JP5610186B2 - 過酸化水素ガス発生装置 - Google Patents
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Description
(過酸化水素ガス発生装置)
まず、図1を参照しながら、本発明の第1実施形態について説明する。図1に示す通り、本実施形態に係る過酸化水素ガス発生装置100は、チャンバー110内に収容された被処理物の滅菌処理に使用する過酸化水素ガスを発生させるためのものである。
過酸化水素ガス発生装置100を用いた滅菌方法について詳細に説明する。本実施形態に係る滅菌方法は、原料の過酸化水素水溶液A1を濃縮用容器22に供給する原料供給工程と、濃縮用容器22内の過酸化水素水溶液を濃縮して濃縮液A2を得る濃縮工程と、濃縮液を得る過程で生じる排液及び排ガスを処理する工程(排液処理工程及び排ガス処理工程)と、濃縮液を気化させて混合ガスを得る気化工程と、混合ガスをキャリアガスとともにチャンバー110に供給するガス供給工程とを備える。
次に、図3を参照しながら、本発明の第2実施形態について説明する。本実施形態に係る過酸化水素ガス発生装置200は、上述の過酸化水素ガス発生装置100と以下の点において相違する。すなわち、上述の濃縮用容器22及び気化用容器52を兼用する一つの加熱用容器55(加熱手段)を備えたものである点、及び、装置100が具備しない構成(除湿手段70、除湿剤再生手段80及び残留液の回収手段90など)を更に具備するものである点である。以下、上記相違点に係る構成及びこれに関連する工程について主に説明する。
図1に示す過酸化水素ガス発生装置100と同様の構成の装置を作製し、この装置を使用して滅菌処理を行った。まず、原料の過酸化水素水溶液(過酸化水素濃度35質量%、市販品)が入った試薬瓶を準備し、この試薬瓶と濃縮用容器とを配管で接続した。なお、濃縮用容器として、図2に示す容器と同様の構成の円筒状の耐熱ガラス採取管(直径45mm、高さ145mm)を使用した。試薬瓶から濃縮用容器に原料液を30mL供給した。
濃縮処理の時間を約45分とする代わりに、約60分とすることによって過酸化水素濃度75質量%の水溶液(濃縮液2)を5mL得たことの他は、実施例1と同様にして混合ガスの発生、チャンバーへの供給及び濃度分析を行った。表1に過酸化水素濃度の分析結果を示す。
気化用容器に過酸化水素濃度70質量%の濃縮液7mLを供給する代わりに、過酸化水素濃度35質量%の原料液3mLを供給したことの他は、実施例1と同様にして混合ガスの発生、チャンバーへの供給及び濃度分析を行った。表1に分析結果を示す。
試薬瓶から濃縮用容器に供給する原料液の量を30mLとする代わりに、60mLとするとともに濃縮処理の時間を適宜調節したことの他は、実施例1と同様にして表2に示す濃縮液3〜6を得た。
濃縮液1の代わりに、表2に示す量の濃縮液3〜5をそれぞれ使用するとともに、チャンバーに導入したガスを循環路に導入して循環ガスをキャリアガスとしたことの他は、実施例1と同様にして混合ガスの発生、チャンバーへの供給及び濃度分析を行った。表3に分析結果を示す。
濃縮液3の代わりに、表2に示す濃縮液6を使用するとともに、濃縮液を気化させる際のヒータ温度を110℃とする代わりに、100℃としたことの他は、実施例3と同様にして混合ガスの発生、チャンバーへの供給及び濃度分析を行った。表4に過酸化水素濃度の分析結果を示す。
濃縮液6を気化させる際のヒータ温度を100℃とする代わりに、120℃としたことの他は、実施例6と同様にして混合ガスの発生、チャンバーへの供給及び濃度分析を行った。表4に過酸化水素濃度の分析結果を示す。
9mLの濃縮液6を使用する代わりに、計18mLの濃縮液6を使用したことの他は、実施例7と同様にして混合ガスの発生、チャンバーへの供給及び濃度分析を行った。なお、気化を開始する段階で気化用容器に9mLの濃縮液6を入れ、気化を行っている途中で更に9mLの濃縮液6を気化用容器に供給した。表4に過酸化水素濃度の分析結果を示す。
図2に示す過酸化水素ガス発生装置200と同様の構成の装置を作製し、この装置を使用して滅菌処理を行った。まず、原料の過酸化水素水溶液(過酸化水素濃度35質量%、市販品)が入った試薬瓶を準備し、この試薬瓶と加熱用容器とを配管で接続した。なお、加熱用容器として、図2に示す容器と同様の構成の円筒状のステンレス容器(内径90mm、高さ110mm、内壁面:ふっ素樹脂によるコーティング加工)を使用した。試薬瓶から加熱用容器に原料液を27mL供給した。
過酸化水素ガス濃度80質量%の濃縮液2mLを使用したこと、気化工程前におけるチャンバー内の除湿処理を実施しなかったこと及びヒータの温度設定を変更したことの他は、実施例9と同様にして混合ガスの発生、チャンバーへの供給及び濃度分析を行った。表5に分析結果を示す。
過酸化水素濃度75質量%の濃縮液4mLを気化させる代わりに、過酸化水素濃度35質量%の原料液10mLを気化させたこと及びヒータの温度設定を変更したことの他は、実施例9と同様にして混合ガスの発生、チャンバーへの供給及び濃度分析を行った。表5に分析結果を示す。
気化工程前におけるチャンバー内の除湿処理を実施しなかったこと及びヒータの温度設定を変更したことの他は、比較例2と同様にして混合ガスの発生、チャンバーへの供給及び濃度分析を行った。表6に分析結果を示す。
Claims (3)
- チャンバー内において被処理物の滅菌に使用する過酸化水素ガスの発生装置であって、
原料の過酸化水素水溶液が供給される濃縮用容器を有し、当該容器内の前記過酸化水素水溶液を濃縮して過酸化水素の濃縮液を得る濃縮手段と、
前記濃縮用容器からの前記濃縮液が供給される気化用容器を有し、当該容器内の前記濃縮液を気化させて過酸化水素ガス及び水蒸気を含む混合ガスを得る気化手段と、
前記気化用容器及び前記チャンバーに連通するガス供給路と、前記ガス供給路に設けられた送風機とを有し、前記ガス供給路を通じてキャリアガスとともに前記混合ガスを前記チャンバーに供給するガス供給手段と、
を備える過酸化水素ガス発生装置。 - 前記濃縮用容器は、上方から下方に延びており上端及び下端が閉じられた円筒状の本体部と、当該濃縮用容器内において前記本体部の内壁面に沿うように曲がり且つ当該濃縮用容器内の液面に対して斜め上方から空気を吹き付ける位置に先端が設けられた空気吹込み管と、前記本体部の上端に設けられたガス排出口と、当該濃縮用容器で得られた濃縮液を排出する濃縮液排出口とを有する、請求項1に記載の過酸化水素ガス発生装置。
- 除湿剤が収容される収容部と、当該収容部及び前記チャンバーに連通する除湿用循環路とを有する除湿手段を更に備える、請求項1又は2に記載の過酸化水素ガス発生装置。
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Families Citing this family (12)
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JP2012034781A (ja) * | 2010-08-05 | 2012-02-23 | Takeda Chem Ind Ltd | 除染装置 |
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JP2013081562A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-09 | Canon Marketing Japan Inc | 滅菌装置、滅菌方法 |
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KR102027475B1 (ko) * | 2012-03-28 | 2019-10-01 | 라시크 아이엔씨. | 다성분 용액으로부터의 공정 가스의 전달 방법 |
JP6514189B2 (ja) * | 2013-04-05 | 2019-05-15 | ラシリック, インコーポレイテッドRASIRC, Inc. | 高濃度過酸化水素ガスストリームの供給 |
JP5901074B2 (ja) * | 2013-12-19 | 2016-04-06 | キヤノンマーケティングジャパン株式会社 | 滅菌装置、滅菌方法、およびプログラム |
JP6423004B2 (ja) * | 2014-05-13 | 2018-11-14 | ラシリック, インコーポレイテッドRASIRC, Inc. | プロセスガスを重要工程処理に送達するための方法および系 |
JP6322050B2 (ja) * | 2014-05-20 | 2018-05-09 | 株式会社フジキン | 流体濃縮気化装置 |
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JP7141395B2 (ja) * | 2016-12-01 | 2022-09-22 | ラシルク,インコーポレイテッド | ガス供給システムにおける過酸化水素の分解を抑制する方法、システム、および装置 |
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Family Cites Families (6)
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---|---|---|---|---|
US5876664A (en) * | 1996-06-14 | 1999-03-02 | American Sterilizer Company | Continuous-operation, closed loop decontamination system and method |
GB2354443A (en) * | 1999-09-21 | 2001-03-28 | Microflow Ltd | Vapour phase sterilisation |
US20030124026A1 (en) * | 2001-11-05 | 2003-07-03 | Hal Williams | Apparatus and process for concentrating a sterilant and sterilizing articles therewith |
JP3915598B2 (ja) * | 2002-05-27 | 2007-05-16 | 澁谷工業株式会社 | 殺菌液気化装置 |
EP2119497B1 (en) * | 2006-12-27 | 2012-03-07 | Biochromat Co., Ltd. | Stopper for removing volatile substance, vessel for removing volatile substance, and apparatus for removing volatile substance |
AU2008210270B8 (en) * | 2007-02-02 | 2012-04-26 | Saban Ventures Pty Limited | Membrane vapour concentrator |
-
2009
- 2009-12-17 JP JP2009286671A patent/JP5610186B2/ja active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109453719A (zh) * | 2018-11-28 | 2019-03-12 | 盐城维益节能设备有限公司 | 一种多元气体发生装置及其方法 |
CN109453719B (zh) * | 2018-11-28 | 2021-09-24 | 盐城维益节能设备有限公司 | 一种多元气体发生装置及其方法 |
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