JP5574367B2 - 混合ガスの製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、混合ガスの製造方法に関し、詳しくは、水蒸気と二酸化炭素を供給するガス化反応により、石炭からメタノール、ジメチルエーテル、メタン、その他アルカンなどの化学原料、化学品及び液体燃料の製造原料を一段階で製造する方法に関する。
石炭から、液体燃料や化学品を製造するプロセスには、直接石炭液化プロセスとフィッシャートロプッシュ合成プロセス(以下、FT合成プロセスともいう。)がある。
前記直接石炭液化プロセスによれば、高圧水素下で石炭を液体燃料に直接転換できる。しかし、このプロセスの欠点は、反応剤として多量の水素を必要とすることである。
前記FT合成プロセスは、一酸化炭素と水素から触媒反応を用いて液体炭化水素を合成する一連の過程であり、現在行われている主要なプロセスである。FT合成プロセスの問題点は、原料として、定まった比率で一酸化炭素と水素を含有する混合ガスを製造しなければならないことである。しかし、望ましい混合ガスを製造できさえすれば、FT合成プロセスによりメタノール、ジメチルエーテル(DME)、メタン、その他アルカンなどの化学品や液体燃料を製造することができる。
FT合成プロセスにおいては、混合ガス中のH/CO比が1の時、DMEを製造することができ、該比が2の時、メタノールを製造することができ、該比が3の時、メタンを製造することができる。FT合成プロセスの原料となる混合ガスは、メタンのスチームリフォーミングや、石炭のガス化反応により製造することができる。
前記メタンのスチームリフォーミングによれば、700℃で反応させることにより、一段階で望ましい混合ガスの製造が可能である。これに対し、石炭ガス化反応では、一段階での望ましい混合ガスの製造は不可能であった。すなわち、石炭ガス化の商業的プロセスでは1200℃以上の温度を必要とすることから、得られる典型的なガス組成は、H/CO比が0.7であり、メタノールやジメチルエーテル(DME)やメタンを製造するには、300〜400℃での水シフト反応でその組成を1や、2や、3に調節しなければならなかった。そのために、従来の石炭ガス化反応によるFT合成プロセス用の混合ガスの製造においては、2段階プロセスが必要であり、大量のエネルギーを消費しなければならないので、エネルギー効率が低かった。そのために、経済性が悪く商業化することができなかった。そこで、FT合成プロセス用混合ガスを一段階の石炭ガス化反応により製造する方法の開発が期待されている。
特開2009‐013320号公報
本発明は、ジメチルエーテル、メタノール、メタン、その他アルカンなどの化学原料、化学品及び液体燃料を製造するためのFT合成プロセス用混合ガスを、低圧且つ一段階の石炭ガス化反応により製造することができ、更に製造プロセスの長期運転が可能な混合ガスの製造方法を提供することを、その課題とする。
本発明によれば、以下に示す混合ガスの製造方法が提供される。
[1]
石炭の触媒ガス化反応による混合ガスの製造方法において、ガス化温度を650〜800℃(但し、650℃は除く)に設定し、触媒の存在下、二酸化炭素及び/又は水蒸気を供給すると共に、二酸化炭素に対する水蒸気の体積比(HO/CO比)を制御することにより、得られる混合ガス中の一酸化炭素に対する水素のモル比(H/CO比)を制御し、更に、該モル比(H /CO比)が該設定温度と該体積比(H O/CO 比)により変化する特性を利用して該モル比(H /CO比)を制御することを特徴とする混合ガスの製造方法。
[2]
前記モル比(H /CO比)が該設定温度と該体積比(H O/CO 比)により変化する特性が、温度一定で体積比(H O/CO 比)を大きくするとモル比(H /CO比)が大きくなり、体積比(H O/CO 比)一定で温度を高くするとモル比(H /CO比)が小さくなる特性であることを特徴とする請求項1に記載の混合ガスの製造方法。

大気圧下で触媒ガス化反応を行わせることを特徴とする前記1に記載の混合ガスの製造方法。

ガス化温度を700〜800℃の範囲内に設定し、二酸化炭素に対する水蒸気の体積比(HO/CO比)を、0.2〜0.8の範囲内でガス化温度に対応させて設定することにより、ジメチルエーテル合成用の混合ガスを製造する前記〜3のいずれかに記載の混合ガスの製造方法。


ガス化温度を700〜800℃の範囲内に設定し、二酸化炭素に対する水蒸気の体積比(HO/CO比)を、0.6〜1.4の範囲内でガス化温度に対応させて設定することにより、メタノール合成用の混合ガスを製造する前記〜3のいずれかに記載の混合ガスの製造方法。


ガス化温度を700〜800℃の範囲内に設定し、二酸化炭素に対する水蒸気の体積比(HO/CO比)を、1.0〜2.0の範囲内でガス化温度に対応させて設定することにより、メタン合成用の混合ガスを製造する前記〜3のいずれかに記載の混合ガスの製造方法。


触媒の種類、量により反応速度を調整することを特徴とする前記1〜のいずれかに記載の混合ガスの製造方法。

触媒が炭酸カリウムであり、その石炭に対する添加量が6〜50重量%であることを特徴とする前記1〜7に記載の混合ガスの製造方法。

亜瀝青炭又は褐炭由来の無灰炭を用いることを特徴とする前記1〜のいずれかに記載の混合ガスの製造方法。
10
亜瀝青炭がパシール炭であることを特徴とする前記に記載のメタン製造用混合ガスの製造方法。
11
褐炭がムリア炭であることを特徴とする前記に記載のメタン製造用混合ガスの製造方法。
12
石炭と触媒とを混合し、それらを炉内へ供給して水蒸気及び二酸化炭素と接触させ、発生した気体と残存する石炭残留物とから気体を分離することを特徴とする前記1〜11のいずれかに記載のメタン製造用する混合ガスの製造方法。
13
ガス化炉にフィッシャートロプッシュ合成装置が直結された装置を用いて、請求項1〜12のいずれかに記載の製造方法により得られる混合ガスを用いてジメチルエーテル、メタノール又はメタンを製造することを特徴とする混合ガスの製造方法。
本発明の混合ガスの製造方法においては、触媒と水蒸気と二酸化炭素とを組み合わせて用いることにより、650〜800℃(但し、650℃は除く)の低い温度であっても商業化が可能な速度で、水素と一酸化炭素を含有する混合ガスを製造することができ、低い温度で反応させるため、低エネルギーでの製造が可能である。また、モル比(H /CO比)が該設定温度と該体積比(H O/CO 比)により変化する特性を利用して、二酸化炭素に対する水蒸気の体積比(HO/CO比)を制御することにより得られる混合ガス中の一酸化炭素に対する水素のモル比(H/CO比)を制御することができ、触媒の種類、添加量により反応速度を制御することができる。この方法により、低い温度での1段触媒ガス化反応で、H/CO比を1近傍、2近傍、3近傍にすることができるので、ジメチルエーテル、メタノール、メタン製造用の混合ガスを1段階のガス化反応プロセスで得ることができる。
本発明においては、無灰石炭を用いることにより、触媒損失を小さく抑えることができるので、長時間の連続運転が可能である。
更に、これらの効果が組み合わされることにより、FT合成反応によるジメチルエーテル、メタノール、メタンの製造を一の装置で連続して製造できる。
図1(a)は、触媒存在下の無灰炭のガス化反応において、温度700℃の条件下、HO/CO比を100/0,70/30,60/40,50/50,30/70,0/100に変化させた場合における、ガス化時間(横軸)に対する、転換率(縦軸)を示すグラフである。図2(b)は、図2(a)に示す反応において得られたガスの組成を示すグラフである。 図2(a)は、触媒存在下の原炭のガス化反応において、温度700℃の条件下、HO/CO比を100/0,70/30,60/40,50/50,30/70,0/100に変化させた場合における、ガス化時間(横軸)に対する、転換率(縦軸)を示すグラフである。図2(b)は、図2(a)に示す反応において得られたガスの組成を示すグラフである。 図3(a)は、触媒存在下の無灰炭のガス化反応において、温度600℃の条件下、HO/CO比を100/0,50/50に変化させた場合における、ガス化時間(横軸)に対する、転換率(縦軸)を示すグラフである。図3(b)は、図3(a)に示す反応において得られたガスの組成を示すグラフである。 図4(a)は、触媒存在下の無灰炭のガス化反応において、温度800℃の条件下、HO/CO比を100/0,50/50に変化させた場合における、ガス化時間(横軸)に対する、転換率(縦軸)を示すグラフである。図4(b)は、図4(a)に示す反応において得られたガスの組成を示すグラフである。 図5(a)は、触媒存在下の無灰炭のガス化反応において、HO/CO比が100/0,50/50での、温度依存性(700℃、600℃)を示すグラフである。図5(b)は、図5(a)に示す反応において得られたガスの組成を示すグラフである。 図6(a)は、触媒の存在下、700℃での無灰炭のガス化反応における、HO/CO比(横軸)に対する得られたガスの組成(縦軸)を示すグラフである。図6(b)は、触媒の存在下、700℃での原炭のガス化反応における、HO/CO比(横軸)に対する得られたガスのH/CO比(縦軸)を示すグラフである。 図7(a)は、触媒の存在下、600℃での無灰炭のガス化反応における、HO/CO比(横軸)に対する得られたガスの組成(縦軸)を示すグラフである。図7(b)は、触媒の存在下、800℃での無灰炭についてのガス化反応における、HO/CO比(横軸)に対する得られたガスのH/CO比(縦軸)を示すグラフである。 図8(a)は、無灰炭及び原炭について、温度700℃の条件下、触媒を添加しない場合のガス化反応における、ガス化時間(横軸)に対する、転換率(縦軸)を示すグラフである。図8(b)は、図8(a)に示す反応において得られたガスの組成を示すグラフである。 本発明の混合ガス及び、ジメチルエーテル、メタノール、メタンの製造方法に用いる装置の例を示す図面である。
以下、本発明の混合ガスの製造方法について詳細に説明する。
本発明の触媒ガス化反応による混合ガスの製造方法においては、ガス化温度を600〜800℃とし、触媒の存在下、二酸化炭素及び/又は水蒸気からなるガス化剤を供給して石炭のガス化反応が行われる。更に、本発明においては後述するように、二酸化炭素に対する水蒸気の体積比(HO/CO比)を制御することにより、一酸化炭素に対する水素のモル比(H/CO比)の制御が行われる。
なお、水蒸気を供給しないと、熱分解だけが進行し、その結果多量のチャー(石炭残留分)、タール、ガスが生成し、メタン製造用の混合ガスを得ることはできない。
本発明におけるガス化温度は600〜800℃である。ガス化温度が低すぎると、商業化に必要な反応速度を維持できない虞がある。一方、ガス化温度が高すぎると、エネルギーを大量に消費しなければならならない上に、反応が速く進みすぎて生産効率が悪くなる虞がある。かかる観点から、その下限は650℃が好ましく、より好ましくは700℃である。またその上限は、750℃が好ましい。
但し、本発明においては、ガス化温度として650〜800℃(但し、650℃は除く)が選択される。
図1(a)に、パシール亜瀝青炭(炭素:72%)の無灰炭を用いて、触媒(40重量%の炭酸カリウム)の存在下、温度700℃において、二酸化炭素に対する水蒸気の体積比(HO/CO比)を100/0,70/30,60/40,50/50,30/70,0/100に変化させた場合におけるガス化反応速度を測定した結果を示す。横軸はガス化時間であり、縦軸は転換率である。なお、図1(b)に、前記の各々の場合における、得られた混合ガスの組成を示す。
また、 図3(a)に、パシール亜瀝青炭(炭素:72%)の無灰炭を用いて、触媒(40重量%の炭酸カリウム)の存在下、温度600℃、HO/CO比を100/0,50/50に変化させた場合におけるガス化反応を測定した結果を示す。なお、図3(b)に、前記の各々の場合における、得られた混合ガスの組成を示す。
また、 図4(a)に、パシール亜瀝青炭(炭素:72%)の無灰炭を用いて、温度800℃、触媒(40重量%の炭酸カリウム)の存在下、HO/CO比を100/0,50/50に変化させた場合におけるガス化反応を測定した結果を示す。なお、図4(b)に、前記の各々の場合における、得られた混合ガスの組成を示す。
図1(a)、図3(a)、図4(a)から、無灰炭に水素及び/又は二酸化炭素を供給することにより、600〜800℃、好ましくは650〜800℃、より好ましくは650〜750℃の温度範囲で一酸化炭素と水素の混合ガスを工業化可能な速度で得ることができることが判る。
また、図2(a)に、パシール亜瀝青炭(炭素:72%)の原炭を用いて、温度700℃、触媒の存在下、HO/CO比を100/0,70/30,60/40,50/50,30/70,0/100に変化させた場合におけるガス化反応を測定した結果を示す。図2(a)と図1(a)の対比から、触媒存在下、ガス化温度700℃では原炭、無灰炭のいずれの場合でも商業化が可能な速度で反応が起きていることがわかる。また、無灰炭の場合には、原炭に比べると反応速度が遅くなる傾向があり、また、無灰炭、原炭を問わず、水蒸気量が少なくなると反応速度が遅くなる傾向がある。しかし、いずれの場合も商業化が可能な反応速度は達成されている。
また、図1(a)、図3(a)、図4(a)の対比から、石炭の混合ガスへの転換速度(反応速度)は、ガス化温度が低くなると遅くなる傾向があり、二酸化炭素に対する水蒸気の供給量の体積比(HO/CO比)が小さくなると、転換速度(反応速度)が遅くなる傾向があることが判る。
参考として図5(a)、触媒の存在下、HO/CO比が100/0、50/50の場合について、ガス化温度が600℃、700℃の条件化における反応速度を示し、図1(b)に、前記の各々の場合における、得られた混合ガスの組成を示す。
なお、得られる混合ガスには二酸化炭素が含まれるが、それはガス化剤として使用した二酸化炭素の一部であり、原料である石炭のガス化により生成した二酸化炭素ではない。
ガス化温度を600〜800℃に維持する手段は、バッチ式や連続式などの反応方式を考慮することにより、適宜選定されるが、たとえば副生炭(抽出残渣)の燃焼熱などの外部熱源による加熱方法を採用することが好ましい。
また、昇温速度は特に制限はなく、例えば20〜1000℃/分であり、反応時間は、例えば1〜120分が好ましく、30〜60分が更に好ましい。
本発明のガス化反応は、好ましくは大気圧下で行われる。但し、本発明の目的を損なわない程度の圧力をかけることもできる。其の場合、製造装置の製造が容易であることから、10気圧以下が好ましく、順に5気圧以下、3気圧以下、2気圧以下、1.5気圧以下がより好ましい。
なお、本発明における大気圧とは、意図的に加圧しなくても、石炭から発生するガスが装置内部で急激に膨張することにより、加圧されることを含む意味である。
本発明においては、二酸化炭素に対する水蒸気の体積比(HO/CO比)を変化させることにより、得られる混合ガス中の一酸化炭素に対する水素のモル比(H/CO比)の制御を行うことができる。即ち、図1(b)、図2(b)、図3(b)、図4(b)に示されているように、原炭、無灰炭、ガス化温度にかかわらず、HO/CO比が小さくなると、得られる混合ガス中の水素の含有量が少なくなって、H/CO比が小さくなる傾向がある。例えば、700℃において、水蒸気/二酸化炭素比=100/0の時、ほとんどの生成ガスが水素であり、70/30,60/40,50/50,30/70と水蒸気量を少なくすると、得られる混合ガス中の水素の割合が減り、一酸化炭素が増える。そして、水蒸気/二酸化炭素比=0/100では、ほとんどの生成ガスが一酸化炭素となる。
この特性を利用することにより、ガス化剤中の水蒸気/二酸化炭素比(HO/CO比)を変化させることで、生成混合ガス中の水素/一酸化炭素比を制御(H/CO比)することが可能である。
図6に、ガス化温度700℃における、石炭に供給する水蒸気と二酸化炭素のHO/CO比(横軸)と、得られる混合ガスのH/CO比(縦軸)の関係を示す。図6(a)は無灰炭について前記図1(b)を基に作成したグラフであり、図6(b)は原炭について前記図2(b)を基に作成したグラフである。
図6(a)から無灰炭に供給する、二酸化炭素に対する水蒸気の体積比(HO/CO比)を変化させることにより、ガス化温度700℃において得られる混合ガス中の一酸化炭素に対する水素のモル比(H/CO比)を制御できることが判る。また、図6(a)と図6(b)の対比から、原炭、無灰炭共にHO/CO比の変化に対して、混合ガスのH/CO比が同じように変化することから、原炭についても、二酸化炭素に対する水蒸気の体積比(HO/CO比)を変化させることにより、得られる混合ガス中の一酸化炭素に対する水素のモル比(H/CO比)を制御できることが判る。
また、図7(a)に、ガス化温度600℃における、無灰炭に供給する水蒸気と二酸化炭素のHO/CO比(横軸)と、得られる混合ガスのH/CO比(縦軸)の関係を示す。図7(a)は前記図3(b)を基に作成したグラフである。図7(a)から、600℃においても、HO/CO比を100/0から50/50に変化させると、得られるガス中のH/CO比が49から3.1に大きく変化することから、HO/CO比を変化させることにより、得られる混合ガス中の一酸化炭素に対する水素のモル比(H/CO比)を制御できることが判る。
また、図7(b)に、ガス化温度800℃における、無灰炭に供給する水蒸気と二酸化炭素のHO/CO比(横軸)と、得られる混合ガスのH/CO比(縦軸)の関係を示す。図7(b)は前記図4(b)を基に作成したグラフである。図7(b)から、800℃においても、HO/CO比を100/0から50/50に変化させると、得られるガス中のH/CO比が8から1.7に大きく変化することから、HO/CO比を変化させることにより、得られる混合ガス中の一酸化炭素に対する水素のモル比(H/CO比)を制御できることが判る。
表1に、ガス化温度600℃、700℃、800℃の各温度において、ジメチルエーテル、メタノール、メタンを合成するために好適なH/CO比の範囲を示す。表1に示す関係を利用することにより、ジメチルエーテル合成用の混合ガス、メタノール合成用の混合ガス、メタン合成用の混合ガスを作り分けることができる。












具体的には、ガス化温度を600〜800℃の範囲内に設定し、二酸化炭素に対する水蒸気の体積比(HO/CO比)を、0.2〜0.8の範囲内でガス化温度に対応させて設定することにより、H/CO比が1近傍のジメチルエーテル合成用の混合ガスを製造することができる。
また、ガス化温度を600〜800℃の範囲内に設定し、二酸化炭素に対する水蒸気の体積比(HO/CO比)を、0.6〜1.4の範囲内でガス化温度に対応させて設定することにより、H/CO比が2近傍のメタノール合成用の混合ガスを製造することができる。
また、ガス化温度を600〜800℃の範囲内に設定し、二酸化炭素に対する水蒸気の体積比(HO/CO比)を、1.0〜2.0の範囲内でガス化温度に対応させて設定することにより、H/CO比が3近傍のメタン合成用の混合ガスを製造することができる。
本発明のガス化反応においては、原炭、無灰炭にかかわらず、触媒を用いて反応速度を制御することを要する。触媒を用いないと、商業化が可能な反応速度が達成されない。触媒としては石炭のガス化に用いられる触媒として従来知られているものを好適に用いることができ、特に限定されない。このような触媒としては、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム等が例示され、これらのうち、分散性と触媒活性の点からみて、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムが好ましく、さらに炭酸カリウムが好ましい。また、触媒使用量は、炭酸カリウムの場合には、無水無灰ベースの無灰炭量に対して、6〜50重量%とすることが好ましく、より好ましくは10〜40重量%である。
触媒を用いないと、ガス化反応が遅くなるので、商業化が困難になる。反応が遅くなる例を図8に示す。図8(a)は、反応温度700℃で、触媒を添加することなく、原炭についてはHO/CO比=100/0,50/50,0/100の条件下、無灰炭に対して、HO/CO比=100/0,50/50,0/100の条件下における反応速度を示すグラフである。また、図7(b)は、図7(a)の各々の場合における得られた混合ガスの組成を示すグラフである。
図8から、触媒を添加しないと、原炭、無灰炭ともガス化速度が遅くなり、90分経っても転換率が20%程度であることから、商業化が可能な反応速度が達成できないことが判る。
本発明の触媒ガス化反応においては、無灰炭を原料として、触媒の失活を防ぐことにより(触媒損失を小さくする)、長時間にわたる連続運転が可能となる。無灰炭は、亜瀝青炭や褐炭などの埋蔵量が豊富な低品位炭から得ることができ、これらの低品位炭から得られる無灰炭は、高品位炭に比べて価格が安いものである。
本発明で用いる無灰石炭とは、有機溶剤を用いた溶剤抽出法により脱灰することにより得られたものであり、ハイパーコールとも呼ばれる。無灰石炭は鉱物質をほとんど含有しないため、触媒ガス化反応において触媒を被毒することがないので触媒の失活を防ぐことができる。
次に、無灰石炭の製造方法の一例を示す。
まず、原炭に2〜3倍量の溶剤を混合し石炭スラリーを調製する。溶剤としては2環芳香族が好適に用いられ、具体的には、1−メチルナフタレン、粗メチルナフタレン油等が用いられる。この石炭スラリーは150℃程度で脱水された後、昇温昇圧されて溶剤抽出工程へ送液される。該石炭スラリーは溶媒抽出工程で360〜400℃程度に加熱され、これにより一部の石炭が溶剤に溶解する。次いで固液分離工程へ送られ、固形分をほとんど含まないオーバーフローと固形分が濃縮されたアンダーフローとに分けられる。オーバーフロー液からさらに溶剤を回収することにより無灰石炭(ハイパーコール)を得ることができる。回収された溶剤は、循環使用される。
本発明においては、無灰石炭として、亜瀝青炭または褐炭由来のものを用いることが好ましい。
ここで、亜瀝青炭とは、一般に、可燃分:55〜80%、水分:15〜45%からなる組成を有する低品位炭を意味する。このような亜瀝青炭としては、たとえば、パシール炭、ワイオミング炭、グニュンバヤン炭、MTBU炭、キタディン炭、ビニュンガン炭、ワイオダック炭、ロンコウ炭、K−プリマ炭、タニトハルム炭、マリナウ炭、太平洋炭が例示される。
また、褐炭とは、一般に、可燃分:35〜55%、水分:45〜65%からなる組成を有する低品位炭を意味する。このような褐炭としては、たとえば、ムリア炭、ロイヤング炭, ビューローザップ炭、ヤルーン炭、アダロ炭、ベラウ炭が例示される。
本発明で用いる亜瀝青炭または褐炭由来の無灰炭の製造例を原炭としてパシール炭を用いた場合を例にとり、具体的に説明する。
溶剤としては2環芳香族が好適に用いられ、具体的には、1−メチルナフタレン、ライトサイクルオイル、粗メチルナフタレン油等が用いられる。まず石炭を抽出セルに詰め、溶剤を送液ポンプで一定流量で流しながら、予熱部で360〜400℃に加熱し、これを抽出セルに1時間流すことにより、一部の石炭が溶剤に溶解する。次いで抽出セルの入口と出口には、平均孔径0.5μmの焼結フィルターを取り付け、出口のフィルターで固液分離を行なうことにより、抽出物が抽出液として回収される。その後抽出液から溶剤を回収することで、無灰炭が得られる。
このようなパシール炭由来等の無灰炭は、原炭に比べて炭素含有量が高く、酸素および水分含有量が低い。また、灰分は0.02%〜0.1%で、原炭に比べて約1.5倍の熱量を有し、すべて高い燃焼性と流動性を示す。さらには、鉱物質をほとんど含有しないため、触媒ガス化において触媒を被毒することがなく触媒の失活を防ぐことができる。
水蒸気と二酸化炭素(ガス化剤)を供給しながら連続的にガス化反応させる方法としては、前記無灰炭と触媒とを混合し、それらを流動層ガス化炉内へ供給して、水蒸気と二酸化炭素(ガス化剤)と熱風とを供給しながら前記無灰炭と前記触媒とをよく接触させ、発生した気体と残存する石炭残留物とから気体を分離する方法が好ましく挙げられる。水蒸気と二酸化炭素と熱風とを供給することにより、無灰炭を細粒化し流動化状態にして(水蒸気と二酸化炭素と熱風とが流動化剤としても働く)ガス化を行うことができ、効率的にガス化反応を起こすことができる。このような反応に用いる装置の例を図9に示す。図9に示す装置においては、ガス化プロセスで製造された二酸化炭素を回収し、水蒸気・二酸化炭素混合器4に供給して再利用するので、二酸化炭素の製造プロセスは不要である。
図9において、1はボイラーを、2はフィーダーを、3はガス化炉を、4は水蒸気・二酸化炭素混合器を、5は熱交換器を、6は生成ガスクリーニング装置を、7は触媒回収器を、8はコンプレッサーを、9はFT合成装置をそれぞれ示す。
なお、原炭を用いても連続的にガス化反応させることはできるが、触媒が劣化することから、触媒を補填しなければならないので、経済的に不利になる。但し、低灰分の原炭を使用すれば、補填に必要な触媒量は抑えられるため、経済的なガス化反応が可能となる。
本発明においては、図9に一例を示すように、ガス化炉にコンプレッサーを介してフィッシャートロプッシュ(FT)合成装置が直結された装置を用いて、前記触媒ガス化反応により得られる混合ガスから、ジメチルエーテルや、メタノールや、メタンを製造することが好ましい。このようにすると、1段の触媒ガス化反応で得られた混合ガスを用いて、直ちにFT反応が行われるので、ジメチルエーテルや、メタノールや、メタンを効率良く製造することができる。
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。但し、本発明は実施例に限定されるものではない。
実施例1〜6
パシール亜瀝青炭(炭素:72%)の溶剤抽出によりその無灰炭(HPC)を製造した。
得られた無灰炭を試料とし、大気圧下、40重量%の炭酸カリウム(触媒)を添加し、水蒸気/二酸化炭素を供給して、HO/CO比=100/0,70/30,60/40,50/50,30/70,0/100の条件下、TGAを用いたガス化試験を700℃で行った。結果を、図1に示す。
なお、同じ触媒を用いて2〜4回目の反応を行っても、1回目と同様の速度で反応が起きた。
実施例7〜12
無灰炭の代わりにパシール亜瀝青炭(炭素:72%)の原炭を用いた他は、実施例1〜6と同様に、HO/CO比=100/0,70/30,60/40,50/50,30/70,0/100の条件下、TGAを用いたガス化試験を700℃で行った。結果を、図2に示す。
なお、同じ触媒を用いて2回目の反応を行うと、反応速度は減少してしまった。
実施例1〜6の結果を基に、使用したガス化剤の水蒸気/二酸化炭素比に対する、無灰炭における生成混合ガスの水素/一酸化炭素比を図6(a)に示す。また、実施例7〜12の結果を基に、使用したガス化剤の水蒸気/二酸化炭素比に対する、原炭における生成混合ガスの水素/一酸化炭素比を図6(b)に示す。原炭を原料とした場合(図6(b))、HO/CO比(体積比)を100/0,70/30,60/40,50/50,30/70,0/100に設定すると、H/CO比が29,4.4,2.8,2.1,1.0,0.1となった。一方、無灰炭を原料とした場合(図6(a))、それぞれ27,5.0,3.2,2.5,1.3,0.1となった。
図6(a)(b)から、700℃のガス化反応において、ガス化剤として水蒸気/二酸化炭素を用いてその割合を変化させることで、一段階のガス化反応で水素/一酸化炭素比=1〜5の合成ガスが製造できることが判る。ここで水素/一酸化炭素比=1、2、3の合成ガスを製造すれば、それぞれの混合ガスが、DME、メタノール、メタンの製用のFT合成プロセスの原料として利用可能である。
参考実施例13、14
実施例1、4で用いた無灰炭を用いて、HO/CO比を100/0,50/50とし、反応温度を600℃に設定した他は、実施例1、4と同様に、TGAを用いたガス化試験を600℃で行った。結果を図3、図7(a)に示す。
図3(a)から、600℃でも商業化が可能な速度で石炭のガス化反応が起きること、図7(a)から600℃においてもガス化剤の水蒸気/二酸化炭素比を変化させることで生成ガス水素/一酸化炭素比を制御できることが判る。
実施例15、16
実施例1、4で用いた無灰炭を用いて、HO/CO比を100/0,50/50とし、反応温度を800℃に設定した他は、実施例1、4と同様に、TGAを用いたガス化試験を800℃で行った。結果を図4、図7(b)に示す。
図4(a)から、600℃でも商業化が可能な速度で石炭のガス化反応が起きること、図7(b)から800℃においてもガス化剤の水蒸気/二酸化炭素比を変化させることで生成ガス水素/一酸化炭素比を制御できることが判る。
比較例1、2、3
前記無灰炭を用いて、触媒を添加しない他は、実施例1(HO/CO比=100/0)、実施例4(HO/CO比=50/50)、実施例6(HO/CO比=0/100)と同様に、TGAを用いたガス化試験を700℃で行った。結果を、図5に示す。
比較例4、5、6
前記パシール亜瀝青炭(炭素:72%)の原炭を用いて、触媒を添加しない他は、実施例7(HO/CO比=100/0)、実施例10(HO/CO比=50/50)、実施例12(HO/CO比=0/100)と同様に、TGAを用いたガス化試験を700℃で行った。結果を、図8に示す。
図8から、触媒を添加しないと、原炭、無灰炭にかかわらず、700℃の反応ではガス化反応速度がかなり遅くなり、商業化できないことが判る。
1 ボイラー
2 フィーダー
3 ガス化炉
4 水蒸気・二酸化炭素混合器
5 熱交換器
6 生成ガスクリーニング装置
7 触媒回収器
8 コンプレッサー
9 FT合成装置

Claims (13)

  1. 石炭の触媒ガス化反応による混合ガスの製造方法において、ガス化温度を650〜800℃(但し、650℃は除く)に設定し、触媒の存在下、二酸化炭素及び/又は水蒸気を供給すると共に、二酸化炭素に対する水蒸気の体積比(HO/CO比)を制御することにより、得られる混合ガス中の一酸化炭素に対する水素のモル比(H/CO比)を制御し、更に、該モル比(H /CO比)が該設定温度と該体積比(H O/CO 比)により変化する特性を利用して該モル比(H /CO比)を制御することを特徴とする混合ガスの製造方法。
  2. 前記モル比(H /CO比)が該設定温度と該体積比(H O/CO 比)により変化する特性が、温度一定で体積比(H O/CO 比)を大きくするとモル比(H /CO比)が大きくなり、体積比(H O/CO 比)一定で温度を高くするとモル比(H /CO比)が小さくなる特性であることを特徴とする請求項1に記載の混合ガスの製造方法。
  3. 大気圧下で触媒ガス化反応を行わせることを特徴とする請求項1又は2に記載の混合ガスの製造方法。
  4. ガス化温度を700〜800℃の範囲内に設定し、二酸化炭素に対する水蒸気の体積比(HO/CO比)を、0.2〜0.8の範囲内でガス化温度に対応させて設定することにより、ジメチルエーテル合成用の混合ガスを製造する請求項1〜3のいずれかに記載の混合ガスの製造方法。
  5. ガス化温度を700〜800℃の範囲内に設定し、二酸化炭素に対する水蒸気の体積比(HO/CO比)を、0.6〜1.4の範囲内でガス化温度に対応させて設定することにより、メタノール合成用の混合ガスを製造する請求項1〜3のいずれかに記載の混合ガスの製造方法。
  6. ガス化温度を700〜800℃の範囲内に設定し、二酸化炭素に対する水蒸気の体積比(HO/CO比)を、1.0〜2.0の範囲内でガス化温度に対応させて設定することにより、メタン合成用の混合ガスを製造する請求項1〜3のいずれかに記載の混合ガスの製造方法。
  7. 触媒の種類、量により反応速度を調整することを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の混合ガスの製造方法。
  8. 触媒が炭酸カリウムであり、その石炭に対する添加量が6〜50重量%であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の混合ガスの製造方法。
  9. 亜瀝青炭又は褐炭由来の無灰炭を用いることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の混合ガスの製造方法。
  10. 亜瀝青炭がパシール炭であることを特徴とする請求項に記載のメタン製造用混合ガスの製造方法。
  11. 褐炭がムリア炭であることを特徴とする請求項に記載のメタン製造用混合ガスの製造方法。
  12. 石炭と触媒とを混合し、それらを炉内へ供給して水蒸気及び二酸化炭素と接触させ、発生した気体と残存する石炭残留物とから気体を分離することを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の混合ガスの製造方法。
  13. ガス化炉にフィッシャートロプッシュ合成装置が直結された装置を用いて、請求項1〜12のいずれかに記載の製造方法により得られる混合ガスを用いてジメチルエーテル、メタノール又はメタンを製造することを特徴とする混合ガスの製造方法。
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