JP5592782B2 - 食品加工設備及び/又は調理設備用洗浄剤組成物 - Google Patents
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(a)4級アンモニウム塩型殺菌剤0.5〜10質量%、
(b)炭素数8〜16の炭化水素基を1つ有するアミンオキサイド型界面活性剤0.5〜19.5質量%、
(c)炭素数8〜16の脂肪酸及びそれらの塩から選ばれる1種以上の化合物0.5〜10質量%(但し、脂肪酸塩を含む場合は脂肪酸としての換算値)、及び
(d)水
を含有し、(b)成分/(c)成分の質量比が1/10〜10/1であり、(b)成分と(c)成分の合計含有量が4〜20質量%であり、且つ〔(a)成分+(b)成分〕/(c)成分の質量比が1/10〜20/1である食品加工設備及び/又は調理設備用洗浄剤組成物に関する。
(a)成分は、4級アンモニウム塩型殺菌剤である。4級アンモニウム塩型殺菌剤としては、下記一般式(1)で表される化合物から選ばれる1種以上を用いることが好適である。
(b)成分は、炭素数8〜16の炭化水素基を1つ有するアミンオキサイド型界面活性剤である。分子中に含まれる炭素数8〜16の炭化水素基としては、アルキル基又はアルケニル基が挙げられ、それらは直鎖でも分岐鎖でもよい。
(c)成分は、炭素数8〜16の脂肪酸及びそれらの塩から選ばれる1種以上の化合物である。好適な(c)成分の例としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、及びそれらの塩が挙げられ、中でも、濯ぎ時の泡切れ性に寄与するために、ラウリン酸、ミリスチン酸、及びそれらの塩が好ましい。ここで、塩としては、アルカリ金属塩が挙げられ、中でも、ナトリウム塩、カリウム塩が好ましい。
本発明の食品加工設備及び/又は調理設備用洗浄剤組成物において、上記(a)成分乃至(c)成分以外の残部は水〔即ち、(d)成分〕とし得る。水は、好ましくは硬度成分を含まないイオン交換水を用いることができる。
本発明の食品加工設備及び/又は調理設備用洗浄剤組成物は10℃以下においても溶液安定性を損なわず、更に、0℃以下、ひいては−5℃の環境下においても、凍ることなく透明性を維持していることが好ましい。
本発明の食品加工設備及び/又は調理設備用洗浄剤組成物は、下記工程1〜3を含む洗浄方法に好適に用いられる。
工程1:食品加工設備及び/又は調理設備用洗浄剤組成物を水により5〜200倍の希釈倍率で、予め希釈し、及び/又は、希釈しながら、泡状に噴射し、食品加工設備及び/又は調理設備に付着させる工程
工程2:泡を一定の時間保持する工程
工程3:食品加工設備及び/又は調理設備を水で濯ぐ工程
ここで、希釈に使用される水としては、一般に、水道水のような、硬度成分を含有する水であることが想定される。希釈に使用される水の硬度は、発泡洗浄時における泡安定性の観点から、0.1〜8°dHの範囲にあることが好ましく、更に、0.1〜4°dHの範囲にあることが好ましい。
表1記載の食品加工設備及び/又は調理設備用洗浄剤組成物(表中、「液体洗浄剤組成物」と記載;以下、液体洗浄剤組成物という)を、硬度4°dHの水で20倍に希釈して5質量%水溶液として、ポンプフォーマー容器(B 523:株式会社 吉野工業所製)に100mL投入した。300mLのディスポカップに、フォーマヘッドを1プッシュして泡を形成し(1プッシュ当たり1gの泡を生成;発泡倍率20倍)、完全に破泡するまでの時間を目視で判定し、その時間(分)を計測した。この試験では60分以上を合格とする。
表1記載の液体洗浄剤組成物を、硬度4°dHの水で20倍に希釈して5質量%水溶液として、ポンプフォーマー容器(B 523:株式会社 吉野工業所製)に100mL投入した。300mLのディスポカップに、フォーマヘッドを1プッシュして泡を形成した(1プッシュ当たり1gの泡を生成;発泡倍率20倍)。1分後、この泡に、硬度4°dHの水(25℃)を100mL投入し、完全に破泡するまでの時間を目視で判定した。その時間(秒)を計測した。この試験では20秒未満を合格とする。
・塩化ベンザルコニウム:サニゾール B−50、花王(株)製 有効分:50質量%※1
・ドデシルジメチルアミンオキサイド:アンヒトール20N、花王(株)製、有効分35質量%※1
・ミリスチン酸:ルナック MY−98、花王(株)製
・ラウリル硫酸ナトリウム:エマールO 花王(株)製 有効分 99.96%
・水酸化カリウム:液体苛性カリ(48質量%)、旭硝子(株)製
Claims (7)
- (a)4級アンモニウム塩型殺菌剤0.5〜10質量%、
(b)炭素数8〜16の炭化水素基を1つ有するアミンオキサイド型界面活性剤0.5〜19.5質量%、
(c)炭素数8〜16の脂肪酸及びそれらの塩から選ばれる1種以上の化合物0.5〜10質量%(但し、脂肪酸塩を含む場合は脂肪酸としての換算値)、及び
(d)水
を含有し、(b)成分/(c)成分の質量比が1/10〜10/1であり、(b)成分と(c)成分の合計含有量が4〜10質量%であり、且つ〔(a)成分+(b)成分〕/(c)成分の質量比が1/10〜20/1である食品加工設備及び/又は調理設備用洗浄剤組成物。 - 下記工程1〜3を含む洗浄方法に用いる、請求項1記載の食品加工設備及び/又は調理設備用洗浄剤組成物。
工程1:食品加工設備及び/又は調理設備用洗浄剤組成物を水により5〜200倍の希釈倍率で、予め希釈し、及び/又は、希釈しながら、泡状に噴射し、食品加工設備及び/又は調理設備に付着させる工程
工程2:泡を一定の時間保持する工程
工程3:食品加工設備及び/又は調理設備を水で濯ぐ工程 - 工程1が、食品加工設備及び/又は調理設備用洗浄剤組成物を水により5倍〜200倍の希釈倍率で、予め希釈し、及び/又は、希釈しながら、間欠することなく泡状に噴射し、食品加工設備及び/又は調理設備に付着させる工程である、請求項2記載の食品加工設備及び/又は調理設備用洗浄剤組成物。
- (a)成分が、N−長鎖アルキル(炭素数8〜12)−N,N−ジメチル−N−ベンジルアンモニウム塩、及びN,N−ジ長鎖アルキル(炭素数8〜12)−N,N−ジ短鎖アルキル(炭素数1〜3)アンモニウム塩から選ばれる1種以上の化合物である、請求項1〜3の何れか1項記載の食品加工設備及び/又は調理設備用洗浄剤組成物。
- (c)成分が、ラウリン酸、ミリスチン酸、及びそれらの塩から選ばれる1種以上の化合物である、請求項1〜4の何れか1項記載の食品加工設備及び/又は調理設備用洗浄剤組成物。
- 請求項2記載の工程1〜3を含む、請求項1〜5の何れか1項記載の食品加工設備及び/又は調理設備用洗浄剤組成物を使用する食品加工設備及び/又は調理設備の洗浄方法。
- 工程1が、食品加工設備及び/又は調理設備用洗浄剤組成物を水により5倍〜200倍の希釈倍率で、予め希釈し、及び/又は、希釈しながら、間欠することなく泡状に噴射し、食品加工設備及び/又は調理設備に付着させる工程である、請求項6記載の食品加工設備及び/又は調理設備の洗浄方法。
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