Protective Layers for Micro-Fluid Ejection Devices and Methods for Depositing the Same |
US8562845B2 (en) * | 2006-10-12 | 2013-10-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet print head and method of manufacturing ink jet print head |
KR20080040240A (ko) * | 2006-11-02 | 2008-05-08 | 삼성전자주식회사 | 열구동 방식의 잉크젯 프린트헤드 |
JP2008221661A (ja) * | 2007-03-14 | 2008-09-25 | Ricoh Co Ltd | 液体吐出ヘッド及びその製造方法、ヘッドカートリッジ、画像形成装置 |
US7862156B2 (en) * | 2007-07-26 | 2011-01-04 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Heating element |
KR101235808B1 (ko) | 2007-08-27 | 2013-02-21 | 삼성전자주식회사 | 잉크젯 프린트헤드 및 그 제조방법 |
JP2012507417A (ja) | 2008-10-31 | 2012-03-29 | フジフィルム ディマティックス, インコーポレイテッド | ノズル噴出口成形 |
US20100110144A1 (en) | 2008-10-31 | 2010-05-06 | Andreas Bibl | Applying a Layer to a Nozzle Outlet |
-
2011
- 2011-01-31 US US13/978,768 patent/US9033470B2/en active Active
- 2011-01-31 CN CN201180066453.9A patent/CN103328220B/zh active Active
- 2011-01-31 EP EP11857598.4A patent/EP2670598B1/en active Active
- 2011-01-31 JP JP2013551952A patent/JP5615450B2/ja active Active
- 2011-01-31 WO PCT/US2011/023129 patent/WO2012105935A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2012105935A1 (en) | 2012-08-09 |
EP2670598B1 (en) | 2019-07-03 |
CN103328220B (zh) | 2016-04-27 |
US9033470B2 (en) | 2015-05-19 |
EP2670598A4 (en) | 2018-02-28 |
CN103328220A (zh) | 2013-09-25 |
US20130286105A1 (en) | 2013-10-31 |
EP2670598A1 (en) | 2013-12-11 |
JP2014503398A (ja) | 2014-02-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5615450B2 (ja) | 流体吐出アセンブリ及び関連方法 | |
US6938340B2 (en) | Method of forming a printhead using a silicon on insulator substrate | |
US8727499B2 (en) | Protecting a fluid ejection device resistor | |
JP4571734B2 (ja) | 流体滴発生器およびその製造方法 | |
JP5014377B2 (ja) | 原子番号の小さい元素により形成されたヒーターを備えたサーマルインクジェットプリントヘッド | |
US9707754B2 (en) | Fluid ejection device with particle tolerant layer extension | |
KR20050086689A (ko) | 현수형 빔 히터를 구비한 서멀 잉크젯 프린트헤드 | |
TWI508867B (zh) | 具耐粒子薄膜延伸部之流體噴出裝置 | |
KR20050085081A (ko) | 균일하게 코팅된 히터를 구비한 잉크젯 프린트헤드 | |
KR20050086711A (ko) | 높은 노즐 면적밀도를 갖는 서멀 잉크젯 프린트헤드 | |
KR20050085031A (ko) | 대칭적인 기포형성을 갖는 서멀 잉크젯 프린트헤드 | |
US20120019597A1 (en) | Inkjet printhead with cross-slot conductor routing | |
JP5740469B2 (ja) | 流体噴射装置 | |
KR20050086690A (ko) | 고효율의 서멀 잉크젯 프린트헤드 | |
TWI568597B (zh) | 具墨水進給孔橋接器的流體噴出裝置 | |
KR20050086751A (ko) | 화학증기증착 노즐 플레이트를 구비한 서멀 잉크젯 | |
KR20050083936A (ko) | 낮은 히터 질량을 구비한 서멀 잉크젯 프린트헤드 | |
CN108136776B (zh) | 流体喷射设备 | |
US9498953B2 (en) | Printhead die with multiple termination rings | |
JP2006507148A (ja) | 自己冷却サーマルインクジェットプリントヘッド | |
KR20050086712A (ko) | 캐비테이션 틈을 갖는 서멀 잉크젯 프린트헤드 | |
US9358783B2 (en) | Fluid ejection device and method of forming same | |
US9895885B2 (en) | Fluid ejection device with particle tolerant layer extension |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130730 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140411 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140415 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140613 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140902 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140909 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5615450 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |