JP5589964B2 - 電子顕微鏡用絞りプレート板及びその製造方法 - Google Patents
電子顕微鏡用絞りプレート板及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5589964B2 JP5589964B2 JP2011126849A JP2011126849A JP5589964B2 JP 5589964 B2 JP5589964 B2 JP 5589964B2 JP 2011126849 A JP2011126849 A JP 2011126849A JP 2011126849 A JP2011126849 A JP 2011126849A JP 5589964 B2 JP5589964 B2 JP 5589964B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- diameter
- electron microscope
- hole
- metal plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 29
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 38
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 38
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 32
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 31
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 7
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 4
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 27
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 238000012916 structural analysis Methods 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 238000012800 visualization Methods 0.000 description 5
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 3
- 238000002003 electron diffraction Methods 0.000 description 3
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 3
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 3
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Description
(1)非磁性材料からなる金属板の中心に貫通した孔を有する電子顕微鏡用絞りプレート板であって、前記孔は、nを2以上の正の整数として、直径が異なるn個の円筒形状の空洞からなり、前記金属板の下面と垂直な中心軸上に同軸に、前記下面に繋がる円筒形状の空洞を先頭に前記金属板の上面に向けて直径が大きくなっていく順に前記n個の円筒形状の空洞が連続して配列した形状であり、iを1から前記nまでの正の整数として、i番目の円筒形状の空洞の直径をd i 、高さをL i とした時に、前記金属板の厚みが50μm≦(L 1 +L 2 +・・+L n )≦150μmであり、前記下面に繋がる1番目の円筒形状の空洞の直径d 1 が0.5μm≦d 1 ≦1.5μm、高さL 1 が10μm≦L 1 ≦20μm、前記金属板の上面に繋がるn番目の円筒形状の空洞の直径d n が10μm≦d n ≦20μmであることを特徴とする電子顕微鏡用絞りプレート板。
(2)前記金属板は、モリブデン、タングステン、白金、銅からなることを特徴とする(1)に記載の電子顕微鏡用絞りプレート板。
(3)集束したイオンビームを用いて、(1)または(2)のいずれかに記載の電子顕微鏡用絞りプレート板の前記孔を加工することを特徴とする電子顕微鏡用絞りプレート板の製造方法。
(4)前記下面に繋がる1番目の円筒形状の空洞のみ、前記金属板の下面側から加工することを特徴とする(3)に記載の電子顕微鏡用絞りプレート板の製造方法。
2 Gaイオン銃
3 イオンビーム光学系
4 二次電子検出器
5 画像表示装置
6 据え付け台
7 金属板
10 集束イオンビーム加工装置
11 孔
11a、11b 空洞
Claims (4)
- 非磁性材料からなる金属板の中心に貫通した孔を有する電子顕微鏡用絞りプレート板であって、
前記孔は、nを2以上の正の整数として、直径が異なるn個の円筒形状の空洞からなり、前記金属板の下面と垂直な中心軸上に同軸に、前記下面に繋がる円筒形状の空洞を先頭に前記金属板の上面に向けて直径が大きくなっていく順に前記n個の円筒形状の空洞が連続して配列した形状であり、
iを1から前記nまでの正の整数として、i番目の円筒形状の空洞の直径をd i 、高さをL i とした時に、前記金属板の厚みが50μm≦(L 1 +L 2 +・・+L n )≦150μmであり、前記下面に繋がる1番目の円筒形状の空洞の直径d 1 が0.5μm≦d 1 ≦1.5μm、高さL 1 が10μm≦L 1 ≦20μm、前記金属板の上面に繋がるn番目の円筒形状の空洞の直径d n が10μm≦d n ≦20μmであることを特徴とする電子顕微鏡用絞りプレート板。 - 前記金属板は、モリブデン、タングステン、白金、銅からなることを特徴とする請求項1に記載の電子顕微鏡用絞りプレート板。
- 集束したイオンビームを用いて、請求項1または2のいずれか1項に記載の電子顕微鏡用絞りプレート板の前記孔を加工することを特徴とする電子顕微鏡用絞りプレート板の製造方法。
- 前記下面に繋がる1番目の円筒形状の空洞のみ、前記金属板の下面側から加工することを特徴とする請求項3に記載の電子顕微鏡用絞りプレート板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011126849A JP5589964B2 (ja) | 2011-06-07 | 2011-06-07 | 電子顕微鏡用絞りプレート板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011126849A JP5589964B2 (ja) | 2011-06-07 | 2011-06-07 | 電子顕微鏡用絞りプレート板及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012252967A JP2012252967A (ja) | 2012-12-20 |
JP5589964B2 true JP5589964B2 (ja) | 2014-09-17 |
Family
ID=47525589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011126849A Expired - Fee Related JP5589964B2 (ja) | 2011-06-07 | 2011-06-07 | 電子顕微鏡用絞りプレート板及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5589964B2 (ja) |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6046647U (ja) * | 1983-09-08 | 1985-04-02 | 川崎製鉄株式会社 | 電子顕微鏡の絞り板 |
JPH01307154A (ja) * | 1988-06-03 | 1989-12-12 | Toshiba Corp | 質量分析装置 |
JPH0326045U (ja) * | 1989-07-21 | 1991-03-18 | ||
JP2944559B2 (ja) * | 1997-03-18 | 1999-09-06 | 株式会社東芝 | ビーム電流測定用貫通孔の製造方法 |
JP3123996B2 (ja) * | 1999-01-07 | 2001-01-15 | 九州日本電気株式会社 | 走査型電子顕微鏡 |
JP4364420B2 (ja) * | 2000-10-31 | 2009-11-18 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | 垂直エッジのサブミクロン貫通孔を形成する方法 |
JP2007329043A (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-20 | Jeol Ltd | 荷電粒子線用絞りプレート及びその作製方法 |
JP4185961B2 (ja) * | 2008-03-07 | 2008-11-26 | 株式会社日立製作所 | 集束イオンビーム装置 |
JP2011243540A (ja) * | 2010-05-21 | 2011-12-01 | Hitachi High-Technologies Corp | 透過電子顕微鏡の制限視野絞りプレート、制限視野絞りプレートの製造方法及び制限視野電子回折像の観察方法 |
-
2011
- 2011-06-07 JP JP2011126849A patent/JP5589964B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012252967A (ja) | 2012-12-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104897696B (zh) | 用于关联原子分辨率层析成像分析的可延展薄片的制作 | |
Kelly et al. | Local electrode atom probes | |
EP2477206B1 (en) | Method for processing and/or analyzing a sample with a particle beam device | |
TWI768001B (zh) | 帶電粒子束裝置以及試樣加工方法 | |
Pastukhov et al. | Application of backscatter electrons for large area imaging of cavities produced by neutron irradiation | |
Dagan et al. | Automated atom-by-atom three-dimensional (3D) reconstruction of field ion microscopy data | |
KR20190100025A (ko) | 하전 입자 빔 장치, 시료 가공 관찰 방법 | |
JP5589964B2 (ja) | 電子顕微鏡用絞りプレート板及びその製造方法 | |
TW201942932A (zh) | 發射器的製作方法 | |
Dawson et al. | Changes in precipitate distributions and the microstructural evolution of P24/P91 dissimilar metal welds during PWHT | |
Xu et al. | Recent developments in focused ion beam and its application in nanotechnology | |
Miller et al. | Performance of a local electrode atom probe | |
EP2263248A1 (en) | Gas field ion source with coated tip | |
JP5150800B2 (ja) | 電界放出型電子銃の製造方法、その製造方法による電界放出型電子銃、荷電粒子ビーム装置、電界放出型電子銃の再生方法、その再生方法による電界放出型電子銃、荷電粒子ビーム装置、および複数分割エミッタ電極 | |
TWI813760B (zh) | 試料加工觀察方法 | |
Hlawacek | Ion Microscopy | |
Bobynko | Characterisation and absolute quantification of nanosized V and Nb precipitates in high manganese steel using DualEELS | |
JP2001289752A (ja) | 磁性材料の透過電子顕微鏡観察用試料作製方法 | |
Fu et al. | Microstructure modification of AISI1045 steel induced by high-current pulsed pseudospark electron beam | |
Miller et al. | Introduction to atom-probe tomography | |
KAMŠEK | Transmission Electron Microscopy | |
JP2022009601A (ja) | 荷電粒子ビーム装置、試料加工方法 | |
Kashiwar | TEM investigations of deformation mechanisms in nanocrystalline metals and multilayered composites | |
Pearmain | Electron microscopy characterisation of size-selected Pd clusters and industrial Pd catalysts | |
Hsiao | Advances in electron imaging and diffraction of material defects and deformation mechanisms |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130812 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140221 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140304 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140501 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140701 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140714 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5589964 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |